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photo dimensionとは 意味・読み方・使い方
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Weblio例文辞書での「photo dimension」に類似した例文 |
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photo dimension
of a photograph, the intensity of contrast
trim the photograph
立体映画.
a facility for developing photographs, called a laboratory
a vignette
写真をのす
the size of a photograph, called cabinet photograph
「photo dimension」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
To provide a photo sensor system provided with a photo sensor array consisting of photo sensors arranged in two-dimension that can reduce a time required for read processing of an object image and to provide a drive control method for the photo sensors in the photo sensor system.例文帳に追加
フォトセンサを２次元配列して構成されるフォトセンサアレイを備えたフォトセンサシステムにおいて、被写体画像の読み取り処理に要する時間を短縮することができるフォトセンサシステム及びそのフォトセンサシステムにおけるフォトセンサの駆動制御方法を提供する。 - 特許庁
To provide an X-ray image intensifier of a simple, small and light construction capable of suppressing its dimension in the advancing direction of a photo-electron image.例文帳に追加
光電子像の進行方向に短尺化が可能で、簡易構造かつ、小型軽量なＸ線イメージインテンシファイアを実現する。 - 特許庁
To provide a composite magnetic head with satisfied reproducibility having the fine recording track width without being restricted in the resolving dimension of photo-lithographic technology.例文帳に追加
フォトリソグラフィー技術の解像寸法制限を受けること無く、微細な記録トラック幅を持つ複合型磁気ヘッドを再現性良く提供する。 - 特許庁
To provide a dimension discriminating device and method using a light receiving device of an inexpensive structure instead of a photo-array sensor and a line-type CCD sensor.例文帳に追加
フォトアレイセンサやライン型ＣＣＤセンサに代わる安価な構造の受光デバイスを用いた寸法判別装置および寸法判別方法を提供する。 - 特許庁
The roof face drawing generation device 1 includes a photo shooting means 11, an overhead location photo shooting means 12, a shape dimension output means 13, a drawing generation means 14, a roof gradient output means 15 and a roof area output means 16.例文帳に追加
屋根面の図面作成装置１は、撮影手段１１、高所撮影手段１２、形状寸法出力手段１３、図面作成手段１４、屋根勾配出力手段１５および屋根面積出力手段１６を有する。 - 特許庁
To provide a production method for photo mask, with which desired dimension or position accuracy is provided with high yield in respect to the mask patterns of different intra-plane apertures or pattern densities.例文帳に追加
面内の開口率やパターン密度が異なるマスクパターンに対して、収率良く所望の寸法精度や位置精度を得るフォトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁
By the above method, the writing track is determined by the film thickness of a magnetic film forming the pole part of the recording head, independently of the resolving minimum dimension of the photo-lithography of a long wavelength light source.例文帳に追加
以上の手法により長波長光源のフォトリソグラフィーの解像最小寸法によらず、記録ヘッドのポール部を形成する磁性膜の膜厚により書き込みトラックを決めることが可能となる。 - 特許庁
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「photo dimension」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
The contact hole 4 can be surely opened without depending on an exposure condition of an exposure machine of a mirror projection system such as a scanning speed by specifying a design dimension for opening the used photo mask to be 4 μm or more.例文帳に追加
使用するフォトマスクの開口設計寸法を４μｍ以上とすることにより、ミラープロジェクション方式の露光機の露光条件例えばスキャンスピードに依存することなく、確実にコンタクトホール４を開口させることができる。 - 特許庁
As a result, the reflection type photo interrupter 1 can be installed without need for much labor for harness routing by the insertion from condenser lens 6, 7 if there is a room for the external dimension of a case 2, thus enabling installation with much space saving.例文帳に追加
それにより、反射型フォトインタラプタ１は、ケース２の外形分のスペースさえあれば、そこに集光レンズ６，７側から挿入してハーネスの配回しに苦慮することなしに、それを設置することができるので、省スペースでの設置が可能になる。 - 特許庁
In a semiconductor manufacturing process, an organic reflection preventing film provides selectivity for a lower layer and/or minimizes the etching speed in the lateral direction of photoresist of an upper layer which maintains a critical dimension determined by a photo resist.例文帳に追加
半導体製造プロセスであって、このプロセスは、有機反射防止膜が、下層に対して選択性を与え、及び／又は、フォトレジストによって定められるクリティカルディメンジョンを維持する上層のフォトレジストの横方向のエッチング速度を最小化する。 - 特許庁
To provide an apparatus and method for inspecting irregularity of a periodic pattern that accurately images and detects the irregularity caused by dimension shift and position shift of several nm order in the periodic pattern, especially in an inspecting object such as a photo-mask for a CCD/CMOS imager where the directivity of the cell pitch or pattern varies.例文帳に追加
周期性のあるパターン、特にＣＣＤ／ＣＭＯＳイメージャー用フォトマスクのようにセルピッチやパターンの方向性が多岐にわたるような被検査体に対し、数ｎｍオーダーの寸法ズレや位置ズレによって生じるムラを高精度に撮像、検出可能な周期性パターンのムラ検査装置、および方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for detecting failure of database patterns of a photomask in which different space widths are applied according to critical dimensions of lines of the patterns of the photo mask to detect patterning failure varied according to illuminating systems, sub-films and thicknesses of resist, and to preliminarily detect failure, such as collapse or bridges, generated from the different lengths of pattern lines having the same critical dimension.例文帳に追加
フォトマスクパターンのライン臨界大きさ別に差等的なスペース幅を適用することで、照明系、サブ膜、レジスト厚さなどによって変わるパターニング不良を検査することができ、同一の臨界大きさを有するが、パターンラインの相異なる長さにより発生する崩れまたはブリッジなどの不良を予め検査できるフォトマスクデータベースパターンの不良検査方法を提供する。 - 特許庁
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