JP6582677B2 - Substrate device and optical device manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、基板装置及び光学装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a board device and an optical device.
特許文献1には、複数の長尺な基板が短手方向に並べられ、隣接する基板が長手方向の複数ヶ所の第1連結部で連結され、短手方向から見て、単位長さ当たりの連結部の長さが長い第1部位と短い第2部位を有する基板群を準備する工程と、第1部位となる基板の表面に部品を実装する工程と、基板の裏面に発光素子を実装する工程と、複数の連結部を切断する工程と、を含む発光基板の製造方法が開示されている。
In
平面基板における複数の単位基板となる部位に素子の実装の基準となる印を付した大型基板を準備し、該大型基板に、該素子が実装される複数の該単位基板の外形を画定する複数の溝及び該複数の溝の間に該単位基板同士を連結する複数の連結片を工具により形成する集合基板の製造方法が知られている。この方法で製造した集合基板の単位基板に該印を基準として素子を実装すると、単位基板の外形に対する素子の実装位置がずれる虞がある。 A plurality of large-sized substrates, each of which serves as a reference for mounting an element, is prepared on a portion of the planar substrate that serves as a plurality of unit substrates, and the plurality of unit substrates on which the elements are mounted are defined on the large-sized substrate. There is known a method of manufacturing a collective substrate in which a plurality of connecting pieces for connecting the unit substrates between the plurality of grooves and the plurality of grooves are formed by a tool. If an element is mounted on the unit board of the collective board manufactured by this method with reference to the mark, the mounting position of the element with respect to the outer shape of the unit board may be shifted.
本発明は、複数の溝を形成する工具と異なる工具で形成される孔又は凹部を基準に素子を実装する場合に比べて、素子が実装される位置が単位基板の端から定められた範囲内とされる複数の基板装置の製造方法の提供を目的とする。 In the present invention, the position where the element is mounted is within a range determined from the end of the unit substrate as compared with the case where the element is mounted based on a hole or a recess formed by a tool different from the tool for forming a plurality of grooves . An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a plurality of substrate devices .
請求項1の基板装置の製造方法は、位置決めした大型基板に、素子が実装される複数の単位基板の外形を画定する複数の溝を工具により形成しつつ、複数の該単位基板に該素子を実装する基準とする孔又は凹部を該工具により形成した集合基板を準備する工程と、該集合基板の該孔又は該凹部を基準として複数の該単位基板に該素子を実装して、該集合基板から複数の該単位基板をばらす工程と、を有する。
第1態様の集合基板の製造方法は、位置決めした大型基板に、素子が実装される複数の単位基板の外形を画定する複数の溝を工具により形成しつつ、孔又は凹部を該工具により形成する工程を含む。
The substrate device manufacturing method according to
In the method for manufacturing a collective substrate according to the first aspect, a plurality of grooves that define the outer shape of a plurality of unit substrates on which elements are mounted are formed on a positioned large substrate by a tool, and holes or recesses are formed by the tool. Process.
請求項2の基板装置の製造方法は、平面基板における素子が実装される複数の単位基板となる部位に該素子の実装の基準となる第1印を付すとともに該第1印と異なる第2印を付した大型基板を位置決めした後、該大型基板に、複数の該単位基板の外形を画定する複数の溝を工具により形成しつつ、該工具により該大型基板における該第2印に孔又は凹部を形成した集合基板を準備する工程と、該集合基板の該孔又は該凹部に対する該第2印のずれ量を計測し、複数の該第1印に対して該ずれ量分ずれた位置を基準として複数の該単位基板に該素子を実装して、該集合基板から複数の該単位基板をばらす工程と、を有する。
第2態様の集合基板の製造方法は、第1態様に記載の集合基板の製造方法において、該工程の前に、平面基板における複数の該単位基板となる部位に該素子の実装の基準となる第1印を付すとともに該第1印と異なる第2印を付した該大型基板を準備し、該工程において、該工具により該大型基板における該第2印に該孔又は該凹部を形成する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate device manufacturing method in which a first mark serving as a reference for mounting the element is attached to a portion of the planar substrate on which the element is mounted, and a second mark different from the first mark. After positioning the large substrate with the mark, a plurality of grooves defining the outer shape of the plurality of unit substrates are formed in the large substrate with a tool, and a hole or a recess is formed in the second mark on the large substrate with the tool. Preparing a collective substrate having a shape formed thereon, measuring a deviation amount of the second mark with respect to the holes or the recesses of the collective substrate, and determining a position shifted by the deviation amount with respect to a plurality of the first marks. Mounting the element on the plurality of unit substrates and separating the plurality of unit substrates from the collective substrate.
The method for manufacturing a collective substrate according to the second aspect is the method for manufacturing the collective substrate according to the first aspect, wherein, prior to this step, the element is mounted as a reference for mounting a plurality of unit substrates on the flat substrate. The large substrate having a first mark and a second mark different from the first mark is prepared, and in the step, the tool forms the hole or the recess in the second mark on the large substrate.
請求項3の基板装置の製造方法は、平面基板における素子が実装される複数の単位基板となる部位に該素子の実装の基準となる印を付した大型基板を位置決めした後、該大型基板に、複数の該単位基板の外形を画定する複数の溝を工具により形成しつつ、該工具により該大型基板における該印に孔又は凹部を形成した集合基板を準備する工程と、該集合基板の該孔又は該凹部に対する該印のずれ量を計測し、複数の該印に対して該ずれ量分ずれた位置を基準として複数の該単位基板に該素子を実装し、該集合基板から複数の該単位基板をばらす工程と、を有する。
第3態様の集合基板の製造方法は、第1態様に記載の集合基板の製造方法において、該工程の前に、平面基板における複数の該単位基板となる部位に印を付した該大型基板を準備し、該工程において、該工具により該大型基板における該印に該孔又は該凹部を形成する。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a substrate device, comprising: positioning a large substrate with a mark serving as a reference for mounting the element on a portion serving as a plurality of unit substrates on the planar substrate; Preparing a collective substrate in which a hole or a recess is formed in the mark on the large-sized substrate with the tool while forming a plurality of grooves defining the outer shape of the plurality of unit substrates with a tool; The amount of deviation of the mark with respect to the hole or the concave portion is measured, the element is mounted on the plurality of unit substrates with reference to the positions displaced by the amount of deviation with respect to the plurality of marks, Separating the unit substrate.
A method for manufacturing a collective substrate according to a third aspect is the method for manufacturing a collective substrate according to the first aspect, wherein the large substrate in which a plurality of unit substrates in a flat substrate are marked before the step. In the step, the hole or the recess is formed in the mark on the large substrate by the tool.
第4態様の基板装置の製造方法は、第1態様に記載の方法で製造された集合基板を用いて、該孔又は該凹部を基準として複数の該単位基板に該素子を実装して、該集合基板から複数の該単位基板をばらす。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate device manufacturing method, comprising: using the aggregate substrate manufactured by the method according to the first aspect ; and mounting the element on a plurality of the unit substrates based on the holes or the recesses. A plurality of the unit substrates are separated from the aggregate substrate.
第5態様の基板装置の製造方法は、第2態様に記載の方法で製造された集合基板を用いて、該孔又は該凹部に対する該第2印のずれ量を計測し、複数の該第1印に対して該ずれ量分ずれた位置を基準として複数の該単位基板に該素子を実装し、該集合基板から複数の該単位基板をばらす。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing the substrate apparatus, wherein the collective substrate manufactured by the method according to the second aspect is used to measure a deviation amount of the second mark with respect to the hole or the concave portion. The element is mounted on the plurality of unit substrates with reference to the position shifted by the amount of deviation relative to the mark, and the plurality of unit substrates are separated from the collective substrate.
第6態様の基板装置の製造方法は、第3態様に記載の方法で製造された集合基板を用いて、該孔又は該凹部に対する該印のずれ量を計測し、複数の該印に対して該ずれ量分ずれた位置を基準として複数の該単位基板に該素子を実装し、該集合基板から複数の該単位基板をばらす。 The substrate device manufacturing method according to the sixth aspect uses the aggregate substrate manufactured by the method according to the third aspect to measure the amount of deviation of the mark with respect to the hole or the recess, and with respect to a plurality of the marks. The element is mounted on the plurality of unit substrates with the position shifted by the amount of displacement as a reference, and the plurality of unit substrates are separated from the collective substrate.
請求項4の光学装置の製造方法は、該単位基板は、長尺とされ、該素子は、発光素子又は受光素子とされ、請求項1〜3の何れか1項に記載の方法で製造された基板装置を用いて、該基板装置の短手方向の端面を筐体に対して接触させて、該筐体に該基板装置を位置決めし、該素子と光学部品とが対向するように該筐体に光学部品を位置決めし、該筐体に該基板装置及び該光学部品を固定する、光学装置の製造方法。
第7態様の光学装置の製造方法は、該単位基板は、長尺とされ、該素子は、発光素子とされ、第4〜6態様の何れか1態様に記載の方法で製造された基板装置を用いて、該基板装置の短手方向の端面を筐体に対して接触させて、該筐体に該基板装置を位置決めし、該素子と光学部品とが対向するように該筐体に光学部品を位置決めし、該筐体に該基板装置及び該光学部品を固定する。
The method of manufacturing an optical device according to claim 4, wherein the unit substrate is long, the element is a light emitting element or a light receiving element, and is manufactured by the method according to
Method of manufacturing an optical device according to a seventh aspect, the unit substrate is an elongated, the element is a light emitting element, a substrate device manufactured by the method according to any one aspect of the fourth to sixth aspect The substrate device is placed in contact with the casing by bringing the end surface of the substrate device in the short direction into contact with the casing, and the optical element is optically mounted on the casing so that the element and the optical component face each other. The component is positioned, and the substrate device and the optical component are fixed to the casing.
第1態様の集合基板の製造方法は、複数の溝を形成する工具と異なる工具で孔又は凹部を形成する場合に比べて、孔又は凹部と複数の単位基板の外形との位置関係が明確な集合基板を製造することができる。 In the method for manufacturing a collective substrate according to the first aspect , the positional relationship between the holes or recesses and the outer shapes of the plurality of unit substrates is clearer than when the holes or recesses are formed using a tool different from the tool that forms the plurality of grooves. An aggregate substrate can be manufactured.
第2態様の集合基板の製造方法は、複数の溝を形成する工具と異なる工具で第2印に孔又は凹部を形成する場合に比べて、第2印と複数の単位基板の外形との位置関係が明確な集合基板を製造することができる。 The method of manufacturing the collective substrate of the second aspect is that the positions of the second mark and the outer shapes of the plurality of unit substrates are different from the case of forming a hole or a recess in the second mark with a tool different from the tool that forms the plurality of grooves. A collective substrate with a clear relationship can be manufactured.
第3態様の集合基板の製造方法は、複数の溝を形成する工具と異なる工具で印に孔又は凹部を形成する場合に比べて、印と複数の単位基板の外形との位置関係が明確な集合基板を製造することができる。 In the method of manufacturing the collective substrate of the third aspect , the positional relationship between the marks and the outer shapes of the plurality of unit substrates is clear as compared with the case where holes or recesses are formed in the marks using a tool different from the tool that forms the plurality of grooves. An aggregate substrate can be manufactured.
請求項1及び第4態様の基板装置の製造方法は、複数の溝を形成する工具と異なる工具で形成される孔又は凹部を基準に素子を実装する場合に比べて、素子が実装される位置が単位基板の端から定められた範囲内とされる複数の基板装置を製造することができる。
The manufacturing method of the substrate device according to
請求項2及び第5態様の基板装置の製造方法は、第1印を基準として単位基板に素子を実装する場合に比べて、素子が実装される位置が単位基板の端から定められた範囲内とされる複数の基板装置を製造することができる。 Method of manufacturing a substrate according to claim 2 and the fifth aspect, as compared with the case of mounting the device to the unit substrate a first indicia as a reference, the range which the position is determined from the edge of the unit substrate element is mounted A plurality of substrate devices can be manufactured.
請求項3及び第6態様の基板装置の製造方法は、印を基準として単位基板に素子を実装する場合に比べて、素子が実装される位置が単位基板の端から定められた範囲内とされる複数の基板装置を製造することができる。 In the method of manufacturing the substrate device according to the third and sixth aspects, the position where the element is mounted is within a range determined from the end of the unit board, as compared with the case where the element is mounted on the unit board based on the mark. A plurality of substrate devices can be manufactured.
請求項4及び第7態様の光学装置の製造方法は、複数の溝及び複数の連結片を形成する工具と異なる工具で孔又は凹部を形成する場合に比べて、光軸のずれが許容範囲内とされる光学装置を製造することができる。 The method for manufacturing an optical device according to claim 4 and the seventh embodiment, as compared with the case of forming a hole or recess in the tool and different tools for forming a plurality of grooves and a plurality of connecting pieces, deviation of the optical axis is within the acceptable range It is possible to manufacture an optical device.
≪概要≫
以下、発明を実施するための形態(実施形態)について説明する。まず、実施形態の露光装置の製造方法により製造される露光装置10について説明する。次いで、実施形態の露光装置10の製造方法について説明する。次いで、実施形態の作用について説明する。なお、実施形態の露光装置10の製造方法は実施形態の集合基板90及び発光基板20の製造方法を含んでいることから、実施形態の集合基板90及び発光基板20の製造方法については実施形態の露光装置10の製造方法の説明の中で説明する。
≪Overview≫
Hereinafter, modes (embodiments) for carrying out the invention will be described. First, the
≪露光装置≫
露光装置10は、画像形成装置(図示省略)を構成する感光体ドラムPDに光LBを照射して潜像を形成する機能を有する(図2参照)。露光装置10は、図1及び図2に示されるように、発光基板20と、レンズアレイ30と、筐体40と、を含んで構成されている。ここで、露光装置10は、光学装置の一例である。発光基板20は、基板装置の一例である。レンズアレイ30は、光学部品の一例である。なお、以下の露光装置10の構成要素の説明は、特に断りがない限り、露光装置10を構成している状態の各構成要素についてのものとする。
≪Exposure equipment≫
The
<発光基板>
発光基板20は、画像形成装置の制御部(図示省略)から送られる画像データに応じて、光LBを照射する機能を有する。ここで、発光基板20は、基板装置の一例である。発光基板20は、長尺基板50と、複数のLEDアレイ62と、ドライバ64と、を含んで構成されている(図1及び図2参照)。ここで、LEDアレイ62は、素子及び発光素子の一例である。また、長尺基板50は、単位基板の一例である。
<Light emitting substrate>
The
長尺基板50の片面(表面52)には、長手方向に沿う長尺端子56が長手方向の一端側から他端側に亘って形成されている。長尺端子56には、長尺端子56の長手方向に沿って、複数のLEDアレイ62が千鳥状に配置されて実装されている。また、表面52における長手方向一端側の端部と、当該端部に隣接する長尺端子56の端部との間には、一対の矩形状の印58(以下、第1印58という。)が形成されている。これに対して、長尺基板50のもう一方の片面(裏面54)にはドライバ64を実装するための端子(図示省略)が形成されている。ドライバ64は、当該端子に実装されている。
On one surface (front surface 52) of the
<レンズアレイ>
レンズアレイ30は、複数のLEDアレイ62が照射する光LBを屈折させて、屈折させた光LBを感光体ドラムPDで結像させる機能を有する。レンズアレイ30は、長尺とされている。レンズアレイ30は、図2に示されるように、画像形成装置に取り付けられた状態では、発光基板20と感光体ドラムPDとの間に配置されている。
<Lens array>
The
<筐体>
筐体40は、発光基板20とレンズアレイ30とが対向するように、発光基板20及びレンズアレイ30を固定する機能を有する。筐体40は、長尺とされている。また、筐体40には、図2に示されるように、高さ方向(筐体40の長手方向及び短手方向に交差する方向)に貫通し、かつ、その長手方向に沿う長尺の貫通穴42が形成されている。
<Case>
The
筐体40は、レンズアレイ30の短手方向の両端面を貫通穴42における上側の短手方向の対向面に接触させて筐体40にレンズアレイ30を位置決めして、筐体40にレンズアレイ30を固定している。また、筐体40は、発光基板20を構成する長尺基板50の短手方向の両端面を貫通穴42における下側の短手方向の対向面に接触させて筐体40に発光基板20を位置決めして、筐体40に発光基板20を固定している。
The
以上が、露光装置10の構成についての説明である。
The above is the description of the configuration of the
≪露光装置の製造方法≫
次に、露光装置10の製造方法について図面を参照しつつ説明する。露光装置10の製造方法は、後述する第1工程、第2工程、第3工程、第4工程、第5工程及び第6工程を含む。また、上記の各工程は、これらの記載順で行われる。以下、上記の各工程について簡単に説明し、次いで、各工程で用いられる平面基板70(図3参照)、大型基板80(図4参照)及び集合基板(図6参照)の構成について説明し、次いで、上記の各工程について詳細に説明することとする。なお、以下の説明では、図中の矢印Xを各基板(後述する平面基板70、大型基板80、集合基板90及び基板100)の長さ方向、矢印Yを各基板の幅方向、矢印Zを各基板の厚み方向とする。
<< Manufacturing method of exposure apparatus >>
Next, a method for manufacturing the
<各工程の簡単な説明>
第1工程は、平面基板70(図3参照)にパターニングを行うことで、大型基板80(図4参照)を準備する工程である。第2工程は、第1工程で準備した大型基板80に複数の溝92、94及び孔96を形成して集合基板90(図6参照)を準備する工程である。ここで、孔96は、孔の一例である。また、本実施形態の溝92、94及び孔96は、集合基板90を貫通している。第3工程は、第2工程で準備した集合基板90を用いて、孔96に対しての後述する第2印86のずれ量を計測する工程である(図7及び図8参照)。第4工程は、第1印58に対して第3工程で計測したずれ量分ずれた位置を基準として集合基板90(を構成する長尺基板50)に複数のLEDアレイ62を実装して基板100を準備する工程である(図9参照)。第5工程は、第4工程で準備した基板100における後述する複数の連結片93、95を切断する工程である。第6工程は、第5工程までの工程により製造された発光基板20と、レンズアレイ30とを、筐体40に固定する工程である(図1及び図2参照)。
<Simple explanation of each process>
The first step is a step of preparing a large substrate 80 (see FIG. 4) by patterning the flat substrate 70 (see FIG. 3). The second step is a step of preparing the collective substrate 90 (see FIG. 6) by forming a plurality of
<平面基板、大型基板及び集合基板の構成>
[平面基板]
平面基板70は、両面全域が銅箔で覆われている基板とされている(図3参照)。ただし、平面基板70には、位置決め用の孔(丸孔72、長孔74)が形成されている。
<Configuration of flat substrate, large substrate and collective substrate>
[Plane substrate]
The
[大型基板]
大型基板80は、平面基板70に、各長尺基板50を構成する、長尺端子56、ドライバ64を実装するための端子及び第1印58、第2印86等のパターンが形成された(パターニングされた)状態の基板とされている(図4参照)。ただし、大型基板80には、溝92、94が形成されていない(図4参照)。
[Large substrate]
In the
[集合基板]
集合基板90は、大型基板80に、複数の溝92、94及び孔96が形成された状態の基板とされている(図6参照)。そして、集合基板90は、複数の長尺基板50と、一対の捨て基板98、99と、複数の連結片93、95を含んで構成されている。なお、大型基板80に複数の溝92、94を形成した切り残し部分が、複数の連結片93、95となる。
[Aggregate substrate]
The
複数の長尺基板50は、各長尺基板50の短手方向(集合基板90の幅方向)に沿って並べられている。また、一対の捨て基板98は、複数の長尺基板50のうち各長尺基板50の短手方向両端側の長尺基板50よりも外側(集合基板90の幅方向両端側)に配置されている。さらに、一対の捨て基板99は、複数の長尺基板50のうち各長尺基板50の長手方向両端側の長尺基板50よりも外側(集合基板90の長さ方向両端側)に配置されている。
The plurality of
隣り合う長尺基板50同士の間と、各捨て基板98と当該捨て基板98に隣接する長尺基板50との間とには、複数の溝92が形成されている。別の見方をすると、隣り合う長尺基板50同士、及び、各捨て基板98と当該捨て基板98に隣接する長尺基板50は、複数の連結片93で連結されている。また、各捨て基板99と当該捨て基板99に隣接する長尺基板50との間は、それぞれ溝94が形成されている。また、隣り合う溝94同士の間には、それぞれ、連結片95が形成されている。そして、複数の溝92、94は、複数の長尺基板50の外形を画定する溝とされている。
A plurality of
<各工程の詳細な説明>
[第1工程]
第1工程は、前述のとおり、大型基板80(図4参照)を準備する工程である。具体的に第1工程は、平面基板70における複数の長尺基板50となる各部位(一例として10部位)に一対の第1印58を付すとともに第1印58が付される部位と異なる部位(一例として1部位)に第2印86を付した大型基板80を準備する工程とされる。ここで、第1印58の技術的な意味については、第4工程の説明の中で説明する。また、第2印86は、第2工程において、孔96が形成される部位であって、捨て基板98(図6参照)に形成されている。第2印86は、一例として、外形が円のベタパターンとされている。なお、第1工程では、パターン形成装置(図示省略)を用いて、ドライフィルム(図示省略)をラミネートした平面基板70に、感光、レジスト除去、エッチング等をすることで、平面基板70を大型基板80とする。この際、平面基板70は、パターン形成装置に丸穴72及び長穴74で位置決めされる。大型基板80が準備されると、第1工程が終了する。
<Detailed description of each process>
[First step]
As described above, the first step is a step of preparing the large substrate 80 (see FIG. 4). Specifically, in the first step, a pair of
[第2工程]
第2工程は、前述のとおり、集合基板90(図6参照)を準備する工程である。具体的に第2工程は、第1工程で製造された大型基板80が工作機械の一例であるルーター(図示省略)に位置決め用の孔(丸孔72、長孔74)で位置決めされた状態で、複数の溝92、94をエンドミルEMにより形成しつつ、孔96をエンドミルEM(図5参照)により形成する工程である。なお、複数の溝92、94が形成されることに伴い、大型基板80には複数の連結片93、95が形成される。ここで、エンドミルEMは、工具の一例である。なお、孔96は、第4工程において、複数のLEDアレイ62を実装する際の基準(第1印58からの第3工程で計測したずれ量を補正した位置)を定めるために使用されるものである。
[Second step]
As described above, the second step is a step of preparing the collective substrate 90 (see FIG. 6). Specifically, in the second step, the
まず、第2工程では、ルーターに位置決め用の孔(丸孔72、長孔74)で位置決めされた大型基板80に、複数の溝92、94がエンドミルEMにより形成される。
First, in the second step, a plurality of
次いで、第2工程では、複数の溝92、94が形成されて、ルーターに位置決め用の孔(丸孔72、長孔74)で位置決めされたままの大型基板80に、孔96がエンドミルEMにより形成される。この場合、孔96は、第1工程で形成された第2印86の丸穴72に対するXY平面座標の位置情報に基づいて、第2印86の中心とされる点を中心に形成される。なお、実施形態の孔96は、一例として、第2印86よりも径の小さい丸穴とされている。
Next, in the second step, a plurality of
以上のとおり、ルーターに大型基板80が位置決めされた状態で、複数の溝92、94及び孔96がエンドミルEMにより形成されると、集合基板90が準備されて、第2工程が終了する。別言すると、第1工程及び第2工程がこの記載順で行われて終了すると、集合基板90が製造される。
As described above, when the plurality of
<第3工程>
第3工程は、前述のとおり、第2工程で準備された集合基板90を用いて、孔96に対する第2印86のずれ量を計測する工程である(図7及び図8参照)。具体的に第3工程では、撮像装置(図示省略)に位置決め用の孔(丸孔72、長孔74)で位置決めされた集合基板90を用いて、孔96及び第2印86を含む像IMが撮像される。
<Third step>
As described above, the third step is a step of measuring the shift amount of the
例えば、撮像装置により撮像された孔96及び第2印86を含む像IMにおいて、図7のように、孔96の中心OAと第2印86の中心OBとが一致している場合、孔96に対する第2印86のずれ量は0(ずれ量が0とは、集合基板90における長さ方向のずれ量ΔXが0かつ幅方向のずれ量ΔYが0であることを意味する。)とされる。これに対して、例えば、図8のように、孔96の中心OAと第2印86の中心OBとがずれている場合、そのずれ量は長さ方向に−ΔX1、幅方向にΔY1とされる。
For example, in the image IM including the
なお、撮像装置は、撮像した像IMの第2印86から、集合基板90の長さ方向及び幅方向において第2印86の長さ及び幅がそれぞれ最大値となる位置を、実際に形成された第2印86の中心OBと認識するようになっている。また、撮像装置は、撮像した像IMの孔96から、集合基板90の長さ方向及び幅方向において孔96の内壁間の距離がそれぞれ最大値となる位置を、孔96の中心OAと認識するようになっている。そして、撮像装置は、XY平面座標における中心OAと中心OBとのずれ量を計測するようになっている。なお、このように、ずれ量が計測できるのは、孔96の径が第2印86の径よりも小さいことによる。孔96に対する第2印86のずれ量が計測されると、第3工程が終了する。
The imaging device is actually formed from the
<第4工程>
第4工程は、前述のとおり、第2工程で準備された集合基板90を用いて、集合基板90を構成する複数の長尺基板50の長尺端子56にその長手方向に沿って複数のLEDアレイ62を配置して、各長尺基板50に複数のLEDアレイ62を実装する工程である(図9参照)。具体的に第4工程では、実装装置(図示省略)に位置決め用の孔(丸孔72、長孔74)で位置決めされた集合基板90を用いて、各長尺基板50の第1印58に対してを第3工程で計測されたずれ量分ずれた位置を基準として、各長尺基板50に複数のLEDアレイ62が実装される。例えば、第3工程において計測されたずれ量が、図8の場合、すなわち、そのずれ量が長さ方向に−ΔX1、幅方向にΔY1とされる場合、各長尺端子56に複数のLEDアレイ62を実装する基準は、第1印58に対して長さ方向に−ΔX、幅方向にΔYずれた位置とされる。
<4th process>
In the fourth step, as described above, using the
集合基板90を構成する各長尺基板50に複数のLEDアレイ62が実装されると、図9に示されるように、複数の発光基板20、一対の捨て基板98及び一対の捨て基板99が、複数の連結片93、95で連結された状態の基板(以下、基板100という。)が準備されて、第4工程が終了する。
When a plurality of
<第5工程>
第5工程は、前述のとおり、第4工程で準備された基板100における複数の連結片93、95を切断する工程である。すなわち、第5工程は、基板100(集合基板90)を複数の発光基板20(長尺基板50)にばらす工程である。具体的に第5工程では、カッター装置(図示省略)に位置決め用の孔(丸孔72、長孔74)で位置決めされた基板100を用いて、基板100の長さ方向に沿う複数の溝92に沿って複数の連結片93が切断される。また、第5工程では、カッター装置(図示省略)に位置決め用の孔(丸孔72、長孔74)で位置決めされた基板100を用いて、基板100の幅方向に沿う複数の溝94に沿って複数の連結片95が切断される。
<5th process>
As described above, the fifth step is a step of cutting the plurality of
第5工程によりすべての連結片93、95が切断されると、複数の発光基板20(実施形態では一例として10個)と、2枚の捨て基板98と、2枚の捨て基板99とがばらされて、10個の発光基板20が製造されて、第5工程が終了する。別言すると、第1工程、第2工程、第3工程、第4工程及び第5工程がこれらの記載順で行われて終了すると、発光基板20が製造される。
When all the connecting
<第6工程>
第6工程は、前述のとおり、第5工程までの工程により製造された発光基板20と、レンズアレイ30とを、筐体40に固定する工程である(図1及び図2参照)。
<6th process>
As described above, the sixth step is a step of fixing the
具体的に第6工程は、発光基板20及びレンズアレイ30を筐体40に固定するための固定治具(図示省略)を用いて行われる。具体的に、第6工程では、作業者が、筐体40の長尺の貫通穴42における上側の開口周縁の複数箇所に接着剤(図示省略)を塗布する。次いで、作業者は、レンズアレイ30の短手方向の両端面を貫通穴42における上側の短手方向の対向面に接触させて、(筐体40にレンズアレイ30を位置決めして、)筐体40にレンズアレイ30を固定する(図1及び図2参照)。また、作業者は、長尺基板50の裏面の複数箇所に接着剤(図示省略)を塗布する。次いで、作業者は、発光基板20を構成する長尺基板50の短手方向の両端面を貫通穴42における下側の短手方向の対向面に接触させて、(筐体40に発光基板20を位置決めして、)筐体40に発光基板20を固定する(図1及び図2参照)。第6工程が終了すると、露光装置10が製造される(図1及び図2参照)。
Specifically, the sixth step is performed using a fixing jig (not shown) for fixing the
以上が、露光装置10の製造方法についての説明である。
The above is the description of the manufacturing method of the
≪作用≫
次に、実施形態の作用について、実施形態を以下に説明する比較形態と比較して説明する。比較形態の説明において、実施形態で用いた部品等と同等の部品等を用いる場合、図示しなくてもその部品等の名称をそのまま用いるものとする。
≪Action≫
Next, the operation of the embodiment will be described in comparison with a comparative embodiment described below. In the description of the comparative form, when using a component or the like equivalent to that used in the embodiment, the name of the component or the like is used as it is even if it is not shown.
比較形態の場合、大型基板を準備する工程において、第2印86が形成されない。また、比較形態の場合、大型基板から集合基板を製造する工程では、孔96が形成されない。そして、比較形態の場合、集合基板が製造された後、実装装置を用いて、第1印58を基準として複数のLEDアレイ62が配置される。比較形態の露光装置の製造方法は、上記の点以外、実施形態の場合と同様である。
In the case of the comparative form, the
比較形態の場合、集合基板を構成する各長尺基板50の短手方向端面からの第1印58までの距離にばらつきが発生する虞がある。ばらつきの発生は、パターン形成装置により平面基板70に第1印58等をパターニングして大型基板を製造した後、ルーターにより当該大型基板に複数の溝92、94を形成することから、各装置での大型基板の取り付けの公差等に起因する。また、比較形態の場合、集合基板を構成する各長尺基板50において、その短手方向端面から第1印58までの距離のばらつきを把握するためのものがない。
In the case of the comparative form, there is a possibility that the distance from the end surface in the short direction of each
そして、比較形態の場合、第1印58を基準として、各長尺基板50にLEDアレイ62を実装して発光基板20を製造した後、当該発光基板20の短手方向端面を筐体40の貫通穴42の対向面に接触させて当該発光基板20を筐体40に位置決めして固定する。その結果、比較形態の製造した露光装置10の場合、長尺基板50の短手方向の端面からの第1印58までの距離のばらつきに起因して、光軸がずれる虞がある。
In the case of the comparative embodiment, the
また、実施形態の場合、比較形態の場合と同様、比較形態の場合と同様の理由により、集合基板を構成する各長尺基板50の短手方向の端面からの第1印58までの距離にばらつきが発生する虞がある。しかしながら、実施形態の場合、第1工程で大型基板80に第2印86が形成され、第2工程でルーターに大型基板80を位置決めした状態で、複数の溝92、94がエンドミルEMにより形成されつつ、孔96をエンドミルEMにより形成される。そして、第3工程により第2印86と孔96とのずれ量を計測することで、間接的に各長尺基板50の短手方向端部からの第1印58のずれ量を把握することができる。
Further, in the case of the embodiment, as in the case of the comparative form, for the same reason as in the case of the comparative form, the distance from the end surface in the short direction of each
したがって、実施形態の集合基板90の製造方法によれば、複数の溝92、94及び複数の連結片93、95を形成する工具と異なる工具で孔96を形成する場合に比べて、第2印86と、複数の長尺基板50の外形との位置関係が、明確な集合基板を製造することができる。
Therefore, according to the manufacturing method of the
さらに、実施形態の場合、第1工程、第2工程及び第3工程の後、第1印58に対して第3工程で計測したずれ量分ずらした位置を基準として、第4工程で各長尺基板50に複数のLEDアレイ62が実装される。
Further, in the case of the embodiment, after the first step, the second step, and the third step, each length in the fourth step is set based on the position shifted by the amount of deviation measured in the third step with respect to the
したがって、実施形態の発光基板20の製造方法によれば、第1印58を基準として単位基板に素子を実装する場合に比べて、複数のLEDアレイ62が実装される位置が各長尺基板20の端(外形)から定められた範囲内とされる複数の発光基板20を製造することができる。ここで、定められた範囲内とは、発光基板20が露光装置10を構成した状態において、光軸のずれが許容範囲内に収まるような範囲をいう。これに伴い、実施形態の露光装置10の製造方法によれば、複数の溝92、94及び複数の連結片93、95を形成する工具と異なる工具で孔96を形成する場合に比べて、光軸のずれが許容範囲内とされる露光装置10を製造することができる。
Therefore, according to the manufacturing method of the
なお、実施形態の場合、第1工程において、第2印86は、捨て基板99に相当する部位に形成される(図4及び図6参照)。そのため、実施形態の方法により製造された発光基板20(長尺基板50)には、発光基板20の製造において位置ずれの補正に用いられる第2印86がない(製品としての発光基板20において技術的な意味を有さない第2印86がない)。したがって、実施形態の発光基板20の製造方法によれば、長尺基板50のスペースが有効活用できる発光基板20を製造することができる。また、実施形態の発光基板20の製造方法によれば、長尺基板50に第2印86を形成する必要がない分、発光基板20を小型化することができる。
In the case of the embodiment, in the first step, the
以上のとおり、本発明を特定の実施形態について詳細に説明したが、本発明の技術的範囲は前述した実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明の技術的範囲には、下記のような形態も含まれる。 As described above, the present invention has been described in detail for specific embodiments, but the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments. For example, the following forms are also included in the technical scope of the present invention.
実施形態の露光装置10は、光学装置の一例であるとして説明した。しかしながら、例えば、露光装置10の発光基板20を構成する複数の発光素子(LEDアレイ62)を受光素子に変更すると、密着イメージセンサ(Contact Image Sensor)の画像読取装置となる。この場合、受光素子は光学素子の一例である。また、画像読取装置は光学装置の一例である。
The
また、実施形態では、第2工程において集合基板90に孔96を形成するとして説明した。しかしながら、第3工程において第2印86のずれ量を計測することができれば、孔96に換えて凹部を形成してもよい。
Further, in the embodiment, it has been described that the
また、実施形態では、第1工程において集合基板90を構成した際の捨て基板98に相当する部位に第2印86を形成するとして説明した。しかしながら、第2印86は、大型基板80を集合基板90とした際に表面上に形成されていれば、捨て基板98に相当する部位に形成されていなくてもよい。例えば、捨て基板99に相当する部位に形成されてもよい。また、長尺基板50に相当する部位に形成されていてもよい。さらに、各長尺基板50に相当する部位にそれぞれ形成されていてもよい。
In the embodiment, it has been described that the
また、実施形態では、孔96に対する第2印86のずれ量を計測し、第1印58に対して当該ずれ量分ずらした位置を基準にして複数のLEDアレイ62を実装するとして説明した。しかしながら、第1工程において第1印58及び第2印86が形成されていない大型基板80を準備し、第2工程において当該大型基板80をルーターに位置決めした状態で、複数の溝92、94をエンドミルEMにより形成しつつ、孔96をエンドミルEMにより形成して集合基板を製造してもよい。この集合基板の製造方法によれば、複数の溝92、94(及び複数の連結片93、95)を形成する工具と異なる工具で孔96を形成する場合に比べて、孔96と、複数の長尺基板50の外形との位置関係が明確な集合基板を製造することができる。また、この場合、集合基板を構成する各長尺基板50に複数のLEDアレイ62を実装する際、孔96は実装の基準として使用される。そのため、実施形態のように孔96に対する第2印86のずれ量を計測し、更にLEDアレイ62の実装における基準の補正を行う必要がない点で有効である。なお、この方法で製造した集合基板を用いた発光基板20(露光装置10)の製造方法によれば、実施形態と同様の効果を奏するといえる。
Further, in the embodiment, the shift amount of the
また、実施形態では、孔96に対する第2印86のずれ量を計測し、第1印58に対して当該ずれ量分ずらした位置を基準として複数のLEDアレイ62を実装するとして説明した。しかしながら、第1工程において第2印86が形成されていない大型基板80を準備し、第2工程において当該大型基板80をルーターに位置決めした状態で、複数の溝92、94をエンドミルEMにより形成しつつ、孔96をエンドミルEMにより第1印58(この場合の第1印58は、印の一例である。)に形成して集合基板を製造してもよい。この集合基板の製造方法によれば、複数の溝92、94(及び複数の連結片93、95)を形成する工具と異なる工具で孔96を形成する場合に比べて、孔96と、複数の長尺基板50の外形との位置関係が明確な集合基板を製造することができる。これに伴い、この方法で製造した集合基板を用いた発光基板20(露光装置10)の製造方法によれば、実施形態と同様の効果を奏するといえる。
Further, in the embodiment, the shift amount of the
10 露光装置
20 発光基板(基板装置の一例)
30 レンズアレイ(光学部品の一例)
40 筐体
50 長尺基板(単位基板の一例)
58 第1印、印
62 LEDアレイ(素子及び光学素子の一例)
70 平面基板
80 大型基板
86 第2印
90 集合基板
92 溝
93 連結片
94 溝
95 連結片
96 孔
EM エンドミル(工具の一例)
DESCRIPTION OF
30 Lens array (an example of an optical component)
40
58 1st mark, 62 mark LED array (an example of an element and an optical element)
70
Claims (4)
該集合基板の該孔又は該凹部を基準として複数の該単位基板に該素子を実装して、該集合基板から複数の該単位基板をばらす工程と、
を有する基板装置の製造方法。 While forming a plurality of grooves for defining the outer shape of the plurality of unit substrates on which the elements are mounted on the positioned large substrate, a tool is provided with a hole or a recess serving as a reference for mounting the elements on the plurality of unit substrates. preparing a collective substrate formed by,
Mounting the element on the plurality of unit substrates based on the holes or the recesses of the assembly substrate, and separating the plurality of unit substrates from the assembly substrate;
Manufacturing method of substrate device having
該集合基板の該孔又は該凹部に対する該第2印のずれ量を計測し、複数の該第1印に対して該ずれ量分ずれた位置を基準として複数の該単位基板に該素子を実装して、該集合基板から複数の該単位基板をばらす工程と、
を有する基板装置の製造方法。 Element in the flat plane substrate is positioned a large-board marked with second indicia different from the first mark with subjecting the first indicia which is a plurality of reference of Unit substrate and sites the element mounting consisting implemented Thereafter, a plurality of grooves defining the outer shapes of the plurality of unit substrates are formed on the large substrate with a tool, and an aggregate substrate is prepared in which holes or recesses are formed in the second marks on the large substrate with the tool. Process,
The amount of deviation of the second mark with respect to the hole or the concave portion of the collective substrate is measured, and the element is mounted on the plurality of unit boards with reference to the position shifted by the amount of deviation with respect to the plurality of first marks. Separating the plurality of unit substrates from the aggregate substrate;
Manufacturing method of substrate device having
該集合基板の該孔又は該凹部に対する該印のずれ量を計測し、複数の該印に対して該ずれ量分ずれた位置を基準として複数の該単位基板に該素子を実装し、該集合基板から複数の該単位基板をばらす工程と、
を有する基板装置の製造方法。 After positioning the large-board marked as a plurality of reference of Unit substrate become sites the element implementation elements are mounted on a flat surface substrate, a large-sized substrate, the outer shape of the plurality of the unit substrate Preparing a collective substrate in which a hole or a recess is formed in the mark on the large substrate with the tool while forming a plurality of grooves defining
The amount of deviation of the mark with respect to the hole or the recess of the collective substrate is measured, and the element is mounted on the plurality of unit substrates on the basis of positions displaced by the amount of deviation with respect to the plural marks, Separating the plurality of unit substrates from the substrate;
Manufacturing method of substrate device having
該素子は、発光素子又は受光素子とされ、
請求項1〜3の何れか1項に記載の方法で製造された基板装置を用いて、該基板装置の短手方向の端面を筐体に対して接触させて、該筐体に該基板装置を位置決めし、
該素子と光学部品とが対向するように該筐体に光学部品を位置決めし、
該筐体に該基板装置及び該光学部品を固定する、
光学装置の製造方法。 The unit substrate is long,
The element is a light emitting element or a light receiving element ,
A substrate device manufactured by the method according to any one of claims 1 to 3 , wherein an end surface in a short direction of the substrate device is brought into contact with a housing, and the substrate device is brought into contact with the housing. Position and
Positioning the optical component in the housing so that the element and the optical component face each other;
Fixing the substrate device and the optical component to the housing;
Manufacturing method of optical device.
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