reduction reticleとは 意味・読み方・使い方

To provide a reticle to be used for reduction projection exposure of a wafer, wherein a pattern excellent in dimensional uniformity can be formed.例文帳に追加

縮小投影のウエハ露光に用いるレチクルに関し、寸法均一性の良いパターンを形成できるレチクルを提供する。 - 特許庁

To obtain a reticle for semiconductor production by which transfer in a simple process and in a short time and reduction of the chip size are realized.例文帳に追加

簡単な工程でしかも短時間に転写可能で、しかも、チップサイズを小型化出来る半導体製造用のレチクルを提供する。 - 特許庁

A method is provided to reduce differences between the way in which reticle holding forces and gravity force act upon the reticle during use and during assembly of the pellicle, and to combine this with a similar reduction concerning pellicle holding forces and gravity force acting upon the pellicle during bonding to the reticle and during quality control of the pellicle.例文帳に追加

表皮部材の使用中と組立中にレチクル把持力および重力がレチクルに作用する方法の違いを減少させ、これを、レチクルに接合する間、および、表皮部材の品質管理を行なう間に、表皮部材に作用する表皮部材の把持力と重力に関する同様な違いの減少と組み合わせる方法が提供される。 - 特許庁

Then a working reticle 34 is produced by reducing and transferring of the parent patterns of these two groups of the master reticles on the substrate by superposing the same while connecting screens by using an optical reduction stepper of 1/α reduction rate.例文帳に追加

これら２組のマスターレチクルの親パターンを、縮小倍率が１／α倍の光学式の縮小投影型露光装置を用いて、画面継ぎを行いながら基板上に重ね合わせて縮小転写することによってワーキングレチクル３４を製造する。 - 特許庁

Advantageously, such a beam splitter plate is used in the position of a deflection mirror in the reduction lens, and in this case only a refraction component is placed between the beam splitter plate and the reflection reticle.例文帳に追加

有利には、このようなビームスプリッタプレートは縮小レンズの内部の偏向鏡の位置で使用され、その際ビームスプリッタプレートと反射レチクルの間に屈折成分のみが設置されている。 - 特許庁

This photomask is a photomask of a 4-times reticle used at the time of transfer of wiring patterns on a wafer by a reduction stepper and has plural pieces of the mask patterns 10 in series and parallel.例文帳に追加

本フォトマスクは、縮小投影式露光装置によりウエハ上に配線パターンを転写する際に使用する４倍レチクルのフォトマスクであって、マスクパターン１０を直列及び並列に多数個有する。 - 特許庁

A photo mask is formed where a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern is arranged having a light intensity reduction function comprising a translucent film, or a complicated gate electrode is formed by applying a reticle to a photolithographic process for forming a gate electrode.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して複雑なゲート電極を形成する。 - 特許庁

A space image mark 4, on which a plurality of space image marks 4a-4c are arranged on a reticle stage 2, is exposed and the image of the space image mark 4 is projected on a space image projection plate 6 located on a wafer stage 15 through a reduction projection lens 5.例文帳に追加

レチクルステージ２上に配置した複数の空間像マーク４ａ〜４ｃが配列された空間像マーク体４を露光し、ウエーハステージ１５上に配置した空間像投影板６に縮小投影レンズ５を介して空間像マーク体４の像を投影する。 - 特許庁