JP2800302B2 - 光学活性なフェノール誘導体およびその製造法 - Google Patents
光学活性なフェノール誘導体およびその製造法Info
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は有機電子材料、とりわけ液晶化合物の中間体
として有用である新規な光学活性フェノール誘導体に関
するものである。
として有用である新規な光学活性フェノール誘導体に関
するものである。
〈従来の技術〉 従来から液晶化合物として種々の化合物が開発されて
いるが、高速応答性等の特性が優れ、かつ低温領域で強
誘電性液晶となる化合物は極めて少なく、該液晶化合物
の中間体の開発は未だ十分ではないので、該中間体及び
その工業的に有利な製造法の開発が望まれていた。
いるが、高速応答性等の特性が優れ、かつ低温領域で強
誘電性液晶となる化合物は極めて少なく、該液晶化合物
の中間体の開発は未だ十分ではないので、該中間体及び
その工業的に有利な製造法の開発が望まれていた。
〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、低温領域で強誘電性液晶となり、か
つ上記特性に優れた強誘電性液晶化合物の中間体として
有用である新規な光学活性フェノール誘導体およびその
製造法を提供し、さらには該光学活性フェノール誘導体
の中間体およびその製造方法をも提供することにある。
つ上記特性に優れた強誘電性液晶化合物の中間体として
有用である新規な光学活性フェノール誘導体およびその
製造法を提供し、さらには該光学活性フェノール誘導体
の中間体およびその製造方法をも提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉 すなわち、本発明は、一般式〔I〕 (式中、R*はハロゲン原子で置換されていてもよい炭
素数3〜15の光学活性なアルキル基またはアルコキシア
ルキル基を表わし、nは1〜6の整数を表わす。) で示される光学活性なフェノール誘導体およびその製造
法に関するものである。
素数3〜15の光学活性なアルキル基またはアルコキシア
ルキル基を表わし、nは1〜6の整数を表わす。) で示される光学活性なフェノール誘導体およびその製造
法に関するものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の第一工程であるエステル化反応は、一般式
〔IV〕 (式中、nは前記と同じ意味を表わす。) で示されるアルコール類と、一般式〔III〕 R*COOH 〔III〕 (式中、R*は前記と同じ意味を表わす。) で示される光学活性なカルボン酸もしくはその誘導体と
を、触媒もしくは縮合剤の存在下に反応させることによ
り行われる。
〔IV〕 (式中、nは前記と同じ意味を表わす。) で示されるアルコール類と、一般式〔III〕 R*COOH 〔III〕 (式中、R*は前記と同じ意味を表わす。) で示される光学活性なカルボン酸もしくはその誘導体と
を、触媒もしくは縮合剤の存在下に反応させることによ
り行われる。
本発明の第二工程である脱ベンジル化反応は、一般式
〔II〕 (式中、R*及びnは前記と同じ意味を表わす。) で示される光学活性なベンジルオキシベンゼン誘導体
を、水添触媒及び水素の存在下に反応させることにより
行われる。
〔II〕 (式中、R*及びnは前記と同じ意味を表わす。) で示される光学活性なベンジルオキシベンゼン誘導体
を、水添触媒及び水素の存在下に反応させることにより
行われる。
なお、これらのアルコール類〔IV〕は、対応する4−
ヒドロキシアルキルフェノール類を公知の方法によりベ
ンジル化することにより容易に製造することができる。
ヒドロキシアルキルフェノール類を公知の方法によりベ
ンジル化することにより容易に製造することができる。
第一工程であるアルコール類〔IV〕と光学活性なカル
ボン酸〔III〕とのエステル化反応においては、溶媒を
使用してもよく、溶媒を使用する場合、その溶媒として
は、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキサ
ン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ケト
ン、アミドまたはハロゲン化炭化水素等の反応に不活性
な溶媒が、単独あるいは混合して使用され、その使用量
は特に制限されない。この反応において酸無水物または
酸ハライドを用いる場合には、該反応は触媒を用いて行
われる。
ボン酸〔III〕とのエステル化反応においては、溶媒を
使用してもよく、溶媒を使用する場合、その溶媒として
は、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキサ
ン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ケト
ン、アミドまたはハロゲン化炭化水素等の反応に不活性
な溶媒が、単独あるいは混合して使用され、その使用量
は特に制限されない。この反応において酸無水物または
酸ハライドを用いる場合には、該反応は触媒を用いて行
われる。
酸無水物または酸ハライドの使用量は、アルコール類
〔IV〕に対して1当量倍以上必要であり、上限について
は特に制限されないが、好ましくは4当量倍以下であ
る。
〔IV〕に対して1当量倍以上必要であり、上限について
は特に制限されないが、好ましくは4当量倍以下であ
る。
触媒としては、たとえばジメチルアミノピリジン、ト
リエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピコリン、
イミダゾール、炭酸ナトリウムもしくは炭酸水素カリウ
ム等の有機または無機塩基性物質があげられ、また、ト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの有機
酸または無機酸があげられる。
リエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピコリン、
イミダゾール、炭酸ナトリウムもしくは炭酸水素カリウ
ム等の有機または無機塩基性物質があげられ、また、ト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの有機
酸または無機酸があげられる。
触媒の使用量は特に制限されるものではないが、たと
えば酸ハライドを使用する場合には、該酸ハライドに対
して1当量倍以上である。
えば酸ハライドを使用する場合には、該酸ハライドに対
して1当量倍以上である。
また、反応において光学活性なカルボン酸〔III〕を
使用する場合には、該反応は縮合剤を用いて行われる。
使用する場合には、該反応は縮合剤を用いて行われる。
カルボン酸の使用量は通常、アルコール類〔IV〕に対
して1〜2当量倍である。
して1〜2当量倍である。
縮合剤としてはN,N′−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド、N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチルアミ
ノ)シクロヘキシルカルボジイミドのごときカルボジイ
ミドが好ましく用いられ、また必要により4−ピロリジ
ノピリジン、ピリジン、トリエチルアミンのごとき有機
塩基が併用される。縮合剤の使用量は光学活性なカルボ
ン酸〔III〕に対して1〜1.2当量倍である。
ミド、N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチルアミ
ノ)シクロヘキシルカルボジイミドのごときカルボジイ
ミドが好ましく用いられ、また必要により4−ピロリジ
ノピリジン、ピリジン、トリエチルアミンのごとき有機
塩基が併用される。縮合剤の使用量は光学活性なカルボ
ン酸〔III〕に対して1〜1.2当量倍である。
有機塩基を使用する場合には、その使用量は、縮合剤
に対して0.01〜0.2当量倍である。
に対して0.01〜0.2当量倍である。
反応温度は通常−80℃〜120℃、好ましくは−20℃〜9
0℃である。
0℃である。
反応時間は特に制限されず、アルコール類〔IV〕を反
応系から検出しなくなった時を反応終点とする。
応系から検出しなくなった時を反応終点とする。
こうして得られた反応混合物に、たとえば抽出、分
液、濃縮、再結晶またはカラムクロマドグラフィー等の
通常の後処理操作を加えることにより、ベンジルオキシ
ベンゼン誘導体〔II〕が得られる。
液、濃縮、再結晶またはカラムクロマドグラフィー等の
通常の後処理操作を加えることにより、ベンジルオキシ
ベンゼン誘導体〔II〕が得られる。
光学活性なカルボン酸〔III〕における置換基R
*は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数3〜
15の光学活性なアルキル基またはアルコキシアルキル基
であり、例えば次のものがあげられる。
*は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数3〜
15の光学活性なアルキル基またはアルコキシアルキル基
であり、例えば次のものがあげられる。
1−メチルプロピル、1−メチルブチル、2−メチル
ブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、
2,3−ジメチルブチル、1,2,2−トリメチルブチル、1,2,
3−トリメチルブチル、2,3,3−トリメチルブチル、1−
メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペン
チル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチルペンチ
ル、2,3−ジメチルペンチル、2,4−ジメチルペンチル、
1,2,2,3−テトラメチルペンチル、1−メチルヘキシ
ル、2−メチルヘキシル、3−メチルキシル、4−メチ
ルヘキシル、1,2−ジメチルヘキシル、1,3−ジメチルヘ
キシル、1,4−ジメチルヘキシル、1−メチルヘプチ
ル、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メ
チルヘプチル、5−メチルヘプチル、1,3−ジメチルヘ
プチル、1−メチルオクチル、2−メチルオクチル、3
−メチルオクチル、4−メチルオクチル、5−メチルオ
クチル、6−メチルオクチル、1,2−ジメチルオクチ
ル、1,4−ジメチルオクチル、1−メチルノニル、2−
メチルノニル、3−メチルノニル、4−メチルノニル、
5−メチルノニル、6−メチルノニル、7−メチルノニ
ル、1,2−ジメチルノニル、1−メチルデシル、2−メ
チルデシル、3−メチルデシル、4−メチルデシル、5
−メチルデシル、6−メチルデシル、7−メチルデシ
ル、8−メチルデシル、1−メチルウンデシル、9−メ
チルウンデシル、1−メチルドデシル、10−メチルドデ
シル、メトキシエチル、メトキシプロピル、メトキシブ
チル、メトキシペンチル、メトキシヘキシル、メトキシ
ヘプチル、メトキシオクチル、メトキシノニル、メトキ
シデシル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキ
シブチル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エト
キシヘプチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エ
トキシデシル、プロポキシエチル、プロポキシプロピ
ル、プロポキシブチル、プロポキシペンチル、プロポキ
シヘキシル、プロポキシヘプチル、プロポキシオクチ
ル、プロポキシノニル、プロポキシデシル、ブトキシエ
チル、ブトキシプロピル、ブトキシブチル、ブトキシペ
ンチル、ブトキシヘキシル、ブトキシヘプチル、ブトキ
シオクチル、ブトキシノニル、ブトキシデシル、ペンチ
ルオキシエチル、ペンチルオキシプロピル、ペンチルオ
キシブチル、ペンチルオキシペンチル、ペンチルオキシ
ヘキシル、ペンチルオキシオクチル、ヘキシルオキシデ
シル、ペンチルオキシエチル、ヘキシルオキシプロピ
ル、ヘキシルオキシブチル、ヘキシルオキシペンチル、
ヘキシルオキシヘキシル、ヘプチルオキシエチル、ヘプ
チルオキシプロピル、ヘプチルオキシブチル、ヘプチル
オキシペンチル、オクチルオキシエチル、オクチルオキ
シプロピル、デシルオキシエチル、デシルオキシプロピ
ル、1−ハロプロピル、1−ハロブチル、1−ハロペン
チル、1−ハロヘキシル、1−ハロヘプチル、1−ハロ
オクチル、1−ハロ−2−メチルプロピル、1−ハロ−
2−メチルブチル、1−ハロ−2−メチルペンチル、1
−ハロ−2−メチルヘキシル、1−ハロ−2−メチルヘ
キシル、1−ハロ−2−メチルオクチル、2−トリハロ
メチルペンチル、2−トリハロメチルヘキシル、2−ト
リハロメチルヘプチル、2−ハロプロピル、3−ハロ−
2−メチルプロピル、2,3−ジハロプロピル、2−ハロ
ブチル、3−ハロブチル、2、3−ジハロブチル、2,4
−ジハロブチル、3,4−ジハロブチル、2−ハロ−3−
メチルブチル、2−ハロ−3,3−ジメチルブチル、2−
ハロペンチル、3−ハロペンチル、4−ハロペンチル、
2,4−ジハロペンチル、2,5−ジハロペンチル、2−ハロ
−3−メチルペンチル、2−ハロ−4−メチルペンチ
ル、2−ハロ−3−モノハロメチル−4−メチルペンチ
ル、2−ハロヘキシル、3−ハロヘキシル、4−ハロヘ
キシル、5−ハロヘキシル、2−ハロヘプチル、2−ハ
ロオクチル(但し、上記例示中、ハロとはフッ素、塩
素、臭素またはヨウ素を表わす。) この反応においては、これらの置換基を有するカルボ
ン酸またはそれらの無水化物あるいは酸クロリドまたは
酸ブロミド等の酸ハライドが使用される。
ブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、
2,3−ジメチルブチル、1,2,2−トリメチルブチル、1,2,
3−トリメチルブチル、2,3,3−トリメチルブチル、1−
メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペン
チル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチルペンチ
ル、2,3−ジメチルペンチル、2,4−ジメチルペンチル、
1,2,2,3−テトラメチルペンチル、1−メチルヘキシ
ル、2−メチルヘキシル、3−メチルキシル、4−メチ
ルヘキシル、1,2−ジメチルヘキシル、1,3−ジメチルヘ
キシル、1,4−ジメチルヘキシル、1−メチルヘプチ
ル、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メ
チルヘプチル、5−メチルヘプチル、1,3−ジメチルヘ
プチル、1−メチルオクチル、2−メチルオクチル、3
−メチルオクチル、4−メチルオクチル、5−メチルオ
クチル、6−メチルオクチル、1,2−ジメチルオクチ
ル、1,4−ジメチルオクチル、1−メチルノニル、2−
メチルノニル、3−メチルノニル、4−メチルノニル、
5−メチルノニル、6−メチルノニル、7−メチルノニ
ル、1,2−ジメチルノニル、1−メチルデシル、2−メ
チルデシル、3−メチルデシル、4−メチルデシル、5
−メチルデシル、6−メチルデシル、7−メチルデシ
ル、8−メチルデシル、1−メチルウンデシル、9−メ
チルウンデシル、1−メチルドデシル、10−メチルドデ
シル、メトキシエチル、メトキシプロピル、メトキシブ
チル、メトキシペンチル、メトキシヘキシル、メトキシ
ヘプチル、メトキシオクチル、メトキシノニル、メトキ
シデシル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキ
シブチル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エト
キシヘプチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エ
トキシデシル、プロポキシエチル、プロポキシプロピ
ル、プロポキシブチル、プロポキシペンチル、プロポキ
シヘキシル、プロポキシヘプチル、プロポキシオクチ
ル、プロポキシノニル、プロポキシデシル、ブトキシエ
チル、ブトキシプロピル、ブトキシブチル、ブトキシペ
ンチル、ブトキシヘキシル、ブトキシヘプチル、ブトキ
シオクチル、ブトキシノニル、ブトキシデシル、ペンチ
ルオキシエチル、ペンチルオキシプロピル、ペンチルオ
キシブチル、ペンチルオキシペンチル、ペンチルオキシ
ヘキシル、ペンチルオキシオクチル、ヘキシルオキシデ
シル、ペンチルオキシエチル、ヘキシルオキシプロピ
ル、ヘキシルオキシブチル、ヘキシルオキシペンチル、
ヘキシルオキシヘキシル、ヘプチルオキシエチル、ヘプ
チルオキシプロピル、ヘプチルオキシブチル、ヘプチル
オキシペンチル、オクチルオキシエチル、オクチルオキ
シプロピル、デシルオキシエチル、デシルオキシプロピ
ル、1−ハロプロピル、1−ハロブチル、1−ハロペン
チル、1−ハロヘキシル、1−ハロヘプチル、1−ハロ
オクチル、1−ハロ−2−メチルプロピル、1−ハロ−
2−メチルブチル、1−ハロ−2−メチルペンチル、1
−ハロ−2−メチルヘキシル、1−ハロ−2−メチルヘ
キシル、1−ハロ−2−メチルオクチル、2−トリハロ
メチルペンチル、2−トリハロメチルヘキシル、2−ト
リハロメチルヘプチル、2−ハロプロピル、3−ハロ−
2−メチルプロピル、2,3−ジハロプロピル、2−ハロ
ブチル、3−ハロブチル、2、3−ジハロブチル、2,4
−ジハロブチル、3,4−ジハロブチル、2−ハロ−3−
メチルブチル、2−ハロ−3,3−ジメチルブチル、2−
ハロペンチル、3−ハロペンチル、4−ハロペンチル、
2,4−ジハロペンチル、2,5−ジハロペンチル、2−ハロ
−3−メチルペンチル、2−ハロ−4−メチルペンチ
ル、2−ハロ−3−モノハロメチル−4−メチルペンチ
ル、2−ハロヘキシル、3−ハロヘキシル、4−ハロヘ
キシル、5−ハロヘキシル、2−ハロヘプチル、2−ハ
ロオクチル(但し、上記例示中、ハロとはフッ素、塩
素、臭素またはヨウ素を表わす。) この反応においては、これらの置換基を有するカルボ
ン酸またはそれらの無水化物あるいは酸クロリドまたは
酸ブロミド等の酸ハライドが使用される。
なお、光学活性なカルボン酸のうちあるものは、対応
するアルコールの酸化またはアミノ酸の還元的脱アミノ
化により得られ、また、あるものは天然に存在するか、
あるいは分割により得られる以下に示すような光学活性
アミノ酸または光学活性オキシ酸より誘導することがで
きる。
するアルコールの酸化またはアミノ酸の還元的脱アミノ
化により得られ、また、あるものは天然に存在するか、
あるいは分割により得られる以下に示すような光学活性
アミノ酸または光学活性オキシ酸より誘導することがで
きる。
アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニ
ルアラニン、セリン、スレオニン、アロスレオニン、ホ
モセリン、アロイソロイシン、tert.−ロイシン、2−
アミノ酪酸、ノルバリン、ノルロイシン、オルニチン、
リジン、ヒドロキシリジン、フェニルグリシン、トリフ
ルオロアラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、乳
酸、マンデル酸、トロパ酸、3−ヒドロキシ酪酸、リン
ゴ酸、酒石酸、イソプロピルリンゴ酸等。
ルアラニン、セリン、スレオニン、アロスレオニン、ホ
モセリン、アロイソロイシン、tert.−ロイシン、2−
アミノ酪酸、ノルバリン、ノルロイシン、オルニチン、
リジン、ヒドロキシリジン、フェニルグリシン、トリフ
ルオロアラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、乳
酸、マンデル酸、トロパ酸、3−ヒドロキシ酪酸、リン
ゴ酸、酒石酸、イソプロピルリンゴ酸等。
第二工程である光学活性なベンジルオキシベンゼン誘
導体〔II〕の脱ベンジル化反応において、使用される水
添触媒としては、PtO2、Pt−C等の白金系、Pd−C、Pd
−BaSO4、パラジウム黒等のパラジウム系、Rh−C、Rh
−Al2O3等のロジウム系、RuO2、Ru−C等のルテニウム
系もしくはラネーニッケル等のニッケル系触媒など例示
され、特にパラジウム系触媒が好ましく使用される。
導体〔II〕の脱ベンジル化反応において、使用される水
添触媒としては、PtO2、Pt−C等の白金系、Pd−C、Pd
−BaSO4、パラジウム黒等のパラジウム系、Rh−C、Rh
−Al2O3等のロジウム系、RuO2、Ru−C等のルテニウム
系もしくはラネーニッケル等のニッケル系触媒など例示
され、特にパラジウム系触媒が好ましく使用される。
水添触媒は、一般式〔II〕で示される光学活性なベン
ジルオキシベンゼン誘導体に対して通常0.01〜100重量
%、好ましくは0.1〜50重量%使用される。
ジルオキシベンゼン誘導体に対して通常0.01〜100重量
%、好ましくは0.1〜50重量%使用される。
溶媒としてはメタノール、エタノール等のアルコール
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル
等のエステル類、ジメチルホルムアミド等のアミド類、
酢酸等の脂肪酸類もしくは水などが例示され、これらは
単独あるいは混合して使用される。
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル
等のエステル類、ジメチルホルムアミド等のアミド類、
酢酸等の脂肪酸類もしくは水などが例示され、これらは
単独あるいは混合して使用される。
上記反応は、通常常圧もしくは加圧下に行われ、その
圧力の範囲は通常1〜200気圧である。
圧力の範囲は通常1〜200気圧である。
反応温度は、通常0〜200℃、好ましくは20〜180℃で
ある。
ある。
反応時間は特に限定されないが、光学活性なベンジル
オキシベンゼン誘導体〔II〕を反応系から検出しなくな
った時もしくは水素吸収の停止した時を反応終点とす
る。
オキシベンゼン誘導体〔II〕を反応系から検出しなくな
った時もしくは水素吸収の停止した時を反応終点とす
る。
こうして得られた反応混合物に、濾過、濃縮、再結
晶、蒸留またはカラムクロマトグラフィー等の通常の後
処理操作を加えることにより、一般式〔I〕で示される
光学活性なフェノール誘導体が得られる。
晶、蒸留またはカラムクロマトグラフィー等の通常の後
処理操作を加えることにより、一般式〔I〕で示される
光学活性なフェノール誘導体が得られる。
〈発明の効果〉 本発明化合物である、新規な光学活性フェノール誘導
体〔I〕は、例えば次式に示されるような方法により、
新規な液晶化合物〔V〕へ導くことができ、該化合物は
強誘電性液晶として非常に優れた性質を有している。
体〔I〕は、例えば次式に示されるような方法により、
新規な液晶化合物〔V〕へ導くことができ、該化合物は
強誘電性液晶として非常に優れた性質を有している。
(ここで、Arはフェニレン基、ビフェニレン基あるいは
複素環基などを示し、Yはアルキル基あるいはアルコキ
シル基などを示す。R*及びnは前記と同じ意味であ
る。) また、本発明の製造法により、該フェノール誘導体
〔I〕を工業的に有利に製造することができる。
複素環基などを示し、Yはアルキル基あるいはアルコキ
シル基などを示す。R*及びnは前記と同じ意味であ
る。) また、本発明の製造法により、該フェノール誘導体
〔I〕を工業的に有利に製造することができる。
さらに、前記一般式〔I〕で示される新規な光学活性
フェノール誘導体は農薬、医薬等の中間体としても利用
することができる。
フェノール誘導体は農薬、医薬等の中間体としても利用
することができる。
〈実施例〉 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例1 温度計、撹拌装置装着した4つ口フラスコに1−ベン
ジルオキシ−4−(3−ヒドロキシプロピル)ベンゼン
4.85g(200mmol)、2S−メチルブタン酸2.45g(24mmo
l)及び4−ピロリジノピリジン20mgを加え、室温で24
時間撹拌した。
ジルオキシ−4−(3−ヒドロキシプロピル)ベンゼン
4.85g(200mmol)、2S−メチルブタン酸2.45g(24mmo
l)及び4−ピロリジノピリジン20mgを加え、室温で24
時間撹拌した。
反応終了後、反応混合物を濾過し、得られた濾液を5
%酢酸、水、5%重曹水、飽和食塩水の順で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥の後、減圧濃縮した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
液:トルエン/酢酸エチル=40/1)に供し、1−ベンジ
ルオキシ−4−〔3−(2S−メチルブタノイルオキシ)
プロピル〕ベンゼン〔II−1〕5.55g[収率85%、▲
〔α〕20 D▼=+7.6゜(c=1、CHCl3)、▲n20 D▼=
1.5311]を得た。
%酢酸、水、5%重曹水、飽和食塩水の順で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥の後、減圧濃縮した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
液:トルエン/酢酸エチル=40/1)に供し、1−ベンジ
ルオキシ−4−〔3−(2S−メチルブタノイルオキシ)
プロピル〕ベンゼン〔II−1〕5.55g[収率85%、▲
〔α〕20 D▼=+7.6゜(c=1、CHCl3)、▲n20 D▼=
1.5311]を得た。
ここで得た〔II−1〕3.26g(10mmol)をエタノール8
0mlに溶解させ、10%Pd/C 0.3gを加えて水素圧1〜1.2
気圧下で12時間激しく撹拌した。
0mlに溶解させ、10%Pd/C 0.3gを加えて水素圧1〜1.2
気圧下で12時間激しく撹拌した。
反応終了後、Pd/Cを濾別し、得られた濾液を減圧下、
濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出液:トルエン/酢酸エチル=10/1)に供
し、4−〔3−(2S−メチルブタノイルオキシ)プロピ
ル〕フェノール〔I−1〕2.24g(収率95%)を得た。
濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出液:トルエン/酢酸エチル=10/1)に供
し、4−〔3−(2S−メチルブタノイルオキシ)プロピ
ル〕フェノール〔I−1〕2.24g(収率95%)を得た。
▲〔α〕20 D▼=+32.3゜、(c=1、CHCl3)▲n20 D
▼=1.5058 実施例2〜5 実施例1で用いた2S−メチルブタン酸に代えて、表−
1に記載の光学活性カルボン酸〔III〕を用いる以外は
実施例1と同様にして、反応、後処理及び精製を行っ
た。結果を表−1に示す。
▼=1.5058 実施例2〜5 実施例1で用いた2S−メチルブタン酸に代えて、表−
1に記載の光学活性カルボン酸〔III〕を用いる以外は
実施例1と同様にして、反応、後処理及び精製を行っ
た。結果を表−1に示す。
実施例6 実施例1において原料として使用した1−ベンジルオ
キシ−4−(3−ヒドロキシプロピル)ベンゼンに代え
て、1−ベンジルオキシ−4−(2−ヒドロキシエチ
ル)ベンゼンを用いる以外は実施例1と同様にして、反
応、後処理及び精製を行い、1−ベンジルオキシ−4−
〔2−2S−メチルブタノイル)エチル〕ベンゼン〔II−
6〕5.50g(収率88%)を得た。▲〔α〕20 D▼=+8.2
゜(c=1、CHCl3)▲n20 D▼=1.5340 ここで得られた〔II−6〕を実施例1で用いた〔II−
1〕に代えて、反応、後処理及び精製を行い、4−〔2
−(2S−メチルブタノイルオキシ)エチル〕フェノール
〔I−6〕2.18g(収率98%)を得た。▲〔α〕20 D▼=
+33.8゜(c=1、CHCl3)、▲n20 D▼=1.5066 実施例7〜8 実施例6で使用した2S−メチルブタン酸に代えて、表
−2に記載の光学活性カルボン酸〔III〕を用いる以外
は実施例6と同様にして、反応、後処理及び精製を行っ
た。結果を表−2に示す。
キシ−4−(3−ヒドロキシプロピル)ベンゼンに代え
て、1−ベンジルオキシ−4−(2−ヒドロキシエチ
ル)ベンゼンを用いる以外は実施例1と同様にして、反
応、後処理及び精製を行い、1−ベンジルオキシ−4−
〔2−2S−メチルブタノイル)エチル〕ベンゼン〔II−
6〕5.50g(収率88%)を得た。▲〔α〕20 D▼=+8.2
゜(c=1、CHCl3)▲n20 D▼=1.5340 ここで得られた〔II−6〕を実施例1で用いた〔II−
1〕に代えて、反応、後処理及び精製を行い、4−〔2
−(2S−メチルブタノイルオキシ)エチル〕フェノール
〔I−6〕2.18g(収率98%)を得た。▲〔α〕20 D▼=
+33.8゜(c=1、CHCl3)、▲n20 D▼=1.5066 実施例7〜8 実施例6で使用した2S−メチルブタン酸に代えて、表
−2に記載の光学活性カルボン酸〔III〕を用いる以外
は実施例6と同様にして、反応、後処理及び精製を行っ
た。結果を表−2に示す。
実施例9 実施例において原料として使用した1−ベンジルオキ
シ−4−(4−ヒドロキシブチル)ベンゼンを用いる以
外は実施例1と同様にして、反応、後処理及び精製を行
い、1−ベンジルオキシ−4−〔4−(2S−メチルブタ
ノイル)ブチル〕ベンゼン〔II−9〕5.72g(収率84
%)を得た。▲〔α〕20 D▼=+7.1゜(c=1、CHC
l3)、▲n20 D▼=1.5322 ここで得た〔II−9〕を実施例1で用いた〔II−1〕
に代えて、反応、後処理及び精製を行い、4−〔4−
(2S−メチルブタノイルオキシ)ブチル)フェノール
〔I−9〕2.40g(収率96%)を得た。▲〔α〕20 D▼=
+29.8゜(c=1、CHCl3)、▲n20 D▼=1.5049 実施例10〜11 実施例9で使用した2S−メチルブタン酸に代えて、表
−3に記載の光学活性カルボン酸〔III〕を用いる以外
は実施例9と同様にして、反応、後処理及び精製を行っ
た。結果を表−3に示す。
シ−4−(4−ヒドロキシブチル)ベンゼンを用いる以
外は実施例1と同様にして、反応、後処理及び精製を行
い、1−ベンジルオキシ−4−〔4−(2S−メチルブタ
ノイル)ブチル〕ベンゼン〔II−9〕5.72g(収率84
%)を得た。▲〔α〕20 D▼=+7.1゜(c=1、CHC
l3)、▲n20 D▼=1.5322 ここで得た〔II−9〕を実施例1で用いた〔II−1〕
に代えて、反応、後処理及び精製を行い、4−〔4−
(2S−メチルブタノイルオキシ)ブチル)フェノール
〔I−9〕2.40g(収率96%)を得た。▲〔α〕20 D▼=
+29.8゜(c=1、CHCl3)、▲n20 D▼=1.5049 実施例10〜11 実施例9で使用した2S−メチルブタン酸に代えて、表
−3に記載の光学活性カルボン酸〔III〕を用いる以外
は実施例9と同様にして、反応、後処理及び精製を行っ
た。結果を表−3に示す。
参考例(液晶化合物の製造例) 参考例1 撹拌装置、温度計を装着した4つ口フラスコに(−)
−4−[3−(2S−メチルブタノイルオキシ)プロピ
ル]フェノール1.18g(5mmol)、4−デシルオキシ安息
香酸1.67g(6mmol)と無水ジクロルメタン30mlを仕込
み、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1.22g(6m
mol)と4−ピロリジノピリジン0.1gを加えて、室温、
一昼夜撹拌した。
−4−[3−(2S−メチルブタノイルオキシ)プロピ
ル]フェノール1.18g(5mmol)、4−デシルオキシ安息
香酸1.67g(6mmol)と無水ジクロルメタン30mlを仕込
み、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1.22g(6m
mol)と4−ピロリジノピリジン0.1gを加えて、室温、
一昼夜撹拌した。
反応終了後、生じた沈澱を濾別し、トルエン200mlで
希釈し、得られた有機層を水、5%酢酸水、水、5%重
曹水、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧下、濃縮した。これをシリカゲルクロマト精製
(溶出液:トルエン−酢酸エチル)することにより
(−)−4−デシルオキシ安息香酸4−[3−(2S−メ
チルブタノイルオキシ)プロピル]フェニルエステル2.
16g(収率87%)を得た。
希釈し、得られた有機層を水、5%酢酸水、水、5%重
曹水、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧下、濃縮した。これをシリカゲルクロマト精製
(溶出液:トルエン−酢酸エチル)することにより
(−)−4−デシルオキシ安息香酸4−[3−(2S−メ
チルブタノイルオキシ)プロピル]フェニルエステル2.
16g(収率87%)を得た。
▲〔α〕20 D▼=−2.6゜(c=1、CHCl3) 参考例2 参考例1で用いた4−デシルオキシ安息香酸に代え
て、4′−オクチルオキシ−4−ビフェニルカルボン酸
を用いる以外は、参考例1と同様にして反応及び後処理
を行い、(−)−4′−ビフェニルカルボン酸4−[3
−(2S−メチルブタノイルオキシ)プロピル]フェニル
エステル2.32g(収率85%)を得た。
て、4′−オクチルオキシ−4−ビフェニルカルボン酸
を用いる以外は、参考例1と同様にして反応及び後処理
を行い、(−)−4′−ビフェニルカルボン酸4−[3
−(2S−メチルブタノイルオキシ)プロピル]フェニル
エステル2.32g(収率85%)を得た。
▲〔α〕20 D▼=−1.9゜(c=1、CHCl3) 相系列
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 南井 正好 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番 98号 住友化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−31891(JP,A) 特開 平2−131443(JP,A) 特開 平1−156722(JP,A) Chem.Plarm,Bull., 29〔11〕 (1981),3202−3207 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 69/24 C07C 67/08
Claims (3)
- 【請求項1】一般式〔I〕 (式中、R*はハロゲン原子で置換されていてもよい炭
素数3〜15の光学活性なアルキル基またはアルコキシア
ルキル基を表わす。nは1〜6の整数を表わす。) で示される光学活性なフェノール誘導体。 - 【請求項2】一般式〔II〕 (式中、R*及びnは前記と同じ意味を表わす。) で示される光学活性なベンジルオキシベンゼン誘導体
を、水添触媒及び水素の存在下に脱ベンジル化すること
を特徴とする請求項1に記載の光学活性なフェノール誘
導体の製造法。 - 【請求項3】一般式〔IV〕 (式中、nは前記と同じ意味を表わす。) で示されるアルコール類と、一般式 R*COOH (式中、R*は前記と同じ意味を表わす。) で示される光学活性なカルボン酸もしくはその誘導体と
を、触媒もしくは縮合剤の存在下に反応させ請求項2に
記載の一般式〔II〕で示される光学活性なベンジルオキ
シベンゼン誘導体とした後、該誘導体を水添触媒及び水
素の存在下に脱ベンジル化することを特徴とする請求項
1に記載の光学活性なフェノール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1236290A JP2800302B2 (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 光学活性なフェノール誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1236290A JP2800302B2 (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 光学活性なフェノール誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0399036A JPH0399036A (ja) | 1991-04-24 |
| JP2800302B2 true JP2800302B2 (ja) | 1998-09-21 |
Family
ID=16998601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1236290A Expired - Fee Related JP2800302B2 (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 光学活性なフェノール誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2800302B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6624112B2 (en) | 2001-03-06 | 2003-09-23 | N.E. Chemcat Corporation | Hydrogenolysis catalyst |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003026636A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-29 | Gekkeikan Sake Co Ltd | 脂質代謝系酵素を阻害するチロゾール誘導体 |
| JP4219776B2 (ja) | 2003-05-16 | 2009-02-04 | パイロットインキ株式会社 | 感温変色性色彩記憶性組成物及びそれを内包した感温変色性色彩記憶性マイクロカプセル顔料 |
| JP2025165194A (ja) * | 2024-04-22 | 2025-11-04 | 住友化学株式会社 | フェノール系化合物、安定剤、有機材料組成物、及び有機材料の安定化方法 |
-
1989
- 1989-09-11 JP JP1236290A patent/JP2800302B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Chem.Plarm,Bull.,29〔11〕 (1981),3202−3207 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6624112B2 (en) | 2001-03-06 | 2003-09-23 | N.E. Chemcat Corporation | Hydrogenolysis catalyst |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0399036A (ja) | 1991-04-24 |
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