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etch processの意味・使い方・読み方 | Weblio英和辞書
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etch processとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 エッチプロセス; エッチング工程


JST科学技術用語日英対訳辞書での「etch process」の意味

etch process

エッチプロセス; エッチング工程

「etch process」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 115



例文

MASK ETCH PROCESS例文帳に追加

マスクエッチングプロセス - 特許庁

The head slider may be produced with a two step etch process, as opposed to a three step etch process.例文帳に追加

ヘッドスライダは、3ステップエッチングプロセスとは対照的に、2ステップエッチングプロセスで作製してもよい。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR MONITORING ETCH PROCESS例文帳に追加

エッチング処理をモニタリングする方法およびシステム - 特許庁

The method and system for monitoring the etch process is provided.例文帳に追加

エッチング処理をモニタリングする方法および装置である。 - 特許庁

THERMAL F2 ETCH PROCESS FOR CLEANING CVD CHAMBER例文帳に追加

CVDチャンバーのクリーニングのためのサーマルF2エッチングプロセス - 特許庁

The etch process may be a multiple etch process to provide better edge and thickness control when forming the taper.例文帳に追加

エッチングプロセスは、テーパを形成する場合に、優れたエッジおよび厚み制御を提供するために多重エッチングプロセスであってもよい。 - 特許庁

例文

APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING ACCURACY AND REPEATABILITY OF ETCH PROCESS例文帳に追加

エッチングプロセスの精度及び反復性を制御する装置及び方法 - 特許庁

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「etch process」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 115



例文

METHOD FOR IMPROVEMENT OF ALUMINUM METALLIZED STRUCTURE FOR TUNGSTEN ETCH BACK PROCESS例文帳に追加

タングステン・エッチ・バック処理のためのアルミニウム金属化組織の改良方法。 - 特許庁

The process (2) is to etch the copper foil 2 adhered by the process (1) to form a predetermined mesh pattern 20.例文帳に追加

(2)工程(1)で貼り合わせた銅箔2をエッチングして所定のメッシュパターン20を形成する。 - 特許庁

A post-etch treatment system is described for removing photoresist remnants and etch residues formed during an etching process.例文帳に追加

エッチングプロセス中に形成されるフォトレジストおよびエッチング残渣を除去するエッチング後の処理システムは、記載されている。 - 特許庁

METHOD FOR ADJUSTING CRITICAL DIMENSION UNIFORMITY IN ETCH PROCESS例文帳に追加

エッチング処理において限界寸法の均一性を調節するための方法 - 特許庁

To provide a method for monitoring improved an etch process in manufacturing an integrated circuit.例文帳に追加

集積回路の製造において改善されたエッチング処理のモニタリング技術。 - 特許庁

A method of using a post-etch treatment system for removing photoresist remnants and etch residues formed during an etching process is described.例文帳に追加

エッチングプロセス中に形成されるフォトレジストおよびエッチング残渣を除去するエッチング後の処理システムを使用する方法は、記載されている。 - 特許庁

IN-SITU POST ETCH PROCESS TO REMOVE REMAINING PHOTORESIST AND RESIDUAL SIDEWALL PASSIVATION例文帳に追加

残存フォトレジスト及び残留側壁パッシベーションを除去する、その場でのポストエッチング工程 - 特許庁

例文

The non-ionic excited species such as hydrogen radical and fluorine radical are used to perform a channel etch process.例文帳に追加

水素ラジカルやフッ素ラジカルなどの非イオン性励起種でチャネルエッチ工程を実施する。 - 特許庁

>>例文の一覧を見る

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