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li kとは 意味・読み方・使い方
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「li k」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 122件
In this case, Mi is K-bit integer, Li is (N-K) bit integer, Mi×2N-K+Li=Ri and -2N-K/2≤Li<N-K/2.例文帳に追加
その後、グレイ値Ｒ_iは、最上位部Ｍ_iと最下位部Ｌ_iに分割されるが、ここで、Ｍ_iはＫビット整数であり、Ｌ_iは（Ｎ−Ｋ）ビット整数であり、Ｍ_i×２^N-K＋Ｌ_i＝Ｒ_iおよび−２^N-K／２≦Ｌ_i＜２^N-K／２である。 - 特許庁
MANUFACTURING PROCESS OF (Li, Na, K)(Nb, Ta)O3 TYPE PIEZOELECTRIC MATERIAL例文帳に追加
（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ３系圧電材料の製造方法 - 特許庁
(Li, Na, K)(Nb, Ta)O3 BASED PIEZOELECTRIC MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ３系圧電材料、及びその製造方法 - 特許庁
(Li, Na, K, Bi)(Nb, Ta)O3 BASED PIEZOELECTRIC MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加
（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂｉ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ３系圧電材料及びその製造方法 - 特許庁
(Li, Na, K) (Nb, Ta, Sb) O3 BASED PIEZOELECTRIC MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ，Ｓｂ）Ｏ３系圧電材料、及びその製造方法 - 特許庁
Here, R is at least one selected from among Li, Na and K, and M is at least one selected from among Mg, Ca, Sr, Ba and Zn.例文帳に追加
ただし、RはLi、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種を示し、MはMg、Ca、Sr、BaおよびZnから選ばれる少なくとも1種を示す。 - 特許庁
The alkali metal is selected from Li, Na, K, Rb and Cs.例文帳に追加
また、アルカリ金属は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，及びＣｓの中から選択されたものである。 - 特許庁
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「li k」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 122件
The error Ej of the focus pixel is stored as a value obtained by adding Li and 2N-K/2 being an error bias D.例文帳に追加
フォーカスピクセルの誤差Ｅ_jは、Ｌ_iと誤差バイアスＤである２^N-K／２を加算したものとして記憶される。 - 特許庁
As to the metal salt, MCIO4, MBF4 (M represents Li, Na, and K) or the like are preferable.例文帳に追加
金属塩はＭＣＩＯ_４、ＭＢＦ_４（ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋを示す）等が好ましい。 - 特許庁
The Mg-based ferrite material includes Li, Na, K, Pb, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, or their combinations, wherein the saturation magnetization is 30 to 80 emu/g and the dielectric breakdown voltage is 1.5 to 5.0 kV.例文帳に追加
本発明のMg系フェライト材料は、Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, またはそれらの組み合わせを含み、飽和磁化が30〜80emu/gであり、絶縁破壊電圧が1.5〜5.0 kVである。 - 特許庁
The cation of the second salt is Li+, Na+ or K+, and the anion of the second salt is OH-.例文帳に追加
第２の塩類の陽イオンはＬｉ^＋、Ｎａ^＋またはＫ^＋であり、陰イオンはＯＨ^−である。 - 特許庁
The BaLiF_3 single crystal is grown by using a raw material melt comprising BaF_2, LiF and KF in such amounts that the Li/(Ba+Li+K) ratio by mol is in the range of 0.52-0.65 and the K/(Ba+K) ratio by mol is in the range of 0.002-0.040.例文帳に追加
ＢａＦ_２とＬｉＦとＫＦとからなり、これらの含有比率がモル基準で、Ｌｉ／（Ｂａ＋Ｌｉ＋Ｋ）が０．５２〜０．６５の範囲にあり、かつＫ／（Ｂａ＋Ｋ）が０．００２〜０．０４０の範囲にある原料溶融液を用いてＢａＬｉＦ_３単結晶体を育成する。 - 特許庁
An iron-based metal is subjected to soft-nitriding treatment using a salt bath containing K^+, Na^+, Li^+, Co_3^2- and CNO^-.例文帳に追加
Ｋ^+，Ｎａ^+，Ｌｉ^+，Ｃｏ_3^2-，ＣＮＯ^-を含有する塩浴を用いて鉄系金属に軟窒化処理を施す。 - 特許庁
A preform 18 has ≥1,150 ppm OH content, ≤5 nm/cm stress birefringence, ≥1×10^18 molecule/cm^3 H_2 content, ≤20 ppm Cl content and max. 500 ppb content of trace impurities of Cr, Co, Fe, Ni, Cu, V, Zn, Al, Li, K and Na and contains no layered structure.例文帳に追加
OH含有量≧1150ppm、応力複屈折≦5nm/cm、H_2含有量≧1×10^18分子/cm^3、Cl含有量≦20ppm、微量不純物元素Cr、Co、Fe、Ni、Cu、V、Zu、Al、Li、K、Na含有量最大500ppbであり、且つ、実質的に層状構造を含まないプリフォーム１８とする。 - 特許庁
The manufacturing process for a (Li, Na, K)(Nb, Ta)O_3 type piezoelectric material comprises firing a formed article from powder particles constituted of a composition of (Li, Na, K) (Nb, Ta)O_3 at a specific temperature in the range of 850-1,000°C for a specific period of time.例文帳に追加
（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３の組成からなる粉末粒子の成形体を焼成することにより、（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３系圧電材料を製造する方法であって、８５０〜１０００℃の範囲内の一定温度で一定時間キープする。 - 特許庁
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