ion positionとは 意味・読み方・使い方

ION-PLATING APPARATUS, AND PROGRAM FOR REGULATING PLASMA BEAM APPLICATION POSITION例文帳に追加

イオンプレーティング装置およびプラズマビーム照射位置調整プログラム - 特許庁

To provide an ion beam position detection plate of an ion beam generation device capable of specifying an ion beam irradiation position without using a phosphor material nor deteriorating the level of vacuum, in relation to an ion beam position detection plate of an ion beam generation device.例文帳に追加

本発明はイオンビーム発生装置のイオンビーム位置検出板に関し、蛍光材を用いることなく、且つ真空度を低下させることのない、イオンのビーム照射位置を特定することができるイオンビーム発生装置のイオンビーム検出板を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method for ion milling, which method is suitable for making the position irradiated by an ion beam coincide with a target machining position; and further to provide an apparatus for ion milling.例文帳に追加

本発明の目的は、イオンビームが照射されている個所と、加工目的位置とを一致するのに好適なイオンミリング加工方法、及びイオンミリング加工装置の提供にある。 - 特許庁

When the ion beam is cut off, the target is continuously rotated so that the temperature can be accepted in a position where the ion beam is cut off.例文帳に追加

イオンビームの遮断時に、イオンビーム遮断位置が許容温度になるようにターゲットを連続回転させる。 - 特許庁

The ion source 2b generates ribbon-shaped ion beams 4b with a longer Y-direction dimension and with a different center position in the Y-direction from that of the ion beam 4a.例文帳に追加

イオン源２ｂは、Ｙ方向の寸法が長くかつイオンビーム４ａとはＹ方向の中心位置が異なるリボン状のイオンビーム４ｂを発生させる。 - 特許庁

POSITION ADJUSTMENT DEVICE, METHOD, PROGRAM, ION IMPLANTATION DEVICE, AND WAFER MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

位置調整装置、方法、プログラム、イオン注入装置及びウェハ製造方法 - 特許庁

Consequently the position to which ion reaches on a detection surface varies, and based on the displacement amount of reached position, a deflection electric field passing time for each ion is obtained.例文帳に追加

そのため、検出面上でのイオン到達位置には相違が生じ、到達位置の変位量から各イオンの偏向電場通過時刻が求まる。 - 特許庁

FOCUSED ION-BEAM DEVICE AND PROCESSING-POSITION SETTING METHOD THEREOF例文帳に追加

集束イオンビーム装置及び集束イオンビーム装置の加工位置設定方法 - 特許庁