negative ion beamsとは 意味・読み方・使い方

To provide a negative ion beam forming method efficiently forming negative ion beams at a low cost, a negative ion beam forming device utilizing the method, a negative ion beam implanting device, and a propulsion unit for space movement.例文帳に追加

低コストで、かつ、効率よく負イオンビームを生成できる負イオンビーム生成方法及びその方法を利用した、負イオンビーム生成装置、負イオンビーム打込み装置及び宇宙空間移動用推進装置を提供する。 - 特許庁

Positive ion beam generated by a positive ion source 1 and negative ion beam generated by negative ion source 2 are accelerated together at the same time in front stage accelerators 4, 5, and then the accelerated positive and negative ion beams are commonly utilized in irradiation equipment for RI manufacturing and an accelerator system 9.例文帳に追加

正イオン源１により生成した正イオンビームと負イオン源２により生成した負イオンビームとを前段加速器４，５において同時に加速し、前段加速器４，５によって加速された正イオンビーム及び負イオンビームをＲＩ製造用照射装置８と加速器システム９とで共用する。 - 特許庁

To provide a highly efficient and reliable negative ion source which suppresses generated quantity of accelerated electrons, generates high-energy negative ion beams, and allows the high-energy and long-distance transport by imparting favorably converged beams.例文帳に追加

加速電子の発生量を抑制して高エネルギの負イオンビームを生成するとともに、このビームに良好な収束性を付与して高エネルギで長距離の輸送が可能な、高い効率と信頼性を有する負イオン源を提供する。 - 特許庁

When a cusped magnetic field 6 is generated by magnets 4-1 to 4-8 to generate ion beams, a first negative voltage is applied to a negative electrode 2, and a second negative voltage having an absolute value smaller than that of the first negative voltage is applied to a positive electrode 3, the neutron bundle is generated by a nuclear fusion reaction among the ion beams.例文帳に追加

磁石４−１〜４−８によってカスプ磁界６が発生してイオンビームが生成され、陰極２に第１の負電圧が印加されるとともに、陽極３に、絶対値が第１の負電圧より小さい第２の負電圧が印加されると、イオンビーム同士の核融合反応によって、中性子束が生成される。 - 特許庁

To provide a picture frame for a photograph or a picture to generate hydrogen negative ion beams from a transparent surface plate to demonstrate practical, decorative, and artistic performance.例文帳に追加

透明表面板から水素マイナスイオンビ−ムを発生させ、実用性と装飾性、芸術性を両立させる写真、絵画等の額縁の提供。 - 特許庁

To provide a beam source and a beam treatment device capable of uniformly irradiating various beams like positive ion, negative ion, neutral particles or the like in a large diameter on a treated object and realizing charge-free and damage-free properties.例文帳に追加

正イオン、負イオン、中性粒子等の各種のビームを大口径で均一に被処理物に照射することができるビーム源及びこれらのビーム源を用いて被処理物を処理するビーム処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a beam source and a beam treatment device capable of irradiating various beams like positive ion, negative ion, neutral particles or the like in a large diameter uniformly on a treated object and realizing charge-free and damage-free properties.例文帳に追加

正イオン、負イオン、中性粒子等の各種のビームを大口径で均一に被処理物に照射することができると共に、チャージフリー且つダメージフリーを実現するビーム源及びビーム処理装置を提供する。 - 特許庁