JP2823741B2 - Method for producing bismuth germanate single crystal - Google Patents
Method for producing bismuth germanate single crystalInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はゲルマニウム酸ビスマス
単結晶の製造方法、特には光学用、X線シンチレータ用
として有用とされるゲルマニウム酸ビスマス単結晶の製
造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a bismuth germanate single crystal, and more particularly to a method for producing a bismuth germanate single crystal which is useful for optics and X-ray scintillators.
【0002】[0002]
【従来の技術】シンチレーターとして使用されるゲルマ
ニウム酸ビスマス単結晶(以下 BGO結晶と略記する)に
は発光量の大きいことが要求されるのであるが、このも
のは結晶中のボイドと結晶の着色のために発光量が低下
するという欠点がある(K. Takagi et al., J. Cryst.
Growth 52(1981), 584)。2. Description of the Related Art A single crystal of bismuth germanate (hereinafter abbreviated as BGO crystal) used as a scintillator is required to have a large amount of light emission. Has the disadvantage that the luminescence is reduced (K. Takagi et al., J. Cryst.
Growth 52 (1981), 584).
【0003】この結晶欠陥の原因はまだはっきりとした
ことは判っていないが、結晶中の不純物の存在が原因と
して挙げられていることから、結晶中の不純物濃度を結
晶化を繰り返して行なうことによって低減化させる方法
が提案されているが、これには結晶化を複数回繰り返す
ために生産性が悪いという欠点がある。Although the cause of this crystal defect is not yet clear, since the presence of impurities in the crystal has been cited as a cause, the concentration of impurities in the crystal can be determined by repeating crystallization. Although a method for reducing the amount has been proposed, this method has a drawback that productivity is poor because crystallization is repeated a plurality of times.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】また、これについては
BGO結晶の結晶欠陥の原因はBGO 結晶中のゲルマニウム
酸ビスマス(Bi4Ge3O12 )以外の相の影響と見なし、Bi
2O3 とGeO2とを所定の比率(通常は化学量論比)で混合
し、適当な温度で焼成して、予じめBi4Ge3O12 の組成物
をつくり、これを原料として使用することが提案されて
おり(G. Gevay,Prog. Cryst. Growth and Charact. 15
(1987)145)、これには焼成時の温度、焼成時間、焼成
の回数なども明らかにされている。The problem to be solved by the present invention
The cause of the crystal defects in the BGO crystal is considered to be the effect of phases other than bismuth germanate (Bi 4 Ge 3 O 12 ) in the BGO crystal.
2 O 3 and GeO 2 are mixed at a predetermined ratio (usually stoichiometric ratio) and fired at an appropriate temperature to produce a Bi 4 Ge 3 O 12 composition in advance, which is used as a raw material. It has been proposed for use (G. Gevay, Prog. Cryst. Growth and Charact. 15
(1987) 145), which also discloses the firing temperature, firing time, number of firings, and the like.
【0005】しかし、実際にこの公知の方法で焼成原料
を調製し、この焼成原料を用いてチョクラルスキー法ま
たはブリッジマン法で BGO結晶を育成し、これよりシン
チレーターを作成すると、このものは従来公知の方法で
調製した原料から育成した結晶で作成したシンチレータ
ーよりも発光量が少なくなるという欠点が見られた。However, when a baking material is actually prepared by this known method, and a BGO crystal is grown by using the baking material by the Czochralski method or the Bridgman method, and a scintillator is prepared therefrom, There was a defect that the amount of luminescence was smaller than that of a scintillator made of a crystal grown from a raw material prepared by a known method.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不利
を解決することのできる BGO結晶の製造方法に関するも
のであり、これは酸化ビスマスと酸化ゲルマニウムとの
混合焼成組成物の融液からゲルマニウム酸ビスマス単結
晶を成長させるに際し、昇温速度を10℃/分以上とした
焼成条件で調製した原料を用いることを特徴とするもの
である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a BGO crystal which can solve such disadvantages, and comprises a method for producing a mixture of bismuth oxide and germanium oxide from a melt of a fired composition. In growing a bismuth acid single crystal, a raw material prepared under firing conditions with a temperature rising rate of 10 ° C./min or more is used.
【0007】すなわち、本発明者らは発光量の大きい B
GO結晶の製造方法を開発すべく種々検討した結果、これ
については純度の高い酸化ビスマス(Bi2O3 )と酸化ゲ
ルマニウム(GeO2)とを混合し、焼成すれば結晶中の不
純物量は当然減少するし、この焼成時における昇温速度
を10℃/分以上の急昇温とすると Bi2O3の融解あるいは
蒸発という組成ずれの原因となる好ましくない現象を防
止することができるので、焼成原料中の異相の量を低減
下することができることを見出し、これによれば物性の
すぐれた BGO結晶を得ることができることを確認して本
発明を完成させた。以下にこれをさらに詳述する。[0007] That is, the present inventors consider that B
As a result of various studies to develop a method for manufacturing GO crystals, it was found that if high-purity bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) and germanium oxide (GeO 2 ) were mixed and fired, the amount of impurities in the crystal would naturally be If the rate of temperature rise during this firing is set to a rapid rise of 10 ° C./min or more, the undesirable phenomenon of melting or evaporating Bi 2 O 3 which causes a compositional deviation can be prevented. The present inventors have found that the amount of the hetero phase in the raw material can be reduced, and confirmed that the BGO crystal having excellent physical properties can be obtained according to the finding, thereby completing the present invention. This will be described in more detail below.
【0008】[0008]
【作用】本発明は BGO結晶の製造方法に関するものであ
り、これは融液から BGO結晶を成長させるに際し、昇温
速度を10℃/分以上とした焼成条件で調製した原料を用
いることを特徴とするものであり、これによれば不純物
の量が減少し、BGO 以外の異相のゲルマニウム酸ビスマ
スの量が少なくなるので、物性のすぐれた BGO結晶が得
られるという有利性が与えられる。The present invention relates to a method for producing a BGO crystal, which uses a raw material prepared under sintering conditions at a heating rate of 10 ° C./min or more when growing a BGO crystal from a melt. According to this, the amount of impurities is reduced, and the amount of bismuth germanate in a different phase other than BGO is reduced, thereby providing an advantage that a BGO crystal having excellent physical properties can be obtained.
【0009】本発明による BGO結晶の製造方法は、融液
から BGO結晶を成長させるに際し、原料組成物の焼成条
件を規定したものであるが、この原料組成物は酸化ビス
マス(Bi2O3 )と酸化ゲルマニウム(GeO2)との化学量
論比の混合物とされる。この酸化ビスマスと酸化ゲルマ
ニウムはこの焼成原料中に含まれる不純物量を低減下さ
せることから、純度が99%以上のものとすることが必要
とされるが、これらは純度が99.999%以上のものとする
ことが好ましい。しかし、この Bi2O3とGeO2との化学量
論比の混合物中にはP.Tissot and H,Lartique, Thermoc
himica Acta. 127(1983)377〜383 に記載されている図
1に示されているように、Bi3Ge4O12 以外に例えばBi12
GeO20 で示されるような組成物の含まれていることが、
本発明者らのよるX線回折法での調査によって明らかに
なった。In the method for producing a BGO crystal according to the present invention, when growing a BGO crystal from a melt, the sintering conditions of the raw material composition are specified. This raw material composition is composed of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ). And germanium oxide (GeO 2 ) in a stoichiometric ratio. Since the bismuth oxide and the germanium oxide reduce the amount of impurities contained in the raw material for firing, it is necessary that the purity be 99% or more. Is preferred. However, in this mixture of stoichiometric ratio of Bi 2 O 3 and GeO 2 , P. Tissot and H, Lartique, Thermoc
As shown in FIG. 1 described in himica Acta. 127 (1983) 377-383, besides Bi 3 Ge 4 O 12 , for example, Bi 12
The inclusion of a composition as shown by GeO 20 ,
Investigation by X-ray diffraction method by the present inventors revealed this.
【0010】そして、このB12GeO20のように Be3Ge4O12
以外の成分(以下これを異相という)が含まれている
と、これをルツボ中で加熱、溶解してもこの異相が融液
中に残存するために、この異相が育成結晶中に取り込ま
れてシンチレーターとしての特性を劣化させるもの推定
された。Then, as in the case of B 12 GeO 20 , Be 3 Ge 4 O 12
If other components (hereinafter referred to as “heterophase”) are contained, the heterophase remains in the melt even if it is heated and dissolved in a crucible, so this heterophase is incorporated into the grown crystal. It was presumed that the properties as a scintillator deteriorated.
【0011】しかるに、本発明者らがこの焼成原料の焼
成条件について従来知られていなかった昇温速度という
パラメーターを検討し、これを10℃/分という急昇温と
すると、焼成原料中の異相の量が低減化されるというこ
とが見出され、したがってこれによれば物性のよい BGO
結晶の得られることが見出された。However, the present inventors have studied a parameter of a heating rate, which was not conventionally known, for the firing conditions of the firing raw material. If the heating rate is set to 10 ° C./minute, a different phase in the firing raw material is obtained. Is found to be reduced, and therefore BGO
It was found that crystals were obtained.
【0012】したがって、本発明による BGO結晶の製造
方法は、焼成原料を昇温速度が10%/分以上とするとい
うものであるが、これは好ましくは15分以上とすること
がよく、この焼成温度は 850℃未満では BGOへの生成速
度が小さいためにBi12GeO20の相対量が高くなり、880
℃より高くすると原因は不明であるが異相の比率が高く
なるので 850〜 880℃とすればよい。Therefore, in the method for producing a BGO crystal according to the present invention, the heating rate of the raw material for firing is set to 10% / min or more, which is preferably set to 15 minutes or more. When the temperature is lower than 850 ° C, the relative amount of Bi 12 GeO 20 increases due to the low rate of formation into BGO,
If the temperature is higher than ℃, the cause is unknown, but the ratio of the different phases becomes high.
【0013】また、この焼成時間についてはこれが20時
間未満では BGOへの反応が充分進行しないので20時間以
上とすることがよいが、この焼成原料の厚さはこれが厚
さすぎると中央部品は熱の伝わり方が遅く、昇温速度が
実質上小さくなるので厚さが7cm以下のものとすること
がよい。If the firing time is less than 20 hours, the reaction to BGO does not proceed sufficiently. Therefore, it is preferable to set the firing time to 20 hours or more. And the thickness is preferably 7 cm or less since the rate of temperature rise is substantially reduced.
【0014】[0014]
【実施例】つぎに本発明の実施例をあげる。 実施例 純度が99.999%以上の酸化ビスマス(Bi2O3 )5,991gと
純度が99.999%以上の酸化ゲルマニウム(GeO2)2,025g
を秤取し、ボールミル中で5時間混合したのち、白金箔
を内張りしたアルミナ製の容器に装入し、この混合物を
熱電対をセットしたマッフル炉中で焼成した。Next, examples of the present invention will be described. Example 5,991 g of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) having a purity of 99.999% or more and 2,025 g of germanium oxide (GeO 2 ) having a purity of 99.999% or more
Was weighed and mixed in a ball mill for 5 hours, then charged into an alumina container lined with platinum foil, and fired in a muffle furnace equipped with a thermocouple.
【0015】この実験は、1)焼成温度、2)焼成時
間、3)焼成温度を変えて行なわれたが、これについて
はまず焼成後の原料中の異相であるBi12GeO20 の定量が
行なわれたが、これは予じめ BGO結晶とB12GeO20結晶と
を所定の比率で混合した試料を使用することとし、装置
として粉末X線回折装置を、X線源として CuKα1 を使
用し、BGO のピークを2θ=34.2度、B12GeO20のピーク
を2θ=33度としてそのX線回折スペクトルを測定して
検量線を作製し(図2参照し)、この検量線からBGO と
Bi12GeO20 のピーク比を求めた。This experiment was carried out by changing 1) the firing temperature, 2) the firing time, and 3) the firing temperature. First, the amount of Bi 12 GeO 20 in the raw material after firing was determined. However, it was decided to use a sample in which BGO crystal and B 12 GeO 20 crystal were mixed at a predetermined ratio, using a powder X-ray diffractometer as an apparatus and CuKα1 as an X-ray source, The X-ray diffraction spectrum was measured with the BGO peak at 2θ = 34.2 ° and the B 12 GeO 20 peak at 2θ = 33 ° to prepare a calibration curve (see FIG. 2).
The peak ratio of Bi 12 GeO 20 was determined.
【0016】これについてはBGO とBi12GeO20 とのピー
ク比とBi12GeO20 の重量%との相関について図3に示し
たとおりの結果が得られたことから、図3によりBi12Ge
O20の重量%が求めるということが確認されたし、850
℃で20時間焼成したときにこの昇温速度を2℃/分から
14℃/分まで変化させてそのときに得られた焼成物中に
おける異相としてのB12GO20 の重量%をしらべたとこ
ろ、図4に示したとおりの結果が得られたことから、こ
の昇温速度は10℃/分以上、特には15℃/分以上とすれ
ば異相の存在量を減少させることのできることが確認さ
れた。[0016] From the results as shown in Figure 3 the correlation between the weight% of the peak ratio and Bi 12 GeO 20 of BGO and Bi 12 GeO 20 about this is obtained, Bi 12 Ge by 3
It was confirmed that the weight percentage of O 20 was required, and 850
When baked at 20 ° C for 20 hours, the rate of temperature increase is 2 ° C / min.
When the weight% of B 12 GO 20 as a foreign phase in the calcined product obtained at that time was changed to 14 ° C./min, and the result as shown in FIG. 4 was obtained, It was confirmed that when the heating rate was 10 ° C./min or more, particularly 15 ° C./min or more, the abundance of the foreign phase could be reduced.
【0017】つぎにこれについては焼成温度を 800〜 9
00℃の範囲で変化させて1時間焼成したときの焼成組成
物中における異相としてのB12GeO20の重量%をしらべた
ところ、図5に示したとおりの結果が得られ、800 ℃で
は低すぎて、また 900℃では高すぎて異相の重量%が高
くなるので、これについては 850〜 880℃とすればよい
ことが判った。Next, the firing temperature is set to 800 to 9
When the weight% of B 12 GeO 20 as a hetero phase in the fired composition when the temperature was changed in the range of 00 ° C. for 1 hour was examined, the result shown in FIG. 5 was obtained. Since it is too high at 900 ° C. and the weight% of the heterophase becomes high, it has been found that the temperature should be 850 to 880 ° C.
【0018】また、この焼成時間については 850℃で5
時間〜40時間焼成したところ、図6に示したとおりの結
果が得られ、5時間では短すぎて異相の重量%がさほど
低下せず、10時間では15%程度になるが、これは20時間
以上とすれば5%以下となるので、これは10時間以上、
好ましくは20時間以上とすることがよい。The firing time at 850.degree.
When sintering for 40 hours to 40 hours, the results shown in FIG. 6 are obtained. In 5 hours, the weight% of the heterophase does not decrease so much, and in 10 hours, it becomes about 15%. If it is above, it will be 5% or less, so this is more than 10 hours,
Preferably, it is 20 hours or more.
【0019】なお、この焼成は酸化ビスマスと酸化ゲル
マニウムとの混合物をボールミル中で均一に混合してか
ら、焼成を均一にするために通常これを平板状に成形し
てから行なうのであるが、この板状体の厚さと異相とし
てのB12GeO20の重量%との関係をしらべたところ、これ
については図7に示したとおりの結果が得られ、8.4mm
ではこの異相の重量%が多くなることからこれは厚さを
7cm以下のものとすることがよいということが判った。The sintering is carried out after a mixture of bismuth oxide and germanium oxide is uniformly mixed in a ball mill, and is usually formed into a flat plate for uniform sintering. The relationship between the thickness of the plate and the weight% of B 12 GeO 20 as a different phase was examined. The result was as shown in FIG.
Since the weight% of this hetero phase increased, it was found that the thickness should be 7 cm or less.
【0020】[0020]
【発明の効果】本発明は BGO結晶の製造方法に関するも
のであり、これは前記したように酸化ビスマスと酸化ゲ
ルマニウムとの混合焼成組成物の融液から BGO結晶を成
長させるに際し、昇温速度を10℃/分以上とした焼成条
件で調製した原料を用いることを特徴とするものであ
り、これによれば不純物含有量が少なく、Bi12GeO20 の
ような異相のゲルマニウム酸ビスマス単結晶の含有量の
少ない酸化ビスマスと酸化ゲルマニウムとの混合焼成組
成物が得られるので、これから物性のすぐれた、したが
って光学用、シンチレーター用などとして有用とされる
BGO結晶を容易に得ることができるという有利性が与え
られる。The present invention relates to a method for producing a BGO crystal, which, when growing a BGO crystal from a melt of a mixed sintering composition of bismuth oxide and germanium oxide, as described above, increases the temperature rise rate. It is characterized by using a raw material prepared under sintering conditions of 10 ° C./min or more. According to this, the content of impurities is small, and the content of a heterophase bismuth germanate single crystal such as Bi 12 GeO 20 is contained. Since a mixed sintering composition of bismuth oxide and germanium oxide with a small amount can be obtained, it is considered to be excellent in physical properties, and thus useful for optics and scintillators.
The advantage is that BGO crystals can be obtained easily.
【図1】 Bi2O3 とGeO2との混合物のX線回折法による
組成図を示したものである。FIG. 1 shows a composition diagram of a mixture of Bi 2 O 3 and GeO 2 by an X-ray diffraction method.
【図2】 Bi2O3 とGeO2との焼成組成物のX線回折スペ
クトル図を示したものである。FIG. 2 shows an X-ray diffraction spectrum of a fired composition of Bi 2 O 3 and GeO 2 .
【図3】 BGO とBi12GeO20 とのピーク比とBi12GeO20
の重量%との相関図を示したものである。FIG. 3 Peak ratio between BGO and Bi 12 GeO 20 and Bi 12 GeO 20
FIG. 2 is a diagram showing a correlation with the weight% of the sample.
【図4】 Bi2O3 とGeO2との焼成組成物における昇温速
度と異相としてのBi12GeO20 の重量%との相関図を示し
たものである。FIG. 4 is a diagram showing a correlation between a heating rate of a fired composition of Bi 2 O 3 and GeO 2 and a weight% of Bi 12 GeO 20 as a different phase.
【図5】 Bi2O3 とGeO2との焼成組成物における焼成温
度と異相としてのBi12GeO20 の重量%との相関図を示し
たものである。FIG. 5 is a diagram showing a correlation between the sintering temperature and the weight% of Bi 12 GeO 20 as a different phase in a sintering composition of Bi 2 O 3 and GeO 2 .
【図6】 Bi2O3 とGeO2との焼成組成物における焼成時
間と異相としてのBi12GeO20 の重量%との相関図を示し
たものである。FIG. 6 is a diagram showing a correlation between the sintering time in the sintering composition of Bi 2 O 3 and GeO 2 and the weight% of Bi 12 GeO 20 as a different phase.
【図7】 Bi2O3 とGeO2との焼成組成物板状体の厚さと
異相としてのBi12GeO20 の重量%との相関図を示したも
のである。FIG. 7 is a graph showing a correlation between the thickness of a baked composition plate of Bi 2 O 3 and GeO 2 and the weight% of Bi 12 GeO 20 as a different phase.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 流王 俊彦 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (56)参考文献 特開 平2−74596(JP,A) 特開 平1−320295(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C30B 29/32──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Toshihiko Nagao 2-13-1 Isobe, Annaka-shi, Gunma Prefecture Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Precision Functional Materials Laboratory (56) References JP-A-2-74596 ( JP, A) JP-A-1-320295 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C30B 29/32
Claims (2)
焼成組成物の融液からゲルマニウム酸ビスマス単結晶を
成長させるに際し、昇温速度を10℃/分以上とした焼成
条件で調整した原料を用いることを特徴とするゲルマニ
ウム酸ビスマス単結晶の製造方法。In growing a bismuth germanate single crystal from a melt of a mixed firing composition of bismuth oxide and germanium oxide, a raw material adjusted under firing conditions of a temperature rising rate of 10 ° C./min or more is used. A method for producing a bismuth germanate single crystal, comprising:
焼成時間が20時間以上であることを特徴とする請求項1
に記載したゲルマニウム酸ビスマス単結晶の製造方法。2. The sintering temperature is in the range of 850 ° C. to 880 ° C.,
2. The sintering time is 20 hours or more.
The method for producing a single crystal of bismuth germanate described in 1 above.
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| JP16371792A JP2823741B2 (en) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | Method for producing bismuth germanate single crystal |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05330994A JPH05330994A (en) | 1993-12-14 |
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|---|---|---|---|---|
| KR100321373B1 (en) * | 1996-12-27 | 2002-07-27 | 포항종합제철 주식회사 | Crystal Production Method of Bismuth Germanium Oxide |
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1992
- 1992-05-29 JP JP16371792A patent/JP2823741B2/en not_active Expired - Fee Related
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