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haze lineとは 意味・読み方・使い方
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「haze line」の部分一致の例文検索結果
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Kizugawadai Station, located at 10-2, Takahi, Haze, Kizugawa City, Kyoto Prefecture, is a railway facility on the Kintetsu Kyoto Line of Kintetsu Corporation.発音を聞く 例文帳に追加
木津川台駅(きづがわだいえき)は、京都府木津川市吐師高樋10-2にある近畿日本鉄道(近鉄)近鉄京都線の鉄道駅。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
In the polylactic acid system light diffusion film, a light transmittance is 80-95%, a haze is 10-75%, and an average roughness Ra in a center line of at least one side is 100-800 nm.例文帳に追加
また、本発明のポリ乳酸系光拡散フィルムは、光線透過率が80〜95%、ヘイズが10〜75%、少なくとも片面の中心線平均粗さRaが100〜800nmである。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a plate glass having fine projection on the surface which enables both anti-glare/privacy protection and lighting, and capable of easily controlling haze and transmittance to desired value on line in the continuous manufacturing process of plate glass.例文帳に追加
オンラインの連続板ガラス製造工程において、ヘイズ率と透過率を所望の値に容易に制御することができ、防眩性、プライバシー性と採光性を両立させることができる表面に微細な凸部を有する板ガラスを製造する。 - 特許庁
In the optical filter translucent electromagnetic wave shielding film of a plasma display, the conductive metal is formed of a mesh-like thin line whose line width is 1 μm to 40 μm, thickness of line width is 1 μm to 6 μm, and a haze value is 0.1% to 10%.例文帳に追加
透明支持体上に乳剤層を設けてなる銀塩感光材料に導電性金属部と可視光透過性部をパターニングして形成された透光性電磁波シールド膜において、該導電性金属部が線幅1μmから40μmのメッシュ状の細線から形成され、該線幅の厚みが1μmから6μmであり、かつヘイズ値が0.1%以上10%以下であることを特徴とするプラズマディスプレイの光学フィルター用透光性電磁波シールド膜。 - 特許庁
White light is emitted from a line illuminator 3a toward a glass substrate 11 with the transparent conductive film, reflected light is dispersed spectrally into three wavelengths of R (red), G (green) and B (blue) by a color line sensor camera 2a, and light intensities of the wavelengths are computed to calculate the film thickness or the haze rate of the transparent conductive film.例文帳に追加
ライン照明器3aから白色光を透明導電膜付きガラス基板11に照射し、反射した光をカラーラインセンサカメラ2aによってR(赤),G(緑),B(青)の3波長に分光し、これらの波長の光強度を演算することによって透明導電膜の膜厚またはヘイズ率を算出することを特徴とする。 - 特許庁
A mounting paper 10 is bonded with a base film by two-line pasting sections 11a, 11b and 11c, and air relief sections 13, 13 are formed on bottom corners, and as a base film 12, a mat finish film or the film of high haze value is used.例文帳に追加
台紙10とベースフィルムとは2条の糊止め部11a,11b,11cによって接着されるとともに、底辺コーナー部分には空気逃げ部13,13が形成され、かつベースフィルム12はマット加工を施したもの,あるいはヘーズ値の高いフィルムが使用される。 - 特許庁
To provide a polypropylene-based resin composition that is suitable for injection molding and excellent in mechanical characteristics, hardly causes a flow mark and a weld line, and also with which a molded product superior in low glossiness and scratch resistance and having superior glass haze can be manufactured.例文帳に追加
本発明は、射出成形に好適で、機械的特性に優れ、フローマークやウェルドマークを生じにくく、しかも、低光沢性・耐傷つき性に優れ、且つガラス霞性に優れた成形品を製造しうるポリプロピレン系樹脂組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁
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「haze line」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
Moreover, substrate temperature Ty at the time of epitaxial growth onto the mass-production substrate is estimated by applying the haze of the mass-production substrate measured immediately after epitaxial growth to the correlation line, and then a measured temperature Tx of the upper pyrometer is adjusted to the estimated temperature Ty.例文帳に追加
更にエピタキシャル成長直後に測定した量産用基板のヘイズを上記相関線に当てはめて量産用基板上へのエピタキシャル成長時の基板温度Tyを推定した後に、この推定温度Tyにアッパパイロメータの測定温度Txを一致させる。 - 特許庁
Then, a correlation line is set between substrate temperature indirectly measured by the upper pyrometer at the time of epitaxial growth onto a sample substrate 12 and haze of a sample substrate measured immediately after epitaxial growth, to indirectly measure a substrate temperature Tx by the upper pyrometer at the time of epitaxial growth onto a mass-production substrate.例文帳に追加
次にサンプル基板12上へのエピタキシャル成長時にアッパパイロメータにより間接測定した基板温度とエピタキシャル成長直後に測定したサンプル用基板のヘイズとの相関線を設定し、量産用基板上へのエピタキシャル成長時にアッパパイロメータにより基板温度Txを間接測定する。 - 特許庁
The hard coat layer exhibits 40% or over of haze and 0.10 μm or less surface roughness Ra (average roughness on the middle line), and average refraction rate value of 65% or over in 5° mirror reflectance to an average value of integrated reflection rate in a range of 450 nm to 650 nm wave length.例文帳に追加
透明支持体上に、少なくとも一層のハードコート層と最外層に位置する低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、ハードコート層のヘイズが40%以上であり、反射防止フィルムの表面粗さRa(中心線平均粗さ)が0.10μm以下であり、且つ450nmから650nmまでの波長領域における積分反射率の平均値に対する5度鏡面反射率の平均値が65%以上であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁
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