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planarizesとは 意味・読み方・使い方
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「planarizes」を含む例文一覧
該当件数 : 17件
When it sucks and planarizes the PEM 10, the vacuum 60 stops sucking.例文帳に追加
このように吸着してＰＥＭ１０を平坦化すると、バキューム６０は吸引を停止する。 - 特許庁
The glass substrate 3 is provided with a color filter layer 5, wherein the surface of the color filter layer 5 is covered with a planarizing layer 6 made of a material which planarizes the surface.例文帳に追加
ガラス基板３には、カラーフィルタ層５が設けられ、カラーフィルタ層５の表面は、該表面を平坦にする材料からなる平坦化層６で覆われている。 - 特許庁
To provide an abrasive and a polishing method which enable high speed polishing and a high planarizing in a CMP technology, which planarizes an interlayer insulation film, and a shallow trench isolating an insulation film.例文帳に追加
層間絶縁膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、高速研磨と高平坦化を可能にする研磨剤および研磨法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming an insulating film which planarizes the shape of interface of silicon and an insulating film extremely when the insulating film is formed by CVD.例文帳に追加
ＣＶＤ法によって絶縁膜を形成する場合に、シリコンと絶縁膜との界面の形状を極めて平坦化することが可能な絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
A heating element on the planarizing plate planarizes protrusive portions of the outer surface of the dielectric layer to form a flat outer surface on the dielectric layer.例文帳に追加
平坦化プレートにおける加熱要素が誘電体層の外部表面の突出した部分を平坦化させて誘電体層上に平坦な外部表面を形成する。 - 特許庁
To provide a planarization apparatus that thins and planarizes a substrate by grinding and polishing the rear surface of the substrate with high throughput, and that fabricates a semiconductor substrate with reduced adhered contaminants.例文帳に追加
半導体基板裏面を高スループットで研削、研磨加工し、基板を薄肉化・平坦化することができる異物の付着が少ない半導体基板を製造する平坦化加工装置の提供。 - 特許庁
To provide a system for electrochemical mechanical polishing of semiconductor wafers, which uniformly planarizes workpiece surfaces and removes excess conductive films from them without causing damage to and defects on wafers made of low-k materials.例文帳に追加
低誘電率材料のウエハ上に損傷及び欠陥を引き起こさずにワークピース表面を均一に平坦化し、過剰な導電性皮膜を除去する半導体ウェハの電気化学機械研磨のためのシステムを提供する。 - 特許庁
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「planarizes」を含む例文一覧
該当件数 : 17件
The planarization method for the polysilicon includes a process that forms the polysilicon on the surface of a substrate, a process that reduces the roughness of the surface by etching, and a process that planarizes the polysilicon surface by laser-annealing.例文帳に追加
基板の表面にポリシリコンを形成する工程、エッチングにより表面粗さを減少させる工程、および該ポリシリコン表面をレーザーアニールにより平坦化する工程からなるポリシリコンの平坦化方法である。 - 特許庁
The color filter manufacturing method is provided with a formed layer made of the color photosensitive resin composition and next planarizes the layer by pressing and then forms the color part by photolithography.例文帳に追加
本発明は着色感光性樹脂組成物の層を形成し、次にプレスして該層を平坦化してからフォトリソグラフィによって着色部を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a yoke for a rotating electric machine which stably planarizes the surface roughness of a bearing surface, by surely draining the press oil used at press working time outside and which is less apt to cause fluctuations of the characteristics.例文帳に追加
プレス加工時に使用するプレス油を外部に確実に排出させて軸受面の表面粗度を安定して平滑化できるようにし、特性にばらつきが生じ難い回転電機用ヨークの製造方法を提供する。 - 特許庁
Further, the resin film 11 planarizes the surface roughness of the interlayer insulating film 10, preventing alignment failure of liquid crystal molecules and alignment failure due to an non-uniform electric field, and inhibiting minute defects of the light emitting device caused by the surface roughness of the pixel electrode 12.例文帳に追加
さらに、樹脂膜１１は層間絶縁膜１０の表面荒れを平坦化し、液晶分子の配向不良や不均一電界による液晶分子の配向不良を防ぎ、画素電極１２の表面荒れに起因する発光装置の微小欠陥を抑制することができる。 - 特許庁
To provide an abrasive composition easily improving film thickness uniformity of, for example, silicon oxide after polishing according to CMP technique which planarizes an interlayer dielectric insulating film, a BPSG film, an insulating film for shallow trench separation; and to provide a method for polishing a substrate using the same.例文帳に追加
層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、酸化珪素膜等の研磨後の膜厚均一性向上を容易に行うことができる、研磨剤組成物及びこの研磨剤組成物を用いた基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a solar cell that planarizes a substrate surface to be soldered to an electrode substrate for fully securing conductivity, and at the same time preventing void or solder fatigue from occurring frequently, in a method for manufacturing a solar cell that is made of a silicon substrate with a double-layer metal structure.例文帳に追加
２層金属構造を備えた珪素基板からなるソーラーセルの製造方法であって、電極基板に半田付けされるべき基板表面が平坦化されて導電性が十分に確保されると共に、ボイドあるいは半田疲労が発生することが少ないソーラーセルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a solar cell that planarizes a substrate surface to be soldered to an electrode substrate for fully securing conductivity, and at the same time, preventing voids or solder fatigue from occurring frequently, in a method for manufacturing a solar cell that is made of a silicon substrate with a double-layer metal structure.例文帳に追加
２層金属構造を備えた珪素基板からなるソーラーセルの製造方法であって、電極基板に半田付けされるべき基板表面が平坦化されて導電性が十分に確保されると共に、ボイドあるいは半田疲労が発生することが少ないソーラーセルの製造方法を提供する。 - 特許庁
The apparatus for planarizing the electrode posts 14 of the wafer level package manufactured by screen printing is characterized in that the apparatus equalizes the heights of the electrode posts 14 made of the metal paste and planarizes the tip portions of the electrode posts 14 by using a planarization processing member 15.例文帳に追加
スクリーン印刷にて製造されるウェハレベルパッケージの電極ポスト１４を平坦化する平坦化装置であって、平坦化処理部材１５を用いて、金属ペーストで形成される電極ポスト１４の高さを均一化し且つ前記電極ポスト１４の先端部を平坦化することを特徴とする電極ポスト平坦化装置である。 - 特許庁
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