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JP4714373B2 - Read circuit for semiconductor memory device - Google Patents
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JP4714373B2 JP2001187658A JP2001187658A JP4714373B2 JP 4714373 B2 JP4714373 B2 JP 4714373B2 JP 2001187658 A JP2001187658 A JP 2001187658A JP 2001187658 A JP2001187658 A JP 2001187658A JP 4714373 B2 JP4714373 B2 JP 4714373B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体記憶装置の読み出し回路に関し、更に詳しく言えば、メモリセルより供給される電流を検知することでメモリセルに書き込まれたデータを読み出すROMの読み出し回路における低消費電力化技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体記憶装置の読み出し回路の構成について図面を参照しながら説明する。
【0003】
図3は、複数個のメモリセルが並列に配列されて成るROM(リード・オンリー・メモリ)において、当該メモリセルより供給される電流を検知することで、各メモリセルに記憶されたデータを読み出す方式の半導体記憶装置の回路構成である。
【0004】
即ち、複数個のメモリセル(本実施形態では、4個のNチャネル型MOSトランジスタから成るメモリセルM11,M12,M13,M14を例示してある。)の各ドレイン電極がそれぞれスイッチSW11,SW12,SW13,SW14を介してビット線BL1に接続可能に形成されている。尚、図3では、ビット線BL1のみを便宜的に図示しているが、他のビット線(図示省略)も同様に複数個のメモリセルが配置されている。
【0005】
また、ソース電極側は、常に電源電圧VDDが印加されている。そして、前記各メモリセルM11,M12,M13,M14の各ゲート電極は、それぞれワード線WL1,WL2,WL3,WL4に接続されている。
【0006】
更に、前記ビット線BL1・・等は、それぞれ選択トランジスタM15,M16,M17等の各ソース電極に接続され、当該選択トランジスタM15,M16,M17等の各ドレイン電極を介してデータ読み出し線1に接続されている。
【0007】
2は、データ入力線(IN)を介して前記データ読み出し線1に接続される読み出し回路で、当該読み出し回路2は、ソース電極が電源電圧VDDに接続されたPチャネル型MOSトランジスタM2,Nチャネル型MOSトランジスタM1,ソース電極が接地電圧VSSに接続されたNチャネル型MOSトランジスタM3が直列接続され、前記Nチャネル型MOSトランジスタM1のゲート電極には、基準電圧(VREF)を供給するためPチャネル型MOSトランジスタM4,Nチャネル型MOSトランジスタM5が直列接続された、その交点が接続されている。
【0008】
そして、前記Pチャネル型MOSトランジスタM2とNチャネル型MOSトランジスタM1との交点から各メモリセルからの読み出し結果がデータ出力線3を介して出力(OUT)される。
【0009】
以下、上記読み出し回路2による読み出し動作を説明する。
【0010】
先ず、選択されたメモリセルがビット線BL1と接続されている場合(選択されたメモリセルがM12,M13,M14の場合)、例えばメモリセルM12より読み出し回路2の前記トランジスタM3に電流が供給され、データ入力線(IN)の電位は上昇し、前記トランジスタM1のゲート−ソース間電圧Vgsが小さくなることにより、当該トランジスタM1はオフする。よって、データ出力線3を介して、「1」が出力(OUT)される。
【0011】
また、選択されたメモリセルM11がビット線BL1と接続されていない場合(選択されたメモリセルがM11の場合)、例えばメモリセルM11より読み出し回路2の前記トランジスタM3に電流が供給されない。よって、データ入力線(IN)の電位は変化せず、データ出力線3を介して、「0」が出力(OUT)される。
【0012】
このようなメモリセルより供給される電流を検知する読み出し方式の利点は、高速化が図れ、読み出しスピードがビット線の容量に大きく依存しないため、大容量化が可能になるということである。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記読み出し回路2は、プリチャージ期間にも一定の電圧レベルになり、定常的に電流が流れるため、低消費電力化の妨げとなっていた。
【0014】
即ち、上記回路構成において、プリチャージ期間中、前記Pチャネル型MOSトランジスタM2,Pチャネル型MOSトランジスタM4のゲート電極には、当該Pチャネル型MOSトランジスタM2,M4がオンするように接地電圧Vssが印加されており、また、Nチャネル型MOSトランジスタM3のゲート電極には電源電圧VDDが定常的に印加されており、常にオンしているため、読み出し回路2には定常的に電流が流れる。
【0015】
【課題を解決するための手段】
そこで、前記課題に鑑み本発明の半導体記憶装置の読み出し回路は、複数のメモリセルの各ドレイン電極がそれぞれスイッチを介してビット線に接続可能に形成されており、各ソース電極側は、常に電源電圧が印加されており、前記各メモリセルの各ゲート電極は、それぞれ対応するワード線に接続されており、データ読み出し線を介して前記メモリセルから供給される電流を検知することで前記メモリセルに書き込まれたデータを読み出す半導体記憶装置の読み出し回路において、基準電圧がゲート入力される第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタと直列接続され、そのソース電極が電源電圧に接続された第2のトランジスタと、前記第1のトランジスタに直列接続され、そのソース電極が接地電圧に接続され、そのゲート電極に前記電源電圧が定常的に印加された第3のトランジスタと、前記第1のトランジスタと前記第2のトランジスタとの交点に接続されたデータ出力線と、
前記第1のトランジスタと前記第3のトランジスタとの交点に接続されたデータ読み出し線と、そのソース電極が電源電圧に接続され、そのドレイン電極が前記第1のトランジスタのゲート電極に接続された第4のトランジスタと、そのソース電極が接地電圧に接続され、そのドレイン電極とゲート電極が前記第1のトランジスタのゲート電極に接続された第5のトランジスタと、を備え、プリチャージ期間中に、前記第2のトランジスタのゲート電極に当該トランジスタがオフする信号を印加すると共に、前記第4のトランジスタのゲート電極に当該トランジスタがオフする信号を印加することを特徴とする。
【0017】
更に、プリチャージ期間中に、前記第5のトランジスタのゲート電極に当該トランジスタがオフする信号を印加する第6のトランジスタを接続したことを特徴とする。
【0018】
また、そのソース電極が接地電圧に接続され、そのドレイン電極が前記データ出力線に接続された第7のトランジスタを有し、プリチャージ期間中に、当該第7のトランジスタがオンする信号を印加することを特徴とする。
【0019】
更に、そのソース電極が接地電圧に接続され、そのドレイン電極が前記データ読み出し線に接続された第8のトランジスタを有し、プリチャージ期間中に、当該第8のトランジスタがオンする信号を印加することを特徴とする。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の半導体記憶装置の一実施形態について図面を参照しながら説明する。尚、従来(図3に示す)構成と同等の構成については重複した説明を避けるために同符号を付して説明を簡略化する。
【0021】
図1は、複数個のメモリセルが並列に配列されて成るROM(リード・オンリー・メモリ)において、当該メモリセルより供給される電流を検知することで、各メモリセルに記憶されたデータを読み出す方式の半導体記憶装置の回路構成である。
【0022】
ここで、本発明の特徴を為す回路構成は、図1に示すようにビット線BL1・・・等に複数個のメモリセルが並列配置されて成るROM構造において、プリチャージ期間において読み出し回路2をオフさせる機構を追加したことである。
【0023】
即ち、複数個のメモリセル(本実施形態では、4個のNチャネル型MOSトランジスタから成るメモリセルM11,M12,M13,M14を例示してある。)の各ドレイン電極がそれぞれスイッチSW11,SW12,SW13,SW14を介してビット線BL1に接続可能に形成されている。尚、図1では、ビット線BL1のみを便宜的に図示しているが、他のビット線(図示省略)も同様に複数個のメモリセルが配置されている。
【0024】
そして、スイッチSW11,SW12,SW13,SW14を介して各メモリセルM11,M12,M13,M14に書き込まれるデータ内容が決定される。即ち、「1」データを書き込みたいメモリセルはスイッチをつなぎ、「0」データを書き込みたいメモリセルはスイッチをつながないようにすることで、各メモリセルへのデータ書き込みが完了する。尚、本工程は、生産段階におけるメタルマスクによるマスク切り替えにて、任意に設定される。即ち、例えば第2層の金属配線と第3層の金属配線とを接続することで可能になる。
【0025】
また、前記メモリセルM11,M12,M13,M14の各ゲート電極は、それぞれワード線WL1,WL2,WL3,WL4に接続されている。
【0026】
更に、前記ビット線BL1・・等は、それぞれ選択トランジスタM15,M16,M17等の各ソース電極に接続され、当該選択トランジスタM15,M16,M17・・・等の各ドレイン電極を介してデータ読み出し線1に接続されている。尚、図示した説明は省略するが、前記選択トランジスタM15,M16,M17・・・の各ゲート電極には、回路内部で作られた信号が入力され、当該信号を受けて、読み出し動作を行いたいビット線が選択される。また、前記データ読み出し線1には読み出し動作を行う前に、当該データ読み出し線1の電位を所定電位(本実施形態では、ロウ“L”レベル)にするためのプリディスチャージトランジスタM8が接続されている。
【0027】
2は、前記データ読み出し線1に接続される電流センス型の読み出し回路で、当該読み出し回路2は、ソース電極が電源電圧VDDに接続されたPチャネル型MOSトランジスタM2,Nチャネル型MOSトランジスタM1,ソース電極が接地電圧VSSに接続されたNチャネル型MOSトランジスタM3が直列接続され、前記Nチャネル型MOSトランジスタM1のゲート電極には、基準電圧(VREF)を供給するためにPチャネル型MOSトランジスタM4,Nチャネル型MOSトランジスタM5が直列接続された、その交点が接続されている。
【0028】
また、前記Pチャネル型MOSトランジスタM2,Pチャネル型MOSトランジスタM4のゲート電極には回路内部で作られたクロック(CLK)信号がインバータ4を介して反転された/CLK信号が供給され、前記Nチャネル型MOSトランジスタM5のゲート電極には前記/CLK信号がゲート電極に入力されるNチャネル型MOSトランジスタM6のドレイン電極が接続されている。更に、前記/CLK信号がゲート電極に入力されるNチャネル型MOSトランジスタM7のドレイン電極がデータ出力線3に接続されている。更にまた、前記プリディスチャージトランジスタM8のゲート電極にも前記/CLK信号が入力されるように構成されている。
【0029】
そして、前記Pチャネル型MOSトランジスタM2とNチャネル型MOSトランジスタM1との交点から各メモリセルからの読み出し結果が、前記データ出力線3を介して出力(OUT)される。
【0030】
以上のように構成される半導体記憶装置では、図2に示すようにプリチャージ期間(/CLK信号がハイ“H”レベルであるため)に前記Pチャネル型MOSトランジスタM2,M4が共にオフし、前記Nチャネル型MOSトランジスタM6,M7が共にオンすることで、読み出し回路2をオフさせることができる。また、このとき、“H”レベルの/CLK信号がゲート入力される前記プリディスチャージトランジスタM8がオンしてプリチャージ電圧が接地電圧VSSとなるように構成されていることで、電流は流れない。
【0031】
従って、本発明の半導体記憶装置は、プリチャージ期間中に電流を流さない回路構成を実現したことで、従来の回路構成に比して低消費電力化が図れる。
【0032】
最後に、読み出し時には、図2に示すように“L”レベルの/CLK信号に基づき、前記Pチャネル型MOSトランジスタM2,M4が共にオンし、前記Nチャネル型MOSトランジスタM6,M7が共にオフすることで、読み出し回路2による通常の読み出し動作が行われる。即ち、例えばアドレスデータ(ADDR)で指定されたA0番地のデータ(A0data)がデータ出力線3より出力される。以下、同様である。
【0033】
尚、本実施形態では、複数個のNチャネル型MOSトランジスタを並列配置することでROMを構成しているが、複数個のPチャネル型MOSトランジスタを並列配置するものであっても良く、この場合には、ビット線にソース電極を介して複数個のメモリセルが並列接続され、当該複数個のメモリセルの各ドレイン電極に電源電圧VDDを印加して各メモリセルより供給される電流を検知することでメモリセルに書き込まれたデータを読み出す読み出し回路を備えることになる。
【0034】
【発明の効果】
本発明によれば、プリチャージ期間において電流を流さない回路構成を実現したことで、従来の回路構成に比して低消費電力化が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の半導体記憶装置を説明するための回路図である。
【図2】本発明のデータ読み出し動作を説明するためのタイミング図である。
【図3】従来の半導体記憶装置を説明するための回路図である。
【符号の説明】
M1 Nチャネル型MOSトランジスタ(第1のトランジスタ)
M2 Pチャネル型MOSトランジスタ(第2のトランジスタ)
M3 Nチャネル型MOSトランジスタ(第3のトランジスタ)
M4 Pチャネル型MOSトランジスタ(第4のトランジスタ)
M5 Nチャネル型MOSトランジスタ(第5のトランジスタ)
M6 Nチャネル型MOSトランジスタ(第6のトランジスタ)
M7 Nチャネル型MOSトランジスタ(第7のトランジスタ)
M8 プリディスチャージトランジスタ(第8のトランジスタ)
M11 メモリセル
M12 メモリセル
M13 メモリセル
M14 メモリセル
BL1 ビット線
1 データ読み出し線
2 読み出し回路
3 データ出力線
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a read circuit of a semiconductor memory device, and more particularly to a technique for reducing power consumption in a read circuit of a ROM that reads data written in a memory cell by detecting a current supplied from the memory cell.
[0002]
[Prior art]
A configuration of a read circuit of a conventional semiconductor memory device will be described with reference to the drawings.
[0003]
FIG. 3 shows a read-only memory (ROM) in which a plurality of memory cells are arranged in parallel, and reads data stored in each memory cell by detecting a current supplied from the memory cell. 3 is a circuit configuration of a semiconductor memory device of the type.
[0004]
That is, each drain electrode of a plurality of memory cells (in this embodiment, memory cells M11, M12, M13, and M14 including four N-channel type MOS transistors are illustrated) as switches SW11, SW12, It is formed to be connectable to the bit line BL1 via SW13 and SW14. In FIG. 3, only the bit line BL1 is shown for the sake of convenience, but a plurality of memory cells are similarly arranged on other bit lines (not shown).
[0005]
The source voltage VDD is always applied to the source electrode side. The gate electrodes of the memory cells M11, M12, M13, and M14 are connected to word lines WL1, WL2, WL3, and WL4, respectively.
[0006]
Further, the bit lines BL1,... Are connected to the source electrodes of the selection transistors M15, M16, M17, etc., and are connected to the data read line 1 via the drain electrodes of the selection transistors M15, M16, M17, etc. Has been.
[0007]
Reference numeral 2 denotes a read circuit connected to the data read line 1 via a data input line (IN). The read circuit 2 includes P-channel MOS transistors M2 and N-channel having source electrodes connected to the power supply voltage VDD. An n-channel MOS transistor M1, an n-channel MOS transistor M3 having a source electrode connected to the ground voltage VSS is connected in series, and a p-channel is supplied to the gate electrode of the n-channel MOS transistor M1 for supplying a reference voltage (VREF). The type MOS transistor M4 and the N-channel type MOS transistor M5 are connected in series, and their intersections are connected.
[0008]
Then, a read result from each memory cell is output (OUT) through the data output line 3 from the intersection of the P-channel MOS transistor M2 and the N-channel MOS transistor M1.
[0009]
Hereinafter, the read operation by the read circuit 2 will be described.
[0010]
First, when the selected memory cell is connected to the bit line BL1 (when the selected memory cell is M12, M13, M14), for example, a current is supplied from the memory cell M12 to the transistor M3 of the read circuit 2. The potential of the data input line (IN) rises, and the transistor M1 is turned off as the gate-source voltage Vgs of the transistor M1 decreases. Therefore, “1” is output (OUT) through the data output line 3.
[0011]
Further, when the selected memory cell M11 is not connected to the bit line BL1 (when the selected memory cell is M11), for example, no current is supplied from the memory cell M11 to the transistor M3 of the read circuit 2. Therefore, the potential of the data input line (IN) does not change, and “0” is output (OUT) via the data output line 3.
[0012]
The advantage of the read method for detecting the current supplied from such a memory cell is that the speed can be increased and the read speed does not greatly depend on the capacity of the bit line, so that the capacity can be increased.
[0013]
[Problems to be solved by the invention]
However, the read circuit 2 is at a constant voltage level even during the precharge period, and a constant current flows, which hinders low power consumption.
[0014]
That is, in the above circuit configuration, the ground voltage Vss is applied to the gate electrodes of the P-channel MOS transistor M2 and the P-channel MOS transistor M4 during the precharge period so that the P-channel MOS transistors M2 and M4 are turned on. The power supply voltage VDD is constantly applied to the gate electrode of the N-channel MOS transistor M3 and is always on, so that a current constantly flows through the readout circuit 2.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
Accordingly, in view of the above problems, the read circuit of the semiconductor memory device of the present invention is formed such that each drain electrode of a plurality of memory cells can be connected to a bit line via a switch, and each source electrode side always has a power supply. A voltage is applied, and each gate electrode of each memory cell is connected to a corresponding word line, and the memory cell is detected by detecting a current supplied from the memory cell via a data read line in the read circuit of the semiconductor memory device for reading written data in a first transistor having a reference voltage is the gate input, is connected to the first transistor in series, the second of its source electrode connected to the power supply voltage and transistors, connected in series to said first transistor, its source electrode connected to a ground voltage, a gate electrode A third transistor the power supply voltage is constantly applied to the first transistor and the second is connected to the intersection of the transistor data output lines,
A data read line connected to the intersection of the first transistor and the third transistor, a source electrode connected to a power supply voltage, and a drain electrode connected to the gate electrode of the first transistor. and fourth transistor, its source electrode connected to a ground voltage, a fifth transistor whose drain electrode and a gate electrode connected to a gate electrode of the first transistor, comprises a, in the precharge period, the A signal for turning off the transistor is applied to the gate electrode of the second transistor, and a signal for turning off the transistor is applied to the gate electrode of the fourth transistor .
[0017]
Further, a sixth transistor for applying a signal for turning off the transistor is connected to the gate electrode of the fifth transistor during the precharge period.
[0018]
In addition, a seventh transistor having a source electrode connected to the ground voltage and a drain electrode connected to the data output line is applied, and a signal for turning on the seventh transistor is applied during the precharge period. It is characterized by that.
[0019]
Further, it has an eighth transistor whose source electrode is connected to the ground voltage and whose drain electrode is connected to the data read line, and applies a signal for turning on the eighth transistor during the precharge period. It is characterized by that.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of a semiconductor memory device of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, about the structure equivalent to a conventional structure (shown in FIG. 3), in order to avoid duplication description, the same code | symbol is attached | subjected and description is simplified.
[0021]
In FIG. 1, in a ROM (read only memory) in which a plurality of memory cells are arranged in parallel, data stored in each memory cell is read by detecting a current supplied from the memory cell. 3 is a circuit configuration of a semiconductor memory device of the type.
[0022]
Here, the circuit configuration which makes the feature of the present invention the read circuit 2 in the precharge period in the ROM structure in which a plurality of memory cells are arranged in parallel on the bit lines BL1... As shown in FIG. This is the addition of a mechanism to turn it off.
[0023]
That is, each drain electrode of a plurality of memory cells (in this embodiment, memory cells M11, M12, M13, and M14 including four N-channel type MOS transistors are illustrated) as switches SW11, SW12, It is formed to be connectable to the bit line BL1 via SW13 and SW14. In FIG. 1, only the bit line BL1 is shown for convenience, but a plurality of memory cells are similarly arranged on other bit lines (not shown).
[0024]
Then, data contents to be written in the memory cells M11, M12, M13, and M14 are determined through the switches SW11, SW12, SW13, and SW14. That is, the memory cell to which “1” data is to be written is connected to the switch, and the memory cell to which “0” data is to be written is not connected to the switch, thereby completing the data writing to each memory cell. In addition, this process is arbitrarily set by the mask switching by the metal mask in a production stage. That is, for example, it is possible by connecting the second layer metal wiring and the third layer metal wiring.
[0025]
The gate electrodes of the memory cells M11, M12, M13, M14 are connected to word lines WL1, WL2, WL3, WL4, respectively.
[0026]
Further, the bit lines BL1... Are connected to the respective source electrodes of the selection transistors M15, M16, M17, etc., and the data read lines are connected through the respective drain electrodes of the selection transistors M15, M16, M17. 1 is connected. Although not shown in the figure, a signal generated inside the circuit is input to each gate electrode of the selection transistors M15, M16, M17... And a read operation is performed in response to the signal. A bit line is selected. Further, before performing a read operation, the data read line 1 is connected with a pre-discharge transistor M8 for setting the potential of the data read line 1 to a predetermined potential (low “L” level in this embodiment). Yes.
[0027]
Reference numeral 2 denotes a current sense type read circuit connected to the data read line 1, and the read circuit 2 includes a P-channel MOS transistor M2, an N-channel MOS transistor M1, whose source electrode is connected to the power supply voltage VDD. An N-channel MOS transistor M3 having a source electrode connected to the ground voltage VSS is connected in series, and a P-channel MOS transistor M4 is supplied to the gate electrode of the N-channel MOS transistor M1 in order to supply a reference voltage (VREF). , N-channel MOS transistors M5 are connected in series, and their intersections are connected.
[0028]
Further, the / CLK signal obtained by inverting the clock (CLK) signal generated inside the circuit through the inverter 4 is supplied to the gate electrodes of the P-channel MOS transistor M2 and the P-channel MOS transistor M4. The gate electrode of the channel type MOS transistor M5 is connected to the drain electrode of an N channel type MOS transistor M6 to which the / CLK signal is input to the gate electrode. Further, the drain electrode of the N-channel MOS transistor M7 to which the / CLK signal is input to the gate electrode is connected to the data output line 3. Furthermore, the / CLK signal is input to the gate electrode of the pre-discharge transistor M8.
[0029]
Then, a read result from each memory cell is output (OUT) through the data output line 3 from the intersection of the P-channel MOS transistor M2 and the N-channel MOS transistor M1.
[0030]
In the semiconductor memory device configured as described above, both the P-channel MOS transistors M2 and M4 are turned off during the precharge period (because the / CLK signal is at the high “H” level) as shown in FIG. When the N-channel MOS transistors M6 and M7 are both turned on, the read circuit 2 can be turned off. At this time, no current flows because the pre-discharge transistor M8 to which the / CLK signal of the “H” level is gate-input is turned on and the precharge voltage becomes the ground voltage VSS.
[0031]
Therefore, the semiconductor memory device of the present invention realizes a circuit configuration in which no current flows during the precharge period, and thus can reduce power consumption as compared with the conventional circuit configuration.
[0032]
Finally, at the time of reading, as shown in FIG. 2, both the P-channel MOS transistors M2 and M4 are turned on and the N-channel MOS transistors M6 and M7 are both turned off based on the “L” level / CLK signal. Thus, a normal read operation by the read circuit 2 is performed. That is, for example, data (A0data) at address A0 specified by address data (ADDR) is output from the data output line 3. The same applies hereinafter.
[0033]
In this embodiment, the ROM is configured by arranging a plurality of N-channel MOS transistors in parallel. However, a plurality of P-channel MOS transistors may be arranged in parallel. First, a plurality of memory cells are connected in parallel to a bit line via a source electrode, and a power supply voltage VDD is applied to each drain electrode of the plurality of memory cells to detect a current supplied from each memory cell. Thus, a read circuit for reading data written in the memory cell is provided.
[0034]
【The invention's effect】
According to the present invention, by realizing a circuit configuration in which no current flows during the precharge period, it is possible to reduce power consumption compared to a conventional circuit configuration.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a circuit diagram for explaining a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a timing chart for explaining a data read operation according to the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram for explaining a conventional semiconductor memory device;
[Explanation of symbols]
M1 N-channel MOS transistor (first transistor)
M2 P-channel MOS transistor (second transistor)
M3 N-channel MOS transistor (third transistor)
M4 P-channel MOS transistor (fourth transistor)
M5 N-channel MOS transistor (fifth transistor)
M6 N-channel MOS transistor (sixth transistor)
M7 N-channel MOS transistor (seventh transistor)
M8 pre-discharge transistor (8th transistor)
M11 Memory cell M12 Memory cell M13 Memory cell M14 Memory cell BL1 Bit line 1 Data read line 2 Read circuit 3 Data output line

Claims (4)

複数のメモリセルの各ドレイン電極がそれぞれスイッチを介してビット線に接続可能に形成されており、各ソース電極側は、常に電源電圧が印加されており、前記各メモリセルの各ゲート電極は、それぞれ対応するワード線に接続されており、データ読み出し線を介して前記メモリセルから供給される電流を検知することで前記メモリセルに書き込まれたデータを読み出す半導体記憶装置の読み出し回路において、
基準電圧がゲート入力される第1のトランジスタと、
前記第1のトランジスタと直列接続され、そのソース電極が電源電圧に接続された第2のトランジスタと、
前記第1のトランジスタに直列接続され、そのソース電極が接地電圧に接続され、そのゲート電極に前記電源電圧が定常的に印加された第3のトランジスタと、
前記第1のトランジスタと前記第2のトランジスタとの交点に接続されたデータ出力線と、
前記第1のトランジスタと前記第3のトランジスタとの交点に接続されたデータ読み出し線と、
そのソース電極が電源電圧に接続され、そのドレイン電極が前記第1のトランジスタのゲート電極に接続された第4のトランジスタと、
そのソース電極が接地電圧に接続され、そのドレイン電極とゲート電極が前記第1のトランジスタのゲート電極に接続された第5のトランジスタと、を備え、
プリチャージ期間中に、前記第2のトランジスタのゲート電極に当該トランジスタがオフする信号を印加すると共に、前記第4のトランジスタのゲート電極に当該トランジスタがオフする信号を印加することを特徴とする半導体記憶装置の読み出し回路。
Each drain electrode of a plurality of memory cells is formed so as to be connectable to a bit line via a switch, and a power supply voltage is always applied to each source electrode side, and each gate electrode of each memory cell is In a read circuit of a semiconductor memory device that is connected to a corresponding word line and reads data written in the memory cell by detecting a current supplied from the memory cell via a data read line,
A first transistor gated to a reference voltage;
A second transistor connected in series with the first transistor, the source electrode of which is connected to a power supply voltage;
A third transistor connected in series to the first transistor, whose source electrode is connected to a ground voltage, and whose power supply voltage is constantly applied to its gate electrode ;
A data output line connected to an intersection of the first transistor and the second transistor;
A data read line connected to an intersection of the first transistor and the third transistor;
A fourth transistor having its source electrode connected to the power supply voltage and its drain electrode connected to the gate electrode of the first transistor;
A fifth transistor having its source electrode connected to the ground voltage, its drain electrode and gate electrode connected to the gate electrode of the first transistor , and
A signal for turning off the transistor is applied to the gate electrode of the second transistor and a signal for turning off the transistor is applied to the gate electrode of the fourth transistor during a precharge period. A reading circuit of a memory device.
プリチャージ期間中に、前記第5のトランジスタのゲート電極に当該トランジスタがオフする信号を印加する第6のトランジスタを接続したことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置の読み出し回路。  6. The read circuit of the semiconductor memory device according to claim 1, wherein a sixth transistor that applies a signal for turning off the transistor is connected to a gate electrode of the fifth transistor during a precharge period. そのソース電極が接地電圧に接続され、そのドレイン電極が前記データ出力線に接続された第7のトランジスタを有し、プリチャージ期間中に、当該第7のトランジスタがオンする信号を印加することを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置の読み出し回路。  It has a seventh transistor having its source electrode connected to the ground voltage and its drain electrode connected to the data output line, and applying a signal for turning on the seventh transistor during the precharge period. 2. The read circuit of the semiconductor memory device according to claim 1, wherein そのソース電極が接地電圧に接続され、そのドレイン電極が前記データ読み出し線に接続された第8のトランジスタを有し、プリチャージ期間中に、当該第8のトランジスタがオンする信号を印加することを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置の読み出し回路。  It has an eighth transistor having its source electrode connected to the ground voltage and its drain electrode connected to the data read line, and applying a signal for turning on the eighth transistor during the precharge period. 2. The read circuit of the semiconductor memory device according to claim 1, wherein
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