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Ar 80とは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 アラド Ar 80 (Arado Ar 80) は第二次世界大戦前にドイツのアラド社が試作した戦闘機である。
「Ar 80」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
In an embodiment, a plasma is generated from a gas mixture containing about 100 to about 250 sccm of argon(Ar), about 100 to about 500 sccm of nitrogen(N2) and about 10 to about 80 sccm of silane(SiH4), thereby depositing silicon nitride.例文帳に追加
1つの実施態様では、約100〜約250 sccmのアルゴン(Ar)、約100〜約500 sccmの窒素(N_2)、および約10〜約80 sccmのシラン(SiH_4)を含むガス混合物からプラズマを形成することにより窒化珪素を堆積する。 - 特許庁
In etching the SiOC based low permittivity film using a C_4F_8/Ar/ N_2 based mixture gas, flow rate ratio of Ar is set at 80% or above.例文帳に追加
C_4F_8/Ar/N_2系混合ガスを用いてSiOC系低誘電率膜をエッチングする場合、Arの流量比を80%以上とする。 - 特許庁
In deposition of the granular magnetic layer 3, the gas prepared by adding 50 to 80% Ne to Ar is used as a deposition atmosphere.例文帳に追加
グラニュラー磁性層3の成膜の際に、Arに50%以上80%以下のNeを添加したガスを成膜雰囲気として使用する。 - 特許庁
The rare gas is a gaseous mixture composed of Ne and Ar having a ratio of Ne of ≥80% and the sealing pressure into the light emitting tube 4 is ≥40 to ≤200 Torr.例文帳に追加
希ガスはNeの比率が80%以上のNeとArの混合ガスであり、発光管4内の封入圧が40torr以上200torr以下である。 - 特許庁
After that, the film around 300 nm thick is further deposited by using WF_6: 75 sccm and H_2: 500 sccm as the reaction gas in an atmosphere of Ar, N_2: 80 Torr.例文帳に追加
その後、Ar,N_2:80Torrの雰囲気中で、反応ガスとして、WF_6:75sccm、H_2:500sccmを用いて、300nm程度の膜厚を積層する。 - 特許庁
Because a diffusion preventing wall 80 is formed between the sealant 71 and the liquid crystal 50 in a pixel region Ar, the sealant component 71a having diffused into the liquid crystal 50 diffuses only as far as to a position of the diffusion preventing wall 80 and does not diffuse into the liquid crystal 50 in the pixel region (the display region) Ar.例文帳に追加
このとき、シール剤71と画素領域Arにおける液晶50との間には、拡散防止壁80が形成されていることから、液晶50内に拡散したシール剤成分71aは、拡散防止壁80の位置までしか拡散することはできず、画素領域(表示領域)Arにおける液晶50中まで拡散することはない。 - 特許庁
The light receiving section 72A and the light projecting section 71A are disposed such that the measuring light 80 obliquely crosses with the moving direction (the arrow AR) of the leaf spring 41 that moves between the light receiving section 72A and the light projecting section 71A.例文帳に追加
受光部72Aおよび投光部71Aは、受光部72Aおよび投光部71Aの間で移動する板ばね部41の移動方向(矢印AR)に対して、測定光80が斜めに交差するように配置される。 - 特許庁
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「Ar 80」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
A position detecting device 70 for detecting a position of a leaf spring 41 (a measuring object) moving in a prescribed moving direction (an arrow AR) includes: a light receiving section 72A; and a light projecting section 71A facing the light receiving section 72A and projecting measuring light 80 to the light receiving section 72A.例文帳に追加
所定の移動方向(矢印AR)に移動する板ばね部41(被測定物)の位置を検出する位置検出装置70は、受光部72Aと、受光部72Aに対向し受光部72Aに向けて測定光80を投光する投光部71Aとを備える。 - 特許庁
The titanium material can be obtained by ≤80 g/l the concentration of nitric acid in an aqueous solution of nitric-hydrofluoric acid dissolving titanium or performing heating treatment at 300 to 900°C in a vacuum or in the atmosphere of inert gas such as Ar and He after its dissolution with the aqueous solution of nitric-hydrofluoric acid.例文帳に追加
このようなチタン材は、チタンを溶解する硝フッ酸水溶液の硝酸濃度を80g/l以下と低くするか、或いは硝フッ酸水溶液で溶解した後に真空或いはAr,Heなど不活性ガス雰囲気中にて300〜900℃に加熱処理することにより得られる。 - 特許庁
The cool-down step is a process wherein Ar gas of the flow rate of 400-800 sccm is introduced into the plasma etching device for 80 seconds or more, and the pressure in the etching device is made at 200-300 mTorr, and high-frequency voltage of 150 W or less is applied to an upper electrode and a lower electrode, respectively.例文帳に追加
クールダウンステップは、プラズマエッチング装置内に400sccm以上800sccm以下の流量のArガスを80秒間以上導入し、エッチング装置内の圧力を200mTorr以上300mTorr以下にし、上部電極及び下部電極それぞれに150W以下の高周波電圧を印加する工程である。 - 特許庁
In the testing device for the safety evaluation testing method, a nail penetration test for an Li ion battery unit 3 is carried out within a container 2 for nail penetration, the container being filled with Ar gas, the gas generated in the Li ion battery unit 3 during this nail penetration test is accumulated within the container 2 for nail penetration, and the gas is moved from the container 2 for nail penetration to a buffer tank 80 through piping 70.例文帳に追加
Arガスを満たした釘刺し用容器2内でLiイオン電池ユニット3の釘刺し試験を行ない、この釘刺し試験中にLiイオン電池ユニット3から発生したガスが釘刺し用容器2内に蓄積されるとともに、釘刺し用容器2から配管70を通ってバッファタンク80にも移動されるように構成されていることを特徴とする。 - 特許庁
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