JP4454983B2 - Clean room construction method - Google Patents
Clean room construction method Download PDFInfo
- Publication number
- JP4454983B2 JP4454983B2 JP2003281813A JP2003281813A JP4454983B2 JP 4454983 B2 JP4454983 B2 JP 4454983B2 JP 2003281813 A JP2003281813 A JP 2003281813A JP 2003281813 A JP2003281813 A JP 2003281813A JP 4454983 B2 JP4454983 B2 JP 4454983B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean room
- air
- clean
- room
- construction area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000010276 construction Methods 0.000 title claims description 71
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000809 air pollutant Substances 0.000 description 2
- 231100001243 air pollutant Toxicity 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009435 building construction Methods 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 1
- 230000003442 weekly effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Ventilation (AREA)
Description
本発明は、空気質の高い高品質なクリーンルームが得られるクリーンルームの施工方法に関する。 The present invention relates to a clean room construction method capable of obtaining a high-quality clean room with high air quality.
クリーンルームの施工に際しては、クリーンルームの空気質を、低コスト,短工期で最終レベルにするために、建物建設段階から粉塵・化学物質汚染等の防止対策を行なっている。即ち、施工中の毎日の掃除、週毎の掃除を徹底し、また、建物の躯体工事、鉄骨工事完了後は、入室者に対して上履き入室を義務付け、その後、施工が進む毎に、入室者に対して、クリーンスーツの着用、さらにはエアーシャワーを介しての入室を義務付ける等してクリーンルームのクリーン施工化を図っている。
しかし、従来のクリーンルームの施工においては、躯体工事、鉄骨工事完了後はクリーンルームの施工エリアの空間に粉塵が浮遊しつづけるので、短期のクリーン化施工が図れないという課題があった。そこで、建物の躯体工事、鉄骨工事完了後にクリーンルームの施工エリアの空間に水を噴霧することにより粉塵を効率的に除去してクリーン化施工を図るという発明が本出願人により特許出願されている(特願2002−329426号)。
In the construction of clean rooms, measures are taken to prevent dust and chemical contamination from the building construction stage in order to bring the clean room air quality to the final level with low cost and short construction period. In other words, daily cleaning during construction and weekly cleaning are thoroughly conducted, and after completion of the building frame construction and steel frame construction, the occupants are required to put on their shoes, and each time the construction proceeds, On the other hand, the clean room is required to be cleanly constructed by wearing a clean suit and making it mandatory to enter the room through an air shower.
However, in the conventional clean room construction, there has been a problem that short-term clean-up construction cannot be achieved because the dust continues to float in the space of the clean room construction area after the completion of the frame construction and steel construction. Therefore, the present applicant has filed a patent application for an invention that efficiently removes dust by spraying water into the space of the construction area of the clean room after completion of the building frame construction and steel construction ( Japanese Patent Application No. 2002-329426).
上述したクリーンルームの施工方法においては、クリーンルームの施工中においてクリーンルームの施工エリアと外部との間の空気遮断は行われていない。従って、例えば、排気ガス中に含まれるNOX,SOX,アンモニア等、海岸近くでの建設の際のナトリウム、降雪地においての建設の際の融雪剤に含まれる塩化カルシウム等の大気汚染物質に晒された状態でクリーンルームの施工が行われていたので、クリーンルームの空気質を上げることができず、高品質なクリーンルームを得ることができなかった。 In the clean room construction method described above, air is not shut off between the clean room construction area and the outside during the clean room construction. Therefore, it is exposed to air pollutants such as NOX, SOX, ammonia, etc. contained in exhaust gas, such as sodium in construction near the coast, calcium chloride in snow melting agent in construction in snowy areas. Since the clean room was being constructed, the air quality of the clean room could not be improved and a high quality clean room could not be obtained.
本発明は、クリーンルームが設けられる建物の外装を構築した後、空調機により外気をフィルタ処理やエアーワッシャー処理したクリーンエアを上記建物の外装で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間に供給して内部空間を陽圧にすることにより内部空間と外気とを遮断してからこの内部空間内でクリーンルームの壁及び天井施工によりクリーンルームの空間を閉塞してクリーンルームの区画を構築するクリーンルームの施工を行う。
また、建物の外装が構築される前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材や建物の外装が構築された後にクリーンルーム施工エリアがクリーンエアで陽圧にされる前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材は外気に触れないように養生された状態で搬送してクリーンルーム施工エリアに搬入するとともに養生された状態の資機材によるクリーンルームの施工を行う。
また、建物の外装で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間にクリーンエアを供給して内部空間を陽圧にすることにより内部空間と外気とを遮断してからクリーンルーム施工エリアの出入口に前室を作成して、前室内にクリーンエアを供給して前室内を陽圧にし、外気に触れないように養生された状態の資機材を前室内に搬入し、前室内で資機材の養生を撤去してから当該資機材をクリーンルーム施工エリアに搬入して資機材によるクリーンルームの施工を行う。
また、クリーンルームの区画が構築された後に上記空調機のクリーンエア供給管をクリーンルーム内に延長してクリーンルーム内に上記空調機を介したクリーンエアを供給した。
The present invention is, after building the exterior of a building a clean room is provided, feeding subjected clean air outside air filters and air washers processed by the air conditioner in the internal space is a clean room construction area bounded by the exterior of the building Then, the internal space and the outside air are shut off by making the internal space positive, and then the clean room is constructed in this internal space by closing the clean room wall and ceiling by constructing the clean room. Do.
In addition, materials and equipment that are carried into the clean room construction area before the building exterior is constructed, and materials and equipment that are carried into the clean room construction area after the building exterior is built and before the clean room construction area is positively pressurized with clean air Is transported in a cured state so as not to be exposed to the outside air, and is carried into a clean room construction area, and a clean room is constructed with the cured materials and equipment.
Also, clean air is supplied to the interior space, which is the clean room construction area surrounded by the exterior of the building, and the internal space is made positive pressure to shut off the internal space and the outside air before entering the front room at the entrance of the clean room construction area. And supply clean air to the front room to create positive pressure in the front room, carry the equipment that has been cured so that it does not touch the outside air, and remove the curing of the equipment in the front room. After that, the equipment is carried into the clean room construction area and the clean room is constructed with the equipment.
We also provide clean air through the air conditioner into the clean room by extending the clean air supply pipe of the air conditioner in a clean room after a section of clean room is constructed.
クリーンルーム施工エリアと外部との間の空気遮断を行ってからクリーンルームの施工を行うようにしたので、空気質の高い高品質なクリーンルームを得ることができる。
また、クリーンルーム施工エリアと外部との間の空気遮断を行う前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材については、養生を徹底し、また、外装で囲まれたクリーンルーム施工エリアと外気とを遮断した後にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材についても養生を徹底するとともに前室で養生を撤去してクリーンルーム施工エリアに搬入するので、空気質の高い高品質なクリーンルームを得ることができる。
また、空調機を介したクリーンエアを最終的にクリーンルーム内に供給したので、空調機をそのままクリーンルーム完成後の運転用の空調機として利用できる。
Since the clean room is constructed after the air is cut off between the clean room construction area and the outside, a high-quality clean room with high air quality can be obtained.
In addition, for materials and equipment to be brought into the clean room construction area before shutting off the air between the clean room construction area and the outside, thoroughly cure and after shutting off the clean room construction area surrounded by the exterior and the outside air The materials and equipment to be carried into the clean room construction area are thoroughly cured and removed from the previous room and carried into the clean room construction area, so that a high quality clean room with high air quality can be obtained.
In addition, since clean air via the air conditioner is finally supplied into the clean room, the air conditioner can be used as it is as an air conditioner for operation after completion of the clean room.
まず図2に基いて半導体製造施設のクリーンルームを例にしてクリーンルームの概要を説明する。クリーンルームは例えば3つのエリアに区切られた構造となっている。即ち、半導体製造や検査などに必要な精密機器が設置されるプロセスエリア10と、床下エリア20と、天井エリア30とを備える。プロセスエリア10の床は有孔床(グレーチング)11となっており、プロセスエリア10の天井は天井板12により形成されている。天井エリア30には、空調機31と空気洗浄フィルタ32が設けられている。プロセスエリア10の横には空気循環エリア10Aが設けられ、これにより、空気が空気洗浄フィルタ32で浄化されて、矢示のように各エリア10,20,10A,30を循環する構造となっている。また、出入口40と外部との間にはエアーシャワー、純水清掃設備等が装備された前室が設けられており、クリーンルームへの入室者は前室で空気洗浄を行った後にクリーンルーム内に入る。前室は、クリーンルーム側のドア40aと外部側のドアとの二重ドアにより密閉空間となる。尚、41は空気循環空間10Aとプロセスエリア10との間の出入口、41aはこの出入口41のドア、42は鉄骨柱、42aは有孔床(グレーチング)11の鉄骨根太、43,44は耐火被覆梁、45は二重窓、46は廊下、47は配線を収納する配線ピットである。
First, an outline of a clean room will be described with reference to FIG. 2 by taking a clean room of a semiconductor manufacturing facility as an example. The clean room has a structure divided into, for example, three areas. That is, it includes a
次にクリーンルームの施工方法を図1(a)〜(d)に基いて順を追って説明する。
まずクリーンルームが設けられる建物の下部躯体工事、上部躯体工事等を行う。即ち、図外の型枠及び鉄筋を設置してコンクリートを打設して下部躯体1を構築し、鉄骨建方工事、屋上コンクリート打設工事、耐火被覆梁の取付け工事等により上部躯体2を構築する。その後、建物の外装工事を行う。即ち、外装パネル、建具、ガラス等を取付け、防水工事を行って外装3が構築される(以上、図1(a)参照)。建物の外装3が構築されたら、図1(b)に示すように建物の外装3で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間4内にクリーンエア5を供給して内部空間4を陽圧にすることにより内部空間4と外気とを遮断する。即ち、ブロワ6a及び空気フィルタ6bを備えた空調機6により外気7をフィルタ処理して成るクリーンエア5をクリーンエア供給管6cを介してクリーンルーム施工エリアに供給する。上記フィルタ処理に代えて、図示しないエアーワッシャーでの処理にてクリーンエア5を供給してもよい。尚、建物の外装3が構築される前、及び、外装3が構築された後にクリーンルーム施工エリアがクリーンエア5で陽圧にされる前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材8Aは、外気に触れないように養生8aされた状態で資機材8Aの製造場所から搬送してきてクリーンルーム施工エリアに搬入するとともに、養生された状態で資機材8Aによるクリーンルームの施工を行う(図1(a)参照)。この資機材8Aは、例えば、内部の準躯体工事に用いるALC板、成形セメント板等の下地構成部材、及び、クリーンルームの鉄骨柱42、鉄骨根太42a等である。図1(b)に示すように外装3で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間4内に空調機6によりクリーンエア5を供給して内部空間4を陽圧にすることにより内部空間と外気とを遮断した後に、上記資機材8Aの養生8aを撤去する。次に、図1(c)に示すようにクリーンルーム施工エリアの出入口に前室9を作成して、前室9内に上記と同様に図外の空調機でクリーンエアを投入し、前室9内を陽圧にする。養生8bを施した状態で搬送してきた資機材8Bを前室9内に搬入し、前室9内で養生8bを撤去してから当該資機材8Bをクリーンルーム施工エリアに搬入してこの資機材8Bによりクリーンルームの施工を行う。前室9は建物の外装3の外側に設けてもよい。この資機材8Bは、例えば、軽量下地鉄骨、有孔床11や天井板12の材料、壁ボード、天井ボード、クロス、建具等の内装材及び空気洗浄フィルタ32等である。図1(d)に示すようにクリーンルームの壁及び天井施工によりクリーンルームの空間を閉塞してクリーンルーム100の区画101が構築されたなら、上記空調機6のクリーンエア供給管6cに供給管6dを継ぎ足してクリーンエア供給管を延長することによりクリーンエア供給管をクリーンルーム100内まで延長させ、クリーンルーム100内に空調機6を介したクリーンエア5を供給してクリーンルーム100の空調除塵運転を行い、クリーンルーム完成後のクリーンルーム空調として利用する。尚、伸縮自在のクリーンエア供給管6cを用いてもよい。
Next, the construction method of the clean room will be described in order based on FIGS. 1 (a) to 1 (d).
First, work will be done on the lower housing and upper housing of the building where the clean room will be installed. In other words, the
このように、クリーンルーム施工エリアと外部との間の空気遮断を行ってからクリーンルームの施工を行うようにしたので、早い段階からクリーンな環境下でクリーンルームの施工を行うことができ、空気質の高い高品質なクリーンルーム100を得ることができる。従来の施工方法では、クリーンルームの施工中においてクリーンルーム施工エリアと外部との間の空気遮断は行われていなかったので、例えばクリーンルームにおいて製造する半導体製品に大気汚染物質が付着しやすく半導体製造,研究を阻害する原因となる等の課題があったが、本発明によれば、空気質の高い高品質なクリーンルーム100を得ることができるので、このような課題を解消できる。
また、外装3が構築される前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材8A、外装が構築された後にクリーンルーム施工エリアがクリーンエア5で陽圧にされる前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材8Aについては、養生8aを徹底することにより、高品質なクリーンルームを得ることができる。尚、現実的に養生の不可能な部分、例えば、ボルトやジョイント部等については、純水による清掃を実施する。
また、外装3で囲まれたクリーンルーム施工エリアと外気とを遮断した後にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材8Bについても養生を徹底し、さらに、前室9を介してクリーンエア管理下に置かれた後に養生8bを撤去してクリーンルーム施工エリアに搬入するので、高品質なクリーンルームを得ることができる。
また、空調機6によるクリーンエア5を最終的にクリーンルーム100内に供給しているので、空調機6をそのままクリーンルーム完成後の運転用の空調機として利用でき、空調機の導入コストを削減できる。
In this way, since the clean room was constructed after shutting off the air between the clean room construction area and the outside, the clean room can be constructed in a clean environment from an early stage, and the air quality is high. A high quality
In addition, the
In addition, the
Moreover, since the
空気質が要求される半導体製造設備、手術室等のクリーンルームの施工に適用できる。 It can be applied to construction of clean rooms such as semiconductor manufacturing facilities and operating rooms where air quality is required.
3 クリーンルームが設けられる建物の外装、4 内部空間、
5 クリーンエア、6 空調機、7 外気、8A,8B 資機材、9 前室、
100 クリーンルーム、101 クリーンルームの区画。
3 Exterior of building where clean room is established, 4 interior space,
5 Clean air, 6 Air conditioner, 7 Outside air, 8A, 8B Equipment, 9 Front room,
100 clean room, 101 clean room compartment.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003281813A JP4454983B2 (en) | 2003-07-29 | 2003-07-29 | Clean room construction method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003281813A JP4454983B2 (en) | 2003-07-29 | 2003-07-29 | Clean room construction method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005049025A JP2005049025A (en) | 2005-02-24 |
| JP4454983B2 true JP4454983B2 (en) | 2010-04-21 |
Family
ID=34267213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003281813A Expired - Fee Related JP4454983B2 (en) | 2003-07-29 | 2003-07-29 | Clean room construction method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4454983B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112902347A (en) * | 2021-03-10 | 2021-06-04 | 济南润德医用工程有限公司 | Construction method for low-speed-stabilization, flow-assisting, clean-air-regulation and high-efficiency air supply and return engineering |
-
2003
- 2003-07-29 JP JP2003281813A patent/JP4454983B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005049025A (en) | 2005-02-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4902315A (en) | Negative pressure asbestos removal with localized make-up air | |
| JPH06307108A (en) | Production plant for manufacturing semiconductor integrated circuit device and constructing method for said plant | |
| US20110185900A1 (en) | Method for building remediation caused by defective drywall | |
| JP4454983B2 (en) | Clean room construction method | |
| US5322533A (en) | Decontamination system for removal of hazardous substances | |
| JP4290963B2 (en) | Clean room construction method | |
| JP5104177B2 (en) | Deposit processing apparatus and deposit processing method | |
| CN112900734A (en) | Fire prevention sound insulation wallboard for assembly type structure | |
| JP4122015B2 (en) | Plant cleaning method, asbestos removal method and dismantling treatment method | |
| JP4290964B2 (en) | Clean room construction method | |
| US5400553A (en) | Cell construction for a correctional facility | |
| Hajji et al. | The Assessment of material resource and cycle (MRC) of architectural finishing works for tall building construction | |
| RU2053338C1 (en) | Building for placing chemical manufacturing | |
| JP3958591B2 (en) | Clean room | |
| JP5204419B2 (en) | How to remove moisture from building materials | |
| JP3614536B2 (en) | House installed in radiation control area | |
| JP3883873B2 (en) | Clean room wall structure | |
| KR101759775B1 (en) | Humidification type asbestos stabilization system | |
| KR0129139Y1 (en) | Prefabricated Ondol Panel of Apartment | |
| JP3898517B2 (en) | Clean room | |
| JP5779870B2 (en) | Method for treating deposit, method for installing partition wall, and partition wall | |
| Babor et al. | Maintenance planning for historic buildings | |
| KR100398077B1 (en) | Method for Installing Ducts With Non-interrupted Air Flow | |
| JPH06108671A (en) | Construction of scattering-out prevention temporary tent structure | |
| JP2007107359A (en) | Asbestos removal method and asbestos removal device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060612 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090410 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090728 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090911 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100202 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100203 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130212 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140212 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |