JP2727675B2 - 新規な光学活性フェノール誘導体およびその製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は有機電子材料たとえば液晶化合物の中間体と
して有用な新規な光学活性フェノール誘導体に関するも
のである。

＜従来の技術＞ 従来から液晶化合物として種々の化合物が開発されて
いるが、高速応答性等の特性が優れ、かつ低温領域で強
誘電性液晶となる化合物は極めて少なく、該液晶化合物
の中間体の開発は未だ十分ではなく、該中間体およびそ
の工業的にも有利な製造法の開発が望まれている。

＜発明が解決しようとする課題＞ 本発明は、低温領域で強誘電性液晶となり、かつ上記
特性に優れた強誘電性液晶化合物の中間体として有用な
新規な光学活性フェノール誘導体およびその製造法を提
供するものであり、さらには該光学活性フェノール誘導
体の中間体およびその製造法をも提供するものである。

＜課題を解決するための手段＞ すなわち、本発明は、一般式（Ｉ） （式中、Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素
数３〜15の光学活性なアルキル基またはアルコキシアル
キル基を表わし、ｎは１〜６の整数を表わす。） で示される光学活性フェノール誘導体（以下、本発明化
合物と称する。）、その製造法および中間体を提供する
ものである。

本発明化合物は、一般式（VII） （式中、Ｒ′は低級アルキル基を表わし、ｎは１〜６の
整数を表わす。） で示されるベンゼン誘導体をアセチル化し、一般式（V
I） （式中、Ｒ′およびｎは前記と同じ意味を有する。） で示されるエステル類を得、ついで加水分解して一般式
（Ｖ） （式中、ｎは前記と同じ意味を有する。） で示されるアルコール類を得、該アルコール類を、一般
式（IV） Ｒ−Ｘ （IV） （式中、Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素
数３〜15の光学活性なアルキル基またはアルコキシアル
キル基を表わし、Ｘはハロゲン原子または一般式−OSO₂
R″を表わす。ここでＲ″は低級アルキル基または置換
されていてもよいフェニル基を表わす。） で示されるアルキル化剤と反応させて一般式（III） （式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を有する。） で示されるアセトフェノン類を得、該アセトフェノン類
をバイヤービリガー酸化し、一般式（II） （式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を有する。） で示されるフェニルエステル類を得、さらに加水分解す
ることにより本発明化合物を得ることができる。

以下、本発明化合物の製造法につき詳細に説明する。

本発明の製造法の第１工程であるアセチル化は通常の
フリーデルクラフト反応が適用される。アセチル化剤と
しては、酢酸、アセチルクロリドおよびアセチルブロミ
ド等の酢酸誘導体があげられ、これらの使用量は、上記
ベンゼン誘導体（VII）１モルに対して１モル以上、好
ましくは１〜８モルである。アセチル化に使用される触
媒は、通常のフリーデルクラフト反応に使用される触媒
を用いることができ、かかる触媒としては、塩化アル
ミ、臭化アルミ、塩化亜鉛、臭化亜鉛、四塩化チタン、
ポリリン酸、三フッ化ホウ素等が例示される。これらの
使用量は、上記ベンゼン誘導体（VII）１モルに対して
0.3モル〜８モルである。

反応温度は通常、−30〜150℃、好ましくは−10〜100
℃である。

反応時間は特に制限されない。

このようにして得られた反応混合物から、分液、濃
縮、蒸留、結晶化等の通常の操作により、上記エステル
類（VI）が収率よく得られ、これは必要により更にカラ
ムクロマトグラフィー等で精製することができるが、次
工程へは通常このままで使用することができる。

第２工程におけるエステル類（VI）の加水分解反応
は、水の存在下に、通常は酸もしくはアルカリを共存さ
せて行われる。

該反応で用いられる酸としては、例えば、硫酸、リン
酸、塩酸等の無機酸、トルエンスルホン酸、メタンスル
ホン酸等の有機酸があげられる。アルカリとしては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、炭
酸カリウム、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕７−ウンデ
セン等の有機および無機塩基があげられる。

かかる酸もしくはアルカリの使用量は以下に述べると
おりである。酸については上記エステル類（VI）１モル
に対して、0.02モルから10モルが好ましく用いられ、ア
ルカリの場合には上記エステル類（VI）１モルに対し
て、少くとも１モル以上、好ましくは１〜５モルであ
る。もちろんこれ以上の使用量でもさしつかえない。該
反応は、通常溶媒の存在下に行なわれ、かかる溶媒とし
ては以下のものが例示される。

メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、
メチルエチルケトン、クロロホルム、ジクロルメタン、
トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、エチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の脂肪族もしくは芳
香族炭化水素、エーテル、アルコール、ケトン、アミド
およびハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒が単
独または混合物として使用され、その使用量については
特に制限されるものではない。

反応温度は、通常、−30℃〜120℃であるが、好まし
くは−20℃〜100℃である。

反応時間は特に制限されない。反応終了後、通常の分
離手段、たとえば抽出、分液、濃縮、再結晶等により上
記アルコール類（Ｖ）が収率よく得られ、これは必要に
より更にカラムクロマトグラフィー等で精製することが
できるが、次工程へは精製することなくそのまま使用す
ることができる。

第８工程のアルキル化反応は、上記アルコール類
（Ｖ）を、一般式（IV）で示されるアルキル化剤と反応
させることにより行われる。

該反応は、通常塩基性物質の存在下に行われ、塩基性
物質としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の
アルカリ金属水素化物、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム等のアルカリ金属、ナトリウムエチラート、ナトリウ
ムメチラート等のアルカリ金属アルコラート、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属、ブチルリ
チウム等が例示される。

かかる塩基性物質は、上記アルコール類（Ｖ）に対し
て１当量倍以上必要であり、上限については特に制限さ
れないが、好ましくは３当量倍である。

上記反応で使用されるアルキル化剤としては、以下に
例示されるようなハロゲン原子で置換されていてもよい
炭素数３〜15の光学活性なアルキル基またはアルコキシ
アルキル基を有するクロリド、ブロミド、アイオダイド
等のハロゲン化物あるいは硫酸エステル類（メタンスル
ホン酸エステル、エタンスルホン酸エステル、ベンゼン
スルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル等）
があげられる。

上記のハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数３
〜15の光学活性なアルキル基またはアルコキシアルキル
基としては、例えば以下のものがあげられる。

１−メチルエチル、１−メチルプロピル、１−メチル
ブチル、２−メチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3
−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、1,2,2−トリ
メチルブチル、1,2,3−トリメチルブチル、2,3,3−トリ
メチルブチル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチ
ル、３−メチルペンチル、1,2−ジメチルペンチル、1,3
−ジメチルペンチル、2,3−ジメチルペンチル、2,4−ジ
メチルペンチル、1,2,2,3−テトラメチルペンチル、１
−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘ
キシル、４−メチルヘキシル、1,2−ジメチルヘキシ
ル、1,3−ジメチルヘキシル、1,4−ジメチルヘキシル、
１−メチルヘプチル、２−メチルヘプチル、３−メチル
ヘプチル、４−メチルヘプチル、５−メチルヘプチル、
1,3−ジメチルヘプチル、１−メチルオクチル、２−メ
チルオクチル、３−メチルオクチル、４−メチルオクチ
ル、５−メチルオクチル、６−メチルオクチル、1,2−
ジメチルオクチル、1,4−ジメチルオクチル、１−メチ
ルノニル、２−メチルノニル、３−メチルノニル、４−
メチルノニル、５−メチルノニル、６−メチルノニル、
７−メチルノニル、1,2−ジメチルノニル、１−メチル
デシル、２−メチルデシル、３−メチルデシル、４−メ
チルデシル、５−メチルデシル、６−メチルデシル、７
−メチルデシル、８−メチルデシル、１−メチルウンデ
シル、９−メチルウンデシル、１−メチルドデシル、10
−メチルドデシル、メトキシエチル、メトキシプロピ
ル、メトキシブチル、メトキシペンチル、メトキシヘキ
シル、メトキシヘプチル、メトキシオクチル、メトキシ
ノニル、メトキシデシル、エトキシエチル、エトキシプ
ロピル、エトキシブチル、エトキシぺンチル、エトキシ
ヘキシル、エトキシヘプチル、エトキシオクチル、エト
キシノニル、エトキシデシル、プロポキシエチル、プロ
ポキシプロピル、プロポキシブチル、プロポキシペンチ
ル、プロポキシヘキシル、プロポキシヘプチル、プロポ
キシオクチル、プロポキシノニル、プロポキシデシル、
ブトキシエチル、ブトキシプロピル、ブトキシブチル、
ブトキシペンチル、ブトキシヘキシル、ブトキシヘプチ
ル、ブトキシオクチル、ブトキシノニル、ブトキシデシ
ル、ペンチルオキシエチル、ペンチルオキシプロピル、
ペンチルオキシブチル、ペンチルオキシペンチル、ペン
チルオキシヘキシル、ペンチルオキシオクチル、ペンチ
ルオキシデシル、ヘキシルオキシエチル、ヘキシルオキ
シプロピル、ヘキシルオキシブチル、ヘキシルオキシペ
ンチル、ヘキシルオキシヘキシル、ヘプチルオキシエチ
ル、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチルオキシブチル、
ヘプチルオキシペンチル、オクチルオキシエチル、オク
チルオキシプロピル、デシルオキシエチル、デシルオキ
シプロピル、２−トリハロメチルペンチル、２−トリハ
ロメチルヘキシル、２−トリハロメチルブチル、２−ハ
ロプロピル、３−ハロ−２−メチルプロピル、2,3−ジ
ハロプロピル、２−ハロブチル、３−ハロブチル、2,3
−ジハロブチル、2,4−ジハロブチル、3,4−ジハロブチ
ル、２−ハロ−３−メチルブチル、２−ハロ−3,3−ジ
メチルブチル、２−ハロペンチル、３−ハロペンチル、
４−ハロペンチル、2,4−ジハロペンチル、2,5−ジハロ
ペンチル、２−ハロ−３−メチルペンチル、２−ハロ−
４−メチルペンチル、２−ハロ−３−モノハロメチル−
４−メチルペンチル、２−ハロヘキシル、３−ハロヘキ
シル、４−ハロヘキシル、５−ハロヘキシル、２−ハロ
ヘプチル、２−ハロオクチル（但し、上記アルキル基中
ハロとは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を表わす
が、実用上はフッ素または塩素が好ましい。）等。

なお、一般式（IV）において置換基Ｒが臭素またはヨ
ウ素原子を含む光学活性なアルキル基の場合には、一般
的にアルキル化剤としては反応収率の面から硫酸エステ
ル類が好ましく用いられる。

但し、置換基Ｒがフッ素または塩素原子を含む光学活
性なアルキル基である場合には、アルキル化剤がブロミ
ドまたはアイオダイドであっても何ら問題なく用いるこ
とができる。

また、これらの光学活性基を有するハロゲン化物（ク
ロリド、ブロミドまたはアイオダイド）あるいは硫酸エ
ステル類は相当する光学活性アルコールから誘導され、
該光学活性アルコールのうちのあるものは、対応するケ
トンの不斉金属触媒、微生物または酵素による不斉還元
により、容易に得られる。またあるものは、天然に存在
するか、または分割により得られる下記のような光学活
性アミノ酸および光学活性オキシ酸から誘導することが
できる。

バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニ
ン、スレオニン、アロスレオニン、ホモセリン、アロイ
ソロイシン、tert−ロイシン、２−アミノ酪酸、ノルバ
リン、ノルロイシン、オルニチン、リジン、ヒドロキシ
リジン、フェニルグリシン、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸、マンデル酸、トロパ酸、３−ヒドロキシ酪酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、イスプロピルリンゴ酸等。

上記アルキル化剤（IV）の使用量は、アルコール類
（Ｖ）に対して１当量倍以上の任意の量であるが、通常
は１〜５当量倍の範囲である。

反応溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチ
ルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、トルエ
ン、ベンゼン、クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロ
ルメタン、ジクロルエタン、四塩化炭素、ジメチルホル
ムアミド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水
素、エーテル、ハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な
溶媒が単独または混合物として使用され、その使用量に
ついては特に制限されない。

また、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリ
ルアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の極性溶媒を使用す
ることもできる。

反応温度は、通常−50℃〜120℃、好ましくは−30℃
〜100℃の範囲である。

反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、
濃縮等の操作によりアセトフェノン類（III）を得るこ
とができる。

第４工程のバイヤービリガー酸化反応は上記アセトフ
ェノン類（III）を酸化剤と処理することにより行われ
る。

かかる酸化剤としては、過酢酸、過ギ酸、メタクロル
過安息香酸、過安息香酸等の過酸が例示される。かかる
過酸は、たとえば対応する酸と過酸化水素から生じせし
めることができ、反応系中に過酸を合成しながら、バイ
ヤービリガー酸化を行うこともできる。

過酸の使用量は、通常原料である一般式（III）で示
されるアセトフェノン類に対して１当量倍以上必要であ
り、上限については特に制限されないが好ましくは５当
量倍である。

上記反応で使用される溶媒としては、通常、酸化反応
に不活性な溶媒が使用され、かかる溶媒としては、例え
ば水あるいはジオキサン、テトラヒドロフラン、Ｎ−メ
チルピロリドン、ジ−ｎ−ブチルエーテル、エーテル、
酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、ジクロルメタン、ジク
ロルエタン、クロロホルム、クロルベンゼン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等
のエーテル、ケトン、エステル、ハロゲン化炭化水素、
芳香族または脂肪族炭化水素等の反応に不活性な溶媒が
単独または混合物として使用される。

反応温度は通常、−10℃〜100℃の範囲であるか、好
ましくは０℃〜90℃の範囲である。

このようにしてフェニルエステル類（II）が得られる
が、該フェニルエステル類は本発明者らの知る限りにお
いて文献未記載の新規化合物である。

第５工程の加水分解反応は水の存在下に、酸もしくは
アルカリを用いて行われる。

該反応に用いられる酸としては、たとえば、硫酸、リ
ン酸または塩酸等の無機酸、トルエンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸等の有機酸があげられる。アルカリとして
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムまたは1,8−ジアザ
ビシクロ〔5,4,0〕７−ウンデセン等の有機および無機
塩基があげられる。

かかる酸もしくはアルカリの使用量は以下に述べると
おりである。酸についてはフェニルエステル類（II）１
モルに対して0.02倍モルから10倍モルが好ましく用いら
れ、アルカリの場合には、フェニルエステル類（II）に
対して少なくとも２倍モル以上、好ましくは２〜10倍モ
ル以下である。もちろんこれ以上の使用量でもさしつか
えない。これらは通常、溶媒とともに用いられ、かかる
溶媒としては以下のものが例示される。

メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、
メチルエチルケトン、クロロホルム、ジクロルメタン、
トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、エチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の脂肪族もしくは芳
香族炭化水素、エーテル、アルコール、ケトン、アミド
およびハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒が単
独または混合物として使用され、その使用量については
特に制限されない。

反応温度は、通常−30℃〜120℃であるが、好ましく
は−20℃〜100℃である。

反応時間は特に制限されない。反応終了後、通常の分
離手段、たとえば酸析、抽出、分液、濃縮等の操作によ
り本発明化合物を収率よく得ることができ、必要に応じ
てカラムクロマトグラフィー、再結晶等により精製する
こともできる。

＜発明の効果＞ 本発明化合物は、たとえば次式に示されるような方法
により新規な液晶化合物（VIII）ヘ導くことができ、該
化合物は強誘電性液晶として非常に優れた性質を有して
いる。また、本発明の製造法により、本発明化合物を工
業的にも有利に得ることができる。

（ここで、Arはフェニレン基、ビフェニレン基あるいは
複素環基などを示し、Ｙはアルキル基あるいはアルコキ
シル基などを示す。Ｒおよびｎは前記と同じ意味を表わ
す。） さらに、本発明化合物は、農薬、医薬等の中間体とし
ても利用することができる。

＜実施例＞ 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。

実施例１ 撹拌装置、温度計を装着した４ツ口フラスコに塩化ア
ルミ84.0g（0.63モル）およびジクロルメタン400mlを仕
込み、10〜20℃にて塩化アセチル51.8g（0.66モル）を
２時間を要して加えた。同温度にて１時間保温ののち、
10〜25℃にてβ−フェネチルアセテート（VII−１）49.
2g（0.3モル）を３時間で加えた。20〜30℃にて保温の
のち氷水中にあけ、ジクロルメタン100mlを加え有機層
を分液した。有機層は水、３％炭酸ナトリウム水、水に
て順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥ののち、減圧濃
縮することにより、４−（β−アセトキシエチル）アセ
トフェノン（VI−１）43.0g（収率93％）を得た。

上記で得られた（VI−１）51.5g（0.25モル）、20％
苛性ソーダ65gおよびメタノール150mlを仕込み、室温に
て４時間撹拌した。反応終了後、反応液を水中にあけト
ルエン200mlにて抽出した。分液後、有機層を水洗のの
ち減圧濃縮することにより、４−（βヒドロキシエチ
ル）アセトフェノン（Ｖ−１）40.6g（収率99％）を得
た。

次に、上記で得られた（Ｖ−１）7.88g（0.048モル）
およびジメチルホルムアミド80mlを仕込み、０〜５℃に
冷却し、水素化ナトリウム1.16g（0.048モル）を加え、
同温度で１時間保温、さらに20℃にて２時間保温した。
次に、2S−メチルブチルトシレート12.1g（0.05モル）
を15〜25℃にて２時間を要して加え、同温度にて30分保
温ののち、30〜35℃にて２時間保温した。反応終了後、
反応液を氷中にあけ、酢酸エチル60mlにて抽出し、有機
層を分液、水洗、減圧濃縮し、濃縮残渣をトルエンにて
カラムクロマト精製することにより、４−｛２−（2S−
メチルブトキシ）エチル｝アセトフェノン（III−１）
7.30g（収率65％）を得た。

次に、上記で得られた（III−１）2.34g（0.01モ
ル）、メタクロル過安息香酸3.44g（0.02モル）および
ジクロルメタン20mlを仕込み、20〜30℃にて24時間反応
した。原料の（III−１）が検出されない時点を反応終
点とした。

反応後、反応液を３％炭酸ナトリウムにて洗浄し、さ
らに水洗ののち濃縮した。濃縮残渣をトルエンにてカラ
ムクロマト精製することにより、４−｛２−（2S−メチ
ルブトキシ）エチル｝フェニルアセテート（II−１）2.
25g（収率90％）を得た。

次に、上記で得られた（II−１）1.25g（５ミリモ
ル）、20％苛性ソーダ1.5g（7.5ミリモル）およびメタ
ノール5mlを仕込み、室温にて４時間撹拌した。反応終
了後、メタノールを留去し、2N−塩酸水にて弱酸性とな
し、酢酸エチル20mlにて抽出し、有機層は水洗ののち減
圧濃縮した。濃縮残渣をトルエン：酢酸エチル＝5:1に
てクロマト精製し、４−｛２−（2S−メチルブトキシ）
エチル｝フェノール（Ｉ−１）0.92g（収率96％）を得
た。

実施例２ 実施例１で得られた（Ｖ−１）7.88g（0.048モル）お
よびＮ−メチルピロリドン70mlを仕込み、０〜５℃に冷
却し、水素化ナトリウム1.16g（0.048モル）を加え、同
温度で１時間保温、さらに20℃にて２時間保温した。次
に、1R−メチルヘプチルトシレート17.06g（0.06モル）
を15〜20℃に２時間かけて加え、同温度にて１時間保温
ののち、30〜35℃にて２時間保温した。反応終了後、実
施例１に準じて、後処理、精製することにより、４−
｛２−（1S−メチルヘプチルオキシ）エチル｝アセトフ
ェノン（III−２）5.96g（収率45％）を得た。

次に、上記で得られた（III−２）2.76g（0.01モ
ル）、メタクロル過安息香酸4.3g（0.025モル）および
ジクロルエタン20mlを仕込み、20〜30℃にて20時間反応
させた。反応終了後、反応液を３％炭酸ナトリウムにて
洗浄した。以下、実施例１に準じて後処理、精製し、４
−｛２−（1S−メチルヘプチルオキシ）エチル｝フェニ
ルアセテート（II−２）2.69g（収率92％）を得た。

次に、上記で得られた（II−２）1.46g（５ミリモ
ル）、20％苛性カリ2.1g（7.5ミリモル）およびメタノ
ール3mlおよびテトラヒドロフラン1mlを、30℃にて４時
間撹拌した。反応終了後、メタノールおよびテトラヒド
ロフランを留去し、残渣を2N−塩酸水にて弱酸性とし
た。

以下、実施例１に準じて後処理、精製することによ
り、４−｛２−（1S−メチルヘプチルオキシ）エチル｝
フェノール（Ｉ−２）1.20g（収率95.5％）を得た。

実施例３ 実施例１で得られた（Ｖ−１）7.88g（0.048モル）お
よびジメチルホルムアミド80mlを仕込み、０〜５℃に冷
却した。水素化ナトリウム1.16g（0.048モル）を加え、
同温で１時間保温した後、室温まで昇温した。これに、
2S−プロポキシプロピルトシレート16.34g（0.06モル）
を滴下し、室温で１時間保温の後、25〜30℃で３時間保
温した。反応終了後、実施例１に準じて、後処理、精製
することにより４−｛２−（2S−プロポキシプロポキ
シ）エチル｝アセトフェノン（III−３）6.98g（収率55
％）を得た。

次に、上記で得られた（III−３）2.64g（0.01モ
ル）、メタクロル過安息香酸4.3g（0.025モル）および
1,2−ジクロルエタン20mlを仕込み、20〜30℃で15時間
撹拌した。反応終了後、実施例１に準じて後処理、精製
することにより、４−｛２−（2S−プロポキシプロポキ
シ）エチル｝フェニルアセテート（II−３）2.61g（収
率93％）を得た。

次に、上記で得られた（II−３）1.40g（５ミリモ
ル）、20％苛性カリ2.1g（7.5ミリモル）およびメタノ
ール5mlを仕込み、室温で３時間撹拌した。反応終了
後、メタノールを留去し、さらに実施例１に準じて後処
理、精製することにより、４−｛２−（２−プロポキシ
プロポキシ）エチル｝フェノール（Ｉ−３）1.17g（収
率98％）を得た。

実施例４ 実施例１と同様の装置に塩化アルミ84.0g（0.63モ
ル）およびジクロルメタン450mlを仕込み、10〜15℃に
て塩化アセチル51.8g（0.66モル）を２時間かけて加え
た。同温度にて１時間保温ののち10〜20℃にて３−フェ
ニルプロピルアセテート（VII−４）53.4g（0.3モル）
を３時間かけて加えた。25℃にて４時間保温ののち氷水
中に反応液をあけ、ジクロルメタン100mlを加え、有機
層を分液した。有機層を水、３％炭酸ナトリウム水、水
にて順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥ののち、減圧
濃縮することにより、４−（３−アセトキシプロピル）
アセトフェノン（VI−４）62.4g（収率94.5％）を得
た。

上記で得られた（VI−４）55.0g（0.25モル）、10％
苛性カリ65g、テトラヒドロフラン20mlおよびメタノー
ル60ml仕込み、室温にて５時間撹拌した。反応終了後、
反応液を減圧にて濃縮し、テトラヒドロフランおよびメ
タノールを留去した。残渣をトルエンにて抽出し、有機
層を水洗ののち減圧濃縮することにより、４−（３−ヒ
ドロキシプロピル）アセトフェノン（Ｖ−４）43.9g
（収率98.5％）を得た。

次に上記で得られた（Ｖ−４）8.54g（0.048モル）お
よびジメチルホルムアミド80mlを仕込み、０〜５℃に冷
却し、水素化ナトリウム1.16g（0.048モル）を加え、同
温度で１時間保温し、さらに25℃にて２時間保温した。

次に2S−メチルブチルトシレート12.1g（0.05モル）
を20〜30℃にて３時間要して加え、同温度にて30分間保
温ののち、30〜40℃にて２時間保温した。反応終了後、
実施例１に準じて後処理、精製することにより、４−
｛３−（2S−メチルブトキシ）プロピル｝アセトフェノ
ン（III−４）8.44g（収率71％）を得た。

次に、上記で得られた（III−４）2.48g（0.01モル）
およびプロピルエーテル20mlの溶液に60％過酢酸1.14g
を20℃にて２時間で加え、20〜30℃にて15時間撹拌し
た。反応終了後、反応液を水、２％炭酸ナトリウム、
水、２％塩酸水、水にて順次洗浄した。以下、実施例１
に準じて、後処理、精製することにより、４−｛３−
（2S−メチルブトキシ）プロピル｝フェニルアセテート
（II−４）2.44g（収率92.5％）を得た。

次に、上記で得られた（II−４）1.32g（５ミリモ
ル）、20％苛性ソーダ2g（0.01モル）およびテトラブチ
ルアンモニウムブロミド0.1gを仕込み、30℃にて10時間
撹拌した。反応終了後、2N−塩酸水にて弱酸性とし、酢
酸エチル20mlにて抽出した。以下、実施例１に準じて、
後処理、精製することにより、４−｛３−（2S−メチル
ブトキシ）プロピル｝フェノール（Ｉ−４）1.06g（収
率95.5％）を得た。

実施例５ 実施例４で得られた（Ｖ−４）8.54g（0.048モル）、
テトラヒドロフラン20mlおよびジメチルホルムアミド60
mlを仕込み、０〜10℃に冷却し、水素化ナトリウム1.28
g（0.052モル）を加え、同温度で１時間保温、さらに20
℃にて２時間保温した。

次に、1R−メチルヘプチルトシレート17.06g（0.06モ
ル）を15℃にて３時間要して加えた。同温度にて１時間
保温ののち、30℃にて１時間保温した。反応終了後、実
施例１に準じて、後処理、精製することにより、４−
｛３−（1S−メチルヘプチルオキシ）プロピル｝アセト
フェノン（III−５）6.68g（収率48％）を得た。

次に、上記で得られた（III−５）2.9g（0.01モ
ル）、メタクロル過安息香酸4.3g（0.025モル）および
ジクロルメタン15mlを仕込み、20〜30℃にて24時間反応
させた。反応終了後、反応液を３％苛性ソーダ、水にて
順次洗浄し、有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィ
ーにて精製することにより、４−｛３−（1S−メチルヘ
プチルオキシ）プロピル｝アセテート（II−４）2.83g
（収率92.4％）を得た。

上記で得られた（II−５）1.53g（５ミリモル）、20
％苛性ソーダ3g（0.015モル）およびメタノール5mlを20
〜30℃にて５時間撹拌した。反応終了後、メタノールを
留去し、2N−塩酸水にて残渣を弱酸性とし、酢酸エチル
20mlにて抽出し、有機層を水洗ののち、減圧にて濃縮し
た。濃縮残渣をトルエン：酢酸エチル＝5:1にてカラム
クロマト精製することにより、４−｛３−（1S−メチル
ヘプチルオキシ）プロピル｝フェノール（Ｉ−５）1.27
g（収率96.5％）を得た。

実施例６〜11 1R−メチルヘプチルトシレートにかえ、表−１に示す
硫酸エステルを使用する以外は実施例５に準じて反応、
後処理、精製して、表−１に示す結果を得た。

実施例12 実施例１と同様に、塩化アルミ84.0g（0.63モル）お
よびジクロルエタン500mlを仕込み、10〜15℃にて塩化
アセチル51.8g（0.66モル）を３時間要して加えた。同
温度で１時間保温ののち10〜20℃にて４−フェニルブチ
ルアセテート（VII−12）57.6g（0.3モル）を３時間に
て加え、20〜25℃にて３時間保温ののち氷水中にあけ、
ジクロルエタンを加え、抽出した。以下、実施例１に準
じて後処理、精製することにより、４−（４−アセトキ
シブチル）アセトフェノン（VI−12）59.0g（収率84
％）を得た。

上記で得られた（VI−12）58.5g（0.25モル）、20％
苛性ソーダ75gおよびメタノール150mlを仕込み、室温に
て５時間撹拌した。以下、実施例１に準じて後処理、精
製することにより、４−（４−ヒドロキシブチル）アセ
トフェノン（Ｖ−12）40.8g（収率85％）を得た。

上記で得られた（Ｖ−12）9.22g（0.048モル）、ジメ
チルホルムアミド60mlおよびテトラヒドロフラン15mlを
仕込み、０〜５℃に冷却し、水素化ナトリウム1.16g
（0.048モル）を加え、同温度で１時間保温した。さら
に25〜30℃にて２時間保温し、次に2S−メチルブチルト
シレート12.1g（0.05モル）を15〜25℃にて３時間要し
て加え、同温度にて１時間、さらに30〜35℃にて２時間
保温した。反応終了後、実施例１に準じて後処理、精製
することにより、４−｛４−（2S−メチルブトキシ）ブ
チル｝アセテートフェノン（III−12）8.94g（収率71
％）を得た。

上記で得られた（III−12）2.62g（0.01モル）、メタ
クロル過安息香酸3.44g（0.02モル）および酢酸エチル1
2mlを仕込み、25〜35℃にて20時間反応した。反応終了
後、反応液を３％炭酸ナトリウム、水にて順次洗浄し、
有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィーにて精製す
ることにより、４−｛４−（2S−メチルブトキシ）ブチ
ル｝フェニルアセテート（II−12）2.52g（収率90.5
％）を得た。

次に、上記で得られた（II−12）1.39g（５ミリモ
ル）、20％苛性ソーダ3g（0.015モル）およびメタノー
ル3mlを仕込み、25〜30℃にて５時間撹拌した。以下、
実施例１に準じて後処理、精製することにより、４−
｛４−（2S−メチルブトキシ）ブチル｝フェノール（Ｉ
−12）1.13g（収率95.5％）を得た。

実施例13 実施例12で得られた（Ｖ−12）9.22g（0.048モル）、
ジメチルホルムアミド80mlを仕込み、０〜５℃に冷却
し、水素化ナトリウム1.16g（0.048モル）を加え、同温
度で１時間保温した後、室温まで昇温した。次に2S−プ
ロポキシプロピルトシレート16.34g（0.06モル）を滴下
し、室温で１時間保温の後、25〜30℃にて３時間保温し
た。反応終了後、実施例１に準じて後処理、精製するこ
とにより、４−｛４−（2S−プロポキシプロポキシ）ブ
チル｝アセトフェノン（III−13）8.7g（収率62％）を
得た。

次に、上記で得られた（III−13）2.92g（0.01モ
ル）、メタクロル過安息香酸4.3g（0.025モル）および
1,2−ジクロルエタン20mlを仕込み、20〜30℃で20時間
撹拌した。反応終了後、実施例１に準じて後処理、精製
することにより、４−｛４−（2S−プロポキシプロポキ
シ）ブチル｝フェニルアセテート（II−13）2.84g（収
率92％）を得た。

次に、上記で得られた（II−13）1.54g（５ミリモ
ル）、20％苛性ソーダ3g（0.015モル）およびメタノー
ル5mlを、室温で３時間撹拌した。以下、実施例１に準
じて後処理、精製することにより、４−｛４−（2S−プ
ロポキシプロポキシ）ブチル｝フェノール（Ｉ−13）1.
38g（収率98％）を得た。

実施例14 2S−メチルブチルトシレートにかえて2S−メチルブチ
ルプロミド10.88g（0.072モル）を使用する以外は実施
例４に準じてアルキル化反応、後処理、精製することに
より、４−｛３−（2S−メチルブトキシ）プロピル｝ア
セトフェノン（III−４）7.62g（収率64％）を得た。

上記で得られた（III−４）2.48g（0.01モル）を実施
例４に準じて酸化反応を行うことにより、４−｛３−
（2S−メチルブトキシ）プロピル｝フェニルアセテート
（II−４）2.46g（収率98％）を得た。

さらに、上記で得られた（II−４）1.32g（５ミリモ
ル）を実施例３と同様に加水分解反応することにより、
４−｛３−（2S−メチルブトキシ）プロピルフェノール
（Ｉ−４）1.06g（収量95.3％）を得た。

参考例 撹拌装置、温度計を装着した４つ口フラスコに（＋）
−４−〔２−｛２（ｓ）−メチルブトキシ｝エチル〕フ
ェノール1.04g（５ミリモル）、４−デシルオキシ安息
香酸1.67g（６ミリモル）と無水ジクロルメタン30mlを
仕込み、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1.22g
（６ミリモル）と４−ピロリジノピリジン0.1gを加え
て、室温で１昼夜撹拌した。

反応終了後、生じた沈澱を別し、トルエン200mlで
希釈し、有機層を、水、５％酢酸水、水、５％重曹水、
水の準に洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧下、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマト精製（溶出液；トルエン−酢酸エチル）する
ことにより（＋）−４−デシルオキシ安息香酸４−〔２
−｛２（ｓ）−メチルブトキシ｝エチル〕フェニルエス
テル2.10g（収率90％）を得た。

フロントページの続き (72)発明者 南井 正好 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番 98号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 今村 清 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番 98号 住友化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−131451（ＪＰ，Ａ)

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ） （式中、Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素
   数３〜15の光学活性なアルキル基またはアルコキシアル
   キル基を表わし、ｎは１〜６の整数を表わす。） で示される光学活性フェノール誘導体。
2. 【請求項２】一般式（II） （式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を表わす。） で示されるフェニルエステル類を加水分解することを特
   徴とする一般式（Ｉ）で示される光学活性フェノール誘
   導体の製造法。
3. 【請求項３】一般式（III） （式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を表わす。） で示されるアセトフェノン類をバイヤービリガー酸化
   し、一般式（II）で示されるフェニルエステル類を得
   て、これを加水分解することを特徴とする一般式（Ｉ）
   で示される光学活性フェノール誘導体の製造法。
4. 【請求項４】一般式（Ｖ） （式中、ｎは前記と同じ意味を表わす。） で示されるアルコール類を、一般式（IV） Ｒ−Ｘ （IV） （式中、Ｒは、前記と同じ意味を表わし、Ｘはハロゲン
   原子または一般式−OSO₂R″を示す。ここで、Ｒ″は低
   級アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を
   表わす。） で示されるアルキル化剤と反応させて一般式（III）で
   示されるアセトフェノン類を得て、これをバイヤービリ
   ガー酸化し、一般式（II）で示されるフェニルエステル
   類を得て、これを加水分解することを特徴とする一般式
   （Ｉ）で示される光学活性フェノール誘導体の製造法。
5. 【請求項５】一般式（VI） （式中、ｎは前記と同じ意味を表わし、Ｒ′は低級アル
   キル基を表わす。） で示されるエステル類を加水分解し、一般式（Ｖ）で示
   されるアルコール類を、得て、これを一般式（IV）で示
   されるアルキル化剤と反応させて一般式（III）で示さ
   れるアセトフェノン類を得て、これをバイヤービリガー
   酸化し、一般式（II）で示されるフェニルエステル類を
   得て、これを加水分解することを特徴とする一般式
   （Ｉ）で示される光学活性フェノール誘導体の製造法。
6. 【請求項６】一般式（VII） （式中、Ｒ′およびｎは低級アルキル基を表わす。） で示されるベンゼン誘導体をアセチル化し、一般式（V
   I）で示されるエステル類を得て、これを加水分解し、
   一般式（Ｖ）で示されるアルコール類を得て、これを一
   般式（IV）で示されるアルキル化剤と反応させて一般式
   （III）で示されるアセトフェノン類を得て、これをバ
   イヤービリガー酸化し、一般式（II）で示されるフェニ
   ルエステル類を得て、これを加水分解することを特徴と
   する一般式（Ｉ）で示される光学活性フェノール誘導体
   の製造法。
7. 【請求項７】前記一般式（II）で示されるフェニルエス
   テル類。