silicide formationとは 意味・読み方・使い方

FORMATION OF SILICIDE LAYER AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

シリサイド層の形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

The formation of the nickel silicide is performed in an oxygen-containing environment.例文帳に追加

このケイ化ニッケル形成は酸素含有環境において行われうる。 - 特許庁

To form a stable silicide layer even though silicon has a damaged layer at the time of the formation of the silicide.例文帳に追加

シリサイドの形成時にシリコンに損傷層を有していても安定したシリサイド層を形成できるようにする。 - 特許庁

To carry out the silicide formation of the source drain portion and the full silicide formation of the gate electrode at once, and to prevent the retreat of a sidewall because of CMP processing.例文帳に追加

ソースドレイン部のシリサイド化およびゲート電極のフルシリサイド化を１回で行うとともに、ＣＭＰ処理によるサイドウォールの後退を防ぐことを目的とする。 - 特許庁

In a fifth step, the second layer 22 on at least surface side is subjected to silicide formation so that a silicide layer S is formed.例文帳に追加

その後の第５工程では、第２の層２２の少なくとも表面側をシリサイド化して、シリサイド層Ｓを形成する。 - 特許庁

B_4C is an excellent barrier against silicide formation while the silicide layer formed at the Si boundary is well controlled.例文帳に追加

Ｂ_4Ｃは、シリサイド形成に対する優れたバリアであり、Ｓｉ境界に形成されるシリサイド層は充分に制御される。 - 特許庁

To provide an easy formation of titanium silicide film having a flat and uniform surface.例文帳に追加

表面が平坦で均一なチタンシリサイド膜を容易な方法で形成すること。 - 特許庁

FORMATION METHOD OF SILICIDE FILM, MULTILAYER FILM INTERMEDIATE STRUCTURE, AND MULTILAYER FILM STRUCTURE例文帳に追加

シリサイド膜の作製方法、多層膜中間構造体及び多層膜構造体 - 特許庁