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JPS5854976B2 - Method for producing wholly aromatic polyamide film - Google Patents
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JPS5854976B2 - Method for producing wholly aromatic polyamide film - Google Patents

Method for producing wholly aromatic polyamide film

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Publication number
JPS5854976B2
JPS5854976B2 JP50119504A JP11950475A JPS5854976B2 JP S5854976 B2 JPS5854976 B2 JP S5854976B2 JP 50119504 A JP50119504 A JP 50119504A JP 11950475 A JP11950475 A JP 11950475A JP S5854976 B2 JPS5854976 B2 JP S5854976B2
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film
weight
wholly aromatic
water
aromatic polyamide
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正徳 升田
静夫 猪飼
義春 鈴木
千嗣 北畠
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、全芳香族ポリアミドフィルムの製造法に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a wholly aromatic polyamide film.

芳香族ポリアミドは、その高い耐熱性と、すぐれた電気
的特性のため斯界の用途開発が盛んに行なわれてきた。
Aromatic polyamides have been actively developed for use in this field because of their high heat resistance and excellent electrical properties.

全芳香族ポリアミドは不融性であるため溶融成形ができ
ないので、一般には後述のごときアミド系溶媒に溶解し
て得たドープから湿式成形あるいは乾式成形により成形
されている。
Since wholly aromatic polyamides are infusible and cannot be melt-molded, they are generally molded by wet molding or dry molding from a dope obtained by dissolving in an amide solvent as described below.

しかしながら、湿式成形法または乾式成形法によってフ
ィルムを成形する場合には経済上、技術上あるいは得ら
れるフィルムの性能上に次のごとき欠点を有している。
However, when a film is formed by a wet molding method or a dry molding method, there are the following disadvantages in terms of economy, technology, and performance of the resulting film.

すなわち、前者においては凝固剤の選択が問題であり、
凝固剤の凝固力、凝固時間、凝固温度等に特別な配慮を
しても、なお不透明なフィルムとなり、すぐれた機械的
、電気的性能を有するフィルムを得にくいという欠点が
ある。
In other words, in the former case, the problem is the selection of coagulant;
Even if special consideration is given to the coagulation power, coagulation time, coagulation temperature, etc. of the coagulant, the resulting film is still opaque and has the disadvantage that it is difficult to obtain a film with excellent mechanical and electrical performance.

また、後者は加熱雰囲気または刃口熱板に接触させて溶
媒を蒸発除去させる方法であるが、一般に用いられるア
ミド系溶媒は沸点が高く200℃前後もあるうえ、蒸発
潜熱が大きいので乾燥にはかなり高温で長時間を要する
という欠点がある。
In addition, the latter is a method in which the solvent is removed by evaporation in a heated atmosphere or in contact with a hot plate at the edge of the blade, but the commonly used amide solvents have a high boiling point of around 200°C and have a large latent heat of vaporization, so it is difficult to dry. The drawback is that it requires a long time at a fairly high temperature.

したがって、現在全芳香族ポリアミドの透明なフィルム
は市場にほとんど存在せず、電気絶縁材として一部に湿
式紡糸によって得られた繊維とフィブリッドとから抄紙
された絶縁紙が存在するのみである。
Therefore, there are currently almost no transparent films made of wholly aromatic polyamides on the market, and only insulating paper made from fibers and fibrids partially obtained by wet spinning exists as an electrical insulating material.

しかし、絶縁紙では数千ボルトの電界中で絶縁機能を維
持することは困難である。
However, it is difficult for insulating paper to maintain its insulation function in an electric field of several thousand volts.

本発明者らは、全芳香族ポリアミドからなるフィルムの
製造方法において上記の欠点を改善すべく鋭意検討した
結果、本発明に到達したものである。
The present inventors have arrived at the present invention as a result of intensive studies aimed at improving the above-mentioned drawbacks in a method for producing a film made of wholly aromatic polyamide.

すなわち本発明は、全芳香族ポリアミドとアミド系溶媒
とからなる溶液から薄膜を形成し、該薄膜を熱風乾燥に
よってフィルムを製造するに当り、残存溶媒量が30重
重量型こえ50重重量風下になるまで乾燥したのち水洗
することおよび(2)全芳香族ポリアミドとアミド系溶
媒とからなる溶液から薄膜を形成し、該薄膜を熱風乾燥
してフィルムを製造するに当り、ローラあるいはエンド
レススチールベルト表面上に薄膜を形成せしめ、次いで
残存溶媒量が30重量俤をこえ50重量φ以下になるま
で乾燥したのち水洗し、必要に応じ熱処理、熱延伸する
ことを要旨とするものである。
That is, in the present invention, when a thin film is formed from a solution consisting of a wholly aromatic polyamide and an amide solvent, and the thin film is dried with hot air to produce a film, the amount of residual solvent is more than 30% by weight and 50% by weight downwind. (2) Forming a thin film from a solution consisting of a wholly aromatic polyamide and an amide solvent, and drying the thin film with hot air to produce a film. The gist of this method is to form a thin film thereon, then dry it until the amount of residual solvent exceeds 30 weights and becomes less than 50 weights φ, washes with water, and heat-treats and hot-stretches as necessary.

本発明にいう全芳香族ポリアミドとは、次の一般式で示
される単位から構成される主鎖が実質的に芳香族基から
なるものをいう。
The wholly aromatic polyamide as used in the present invention refers to one whose main chain consisting of units represented by the following general formula consists essentially of aromatic groups.

式中、φ1およびφ2は次に示すグループより選ばれる
ものである。
In the formula, φ1 and φ2 are selected from the following group.

−HN−φ1−NH−CO−φ2−CO−および/また
は−HN−φ2−CO− また、本発明にいう全芳香族ポリアミドには重合体構成
単位の20モル係以下が上記の構成単位以外の構成単位
より戊っているものも含まれる。
-HN-φ1-NH-CO-φ2-CO- and/or -HN-φ2-CO- In addition, in the wholly aromatic polyamide referred to in the present invention, 20 molar proportion or less of the polymer constituent units are other than the above-mentioned constituent units. This also includes units that are smaller than the constituent units.

本発明に用いるアミド系溶媒とは、次のグループから選
ばれる少なくとも一種の化合物をさし、ポリマーの種類
によって適宜選ばれ使用される。
The amide solvent used in the present invention refers to at least one compound selected from the following group, and is appropriately selected and used depending on the type of polymer.

N、N’−ジメチルアセトアミド、N−メチル(2)ピ
ロリドン、N−メチルピペリドン、N−メチルカプロラ
クタム、N、N、N’、N’−テトラメチル尿素、N、
N、N’、N’、N“、N“−ヘキサメチルホスホロア
ミド。
N,N'-dimethylacetamide, N-methyl(2)pyrrolidone, N-methylpiperidone, N-methylcaprolactam, N,N,N',N'-tetramethylurea, N,
N,N',N',N",N"-hexamethylphosphoramide.

これらのアミド系溶媒は、本発明において全芳香族ポリ
アミドの重合溶媒としても用いられるので、重合体溶液
は対応するジアミンとジカルボン酸ハライドあるいはア
ミノカルボン酸ハライド塩酸塩から、これらアミド系溶
媒中でいわゆる低温溶液重合法により直接得ることがで
きる。
These amide solvents are also used as polymerization solvents for wholly aromatic polyamides in the present invention, so the polymer solution is prepared from the corresponding diamine and dicarboxylic acid halide or aminocarboxylic acid halide hydrochloride in these amide solvents. It can be obtained directly by low temperature solution polymerization method.

本発明においては上述のごとく低温溶液重合法によって
製造される溶液をそのままフィルム製造用ドープとして
用いることもできる。
In the present invention, the solution produced by the low-temperature solution polymerization method as described above can also be used as it is as a dope for film production.

この場合、重合工程において生成するハロゲン化水素の
中和にはCa(OH)2.LiOH,Mg(OH)2゜
Al (OH)3.Zn (OH)2等の水酸化物を用
うるためCaCl2.LiC1、AlCl3゜Z n
C12等の塩類が必然的にドープ中に含まれることにな
る。
In this case, Ca(OH2. LiOH, Mg(OH)2゜Al(OH)3. Since hydroxides such as Zn (OH)2 can be used, CaCl2. LiC1, AlCl3゜Z n
Salts such as C12 will inevitably be included in the dope.

ドープ中に含有される上記塩類の存在は溶液の安定性お
よびポリマーの溶解性向上に著しく有効である。
The presence of the above-mentioned salts contained in the dope is extremely effective in improving the stability of the solution and the solubility of the polymer.

すなわちフィルム製造の際のドープのゲル化防屯やフィ
ルムの不透明化防屯に役立っている。
In other words, it is useful for gelling dope and making film opaque during film production.

しかしながら、電解質である塩類を含む場合は電気絶縁
性がわるくなるので、すぐれた電気絶縁性能を有するフ
ィルムを得るためにはフィルムを水洗することによって
これらの塩類を除去する必要がある。
However, if it contains salts, which are electrolytes, the electrical insulation properties deteriorate, so in order to obtain a film with excellent electrical insulation performance, it is necessary to remove these salts by washing the film with water.

本発明において用いる成形用ドープ中のポリマーの濃度
は、使用するポリマーの種類や溶媒の種類によって異な
るが、一般には10〜35重量φ、とくに10〜20重
量係であることが好ましい。
The concentration of the polymer in the molding dope used in the present invention varies depending on the type of polymer and the type of solvent used, but it is generally preferably 10 to 35 weight φ, particularly 10 to 20 weight φ.

本発明の方法によりフィルムを製造するには、まず得ら
れたドープを薄膜状に流延し、その膜面に熱風を吹き付
けて溶媒を蒸発させ、残存溶媒量が30重重量型こえ5
0重量係以下に達した時に熱風による乾燥を終了し、ひ
き続いて水洗することにより残存溶媒、塩類およびモノ
マー等を除去、精製する。
To produce a film by the method of the present invention, first, the obtained dope is cast into a thin film, and the film surface is blown with hot air to evaporate the solvent, so that the remaining solvent amount is 30% by weight.
When the weight reaches 0 weight or less, the drying with hot air is completed, and the residual solvent, salts, monomers, etc. are removed and purified by subsequent washing with water.

なお、本発明にいう残存溶媒量とは下記の式で定義され
るものである。
In addition, the amount of residual solvent referred to in the present invention is defined by the following formula.

残存溶媒量が50重量必をこえる半乾燥状態の\ フィルムを水中に浸漬すると、フィルムは不透明化し、
フィルムの電気的性能は大巾に低下する。
When a semi-dry film with a residual solvent amount exceeding 50% by weight is immersed in water, it becomes opaque.
The electrical performance of the film is greatly reduced.

残存溶媒量が50重量係以下となった半乾燥状態のフィ
ルムはもはや水、その他の凝固液に浸漬しても不透明化
しない。
A semi-dry film with a residual solvent amount of 50% by weight or less will no longer become opaque even when immersed in water or other coagulating liquids.

すなわち、残存溶媒量が50重量係以下となった半乾燥
状態のフィルムは、たとえば水洗精練によって残存溶媒
と残存塩類とを除去して乾燥するのみで、とくに熱処理
を施さなくても、機械的強度は低いが120 kV /
mm程度の高い絶縁破壊電圧を有するフィルムを得るこ
とができる。
In other words, a film in a semi-dry state with a residual solvent amount of 50% by weight or less can be dried by simply removing the residual solvent and residual salts by water washing and scouring, and the mechanical strength can be improved without any particular heat treatment. is low, but 120 kV/
It is possible to obtain a film having a dielectric breakdown voltage as high as mm.

また、上記のように本発明においては水洗前のフィルム
の残存溶媒量を50重量係以下にすることが必要である
が、さらに良好な機械的特性と電気的特性を有するフィ
ルムを得るには水洗前のフィルムの残存溶媒量を40重
量係以下とするのが望ましい。
In addition, as mentioned above, in the present invention, it is necessary to reduce the amount of residual solvent in the film before washing with water to 50% by weight or less, but in order to obtain a film with even better mechanical and electrical properties, washing with water is necessary. It is desirable that the amount of residual solvent in the previous film is 40% by weight or less.

以上のように、残存溶媒量が50重量φ以下になった任
意の時点で熱風乾燥から溶媒や塩類などの抽出速度の大
きい水洗精練に切換えることによって透明で、かつ電気
絶縁性能のすぐれたフィルムを短時間に製造することが
可能となる。
As described above, a transparent film with excellent electrical insulation performance can be produced by switching from hot air drying to water scouring, which has a high extraction rate for solvents, salts, etc., at any point when the amount of residual solvent becomes 50 weight φ or less. It becomes possible to manufacture in a short time.

一方、数百ポイズ以上もある薄膜状態の高粘性液体の熱
風乾燥は減率乾燥であり、薄膜内部での溶媒の拡散速度
が乾燥速度を律速するので、乾燥が進行し薄膜の濃度が
上昇し粘性が増すにしたがって乾燥速度は極端に遅くな
る。
On the other hand, hot air drying of a highly viscous liquid in the form of a thin film of several hundred poise or more is lapse rate drying, and the diffusion rate of the solvent inside the thin film determines the drying rate, so the drying progresses and the concentration of the thin film increases. As the viscosity increases, the drying rate becomes extremely slow.

実際上、残存溶媒量を30重量係以下にすることは、フ
ィルムに過度の着色をおこさせない程度の乾燥温度にお
いては非常に長時間を要して工業的に不利である。
In fact, reducing the amount of residual solvent to 30% by weight or less is industrially disadvantageous because it requires a very long time to dry at a drying temperature that does not cause excessive coloring of the film.

短時間で残存溶媒量を30重量係以下にするため乾燥温
度を高温にすると生産性は上がるものの、フィルムの着
色が著しくなり品位の劣ったものしか得られなくなる。
If the drying temperature is increased to a high temperature in order to reduce the amount of residual solvent to 30% by weight or less in a short time, productivity will increase, but the film will be markedly colored and only a product of inferior quality will be obtained.

したがって、残存溶媒量が50重量係以下、30重重量
型こえる値になった時点、より好ましくは40重量係以
下、30重重量型こえる値になった時点で熱風乾燥から
水洗結線に切換えるのがフィルムの生産性ならびに性能
からみて工業的に有利である。
Therefore, it is recommended to switch from hot air drying to washing with water when the amount of residual solvent reaches 50% by weight or less and exceeds 30% by weight, more preferably 40% by weight or less and exceeds 30% by weight. It is industrially advantageous in terms of film productivity and performance.

溶媒や塩類の除去速度からみれは水洗温度は高い方がよ
く、通常、水洗は常温もしくは加温下に行なわれるが、
上記の残存溶媒を有する半乾燥状態のフィルムを−たん
20°C以下、好ましくは10℃以下の水あるいはアミ
ド系溶媒の水溶液に浸漬することによってフィルムの透
明性を改良することができる。
In terms of the removal rate of solvents and salts, the higher the water washing temperature, the better, and water washing is usually carried out at room temperature or under heating.
Transparency of the film can be improved by immersing the semi-dry film containing the residual solvent in water or an aqueous solution of an amide solvent at a temperature of 20° C. or below, preferably 10° C. or below.

さらに連続的にフィルムを製造するには、走行スルロー
ラあるいはエンドレスのスチールベルト表面に成形用ド
ープを薄膜状に目的とするフィルムの厚さに合わせて流
延し、その膜面に熱風を吹きつけて溶媒を蒸発させ、残
存溶媒量が30重重量型こえ50重量係以下、望ましく
は40重量係以下になった時、かくして得た薄膜をロー
ラーあるいはエンドレスのスチールベルト表面から剥離
して水洗し、必要に応じて乾燥することによって透明で
、かつ電気絶縁性のすぐれた連続フィルムが容易に得ら
れる。
In order to manufacture films continuously, a thin film of molding dope is cast onto the surface of a running roller or an endless steel belt to match the thickness of the desired film, and hot air is blown onto the film surface. When the solvent is evaporated and the amount of remaining solvent is more than 30% by weight and less than 50% by weight, preferably less than 40% by weight, the thin film thus obtained is peeled off from the surface of the roller or endless steel belt and washed with water, and then removed as required. By drying according to the conditions, a continuous film that is transparent and has excellent electrical insulation properties can be easily obtained.

上記のごとくにして得た溶媒を除去したフィルムは、そ
のままでも実用に供することができるが必要な場合には
熱処理、熱延伸すればよい。
The film obtained as described above from which the solvent has been removed can be put to practical use as it is, but if necessary, it may be subjected to heat treatment and hot stretching.

たとえは得られたフィルムを緊張下に150°C以上で
熱処理することによって目的とする強度や伸度を有する
フィルムを製造することができる。
For example, by heat-treating the obtained film at 150°C or higher under tension, a film having the desired strength and elongation can be produced.

加熱によってフィルムは数咎収縮を起こすので熱処理は
フィルムを緊張下に加熱するかまたはタテ方向、ヨコ方
向、あるいはタテ、ヨコ両方向に延伸しながら行なう方
法が好ましい。
Since the film shrinks several times when heated, it is preferable to carry out the heat treatment by heating the film under tension or by stretching the film in the vertical direction, in the horizontal direction, or in both the vertical and horizontal directions.

加熱は熱板加熱、雰囲気加熱、赤外線加熱、マイクロ波
加熱などのいずれの方法でもよいが、特に2500G以
上の高温で処理する場合は熱劣化を防ぐために窒素ガス
等の不活性ガス中で行なうことが望ましい。
Heating may be done by any method such as hot plate heating, atmospheric heating, infrared heating, or microwave heating, but especially when processing at high temperatures of 2500G or higher, it should be done in an inert gas such as nitrogen gas to prevent thermal deterioration. is desirable.

これらの熱処理条件はフィルムの用途、ポリマーの種類
等によって定められる。
These heat treatment conditions are determined depending on the use of the film, the type of polymer, etc.

本発明の方法によれば透明性、強靭性、耐熱性、電気的
性質、特に電気絶縁性のすぐれたフィルムを経済的に連
続的に製造することができる。
According to the method of the present invention, a film with excellent transparency, toughness, heat resistance, electrical properties, especially electrical insulation properties can be produced continuously and economically.

電気絶縁性能は絶縁破壊電圧で評価することができ、J
IS C2518に基づき測定して150kV/關以
上のものが本発明の方法で容易に得ることができる。
Electrical insulation performance can be evaluated by dielectric breakdown voltage, J
A voltage of 150 kV/volt or higher measured according to IS C2518 can be easily obtained by the method of the present invention.

さらにポリマーと成形条件、熱処理条件を好適な範囲に
選択することによって、絶縁破壊電圧が250kV/m
i以上のフィルムをうろことができる。
Furthermore, by selecting the polymer, molding conditions, and heat treatment conditions within suitable ranges, the dielectric breakdown voltage can be increased to 250 kV/m.
You can roam through more than i films.

このような高い絶縁破壊電圧を有する本発明の方法によ
って得られるフィルムは、数千ボルト以上の高置電場に
さらされる大型電動機等の回転子、固定子の絶縁材なら
びに高圧線被覆材として特に適している。
The film obtained by the method of the present invention, which has such a high dielectric breakdown voltage, is particularly suitable as an insulating material for rotors and stators of large electric motors that are exposed to high electric fields of several thousand volts or more, and as a high-voltage wire coating material. ing.

一般に、使用される電圧が高くなれはなるほど高い発熱
が伴い、ときには使用材料が2oo℃以上になることが
あるから、通常の熱可塑性ポリマーをそのような用途に
使用した場合には熱分解や融解がおこるので、そのよう
な目的のためにはいわゆるポリイミド、ポリアミドイミ
ド系のラダー構造の高分子素材が開発されているが、そ
のようなポリマーは一般には高価なものであり、かつ製
造工程的にも複雑となるから、経済的に不利である。
In general, the higher the voltage used, the higher the heat generation, and sometimes the temperature of the material used can exceed 200°C, so if normal thermoplastic polymers are used in such applications, thermal decomposition or melting may occur. Therefore, for such purposes, polymer materials with a ladder structure such as polyimide and polyamideimide have been developed, but such polymers are generally expensive and the manufacturing process is difficult. This is economically disadvantageous because it also becomes complicated.

これに対して本発明の方法によって得られる全芳香族ポ
リアミドフィルムは比較的安価な単量体、原料から得ら
れるもので経済的にも有利である。
In contrast, the wholly aromatic polyamide film obtained by the method of the present invention is economically advantageous because it can be obtained from relatively inexpensive monomers and raw materials.

以下に実施例と比較実施例を示して本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものでは
ない。
EXAMPLES The present invention will be explained in more detail by showing Examples and Comparative Examples below, but the present invention is not limited to the Examples.

なお、例中に「部」とあるのは「重量部」を示すもので
ある。
Note that "parts" in the examples indicate "parts by weight."

比較実施例 1 特公昭35−14399号公報に記載された方法にした
がって蒸留、精製されたm−フェニレンジアミン64.
8部と酸化バリウム存在下に蒸留された無水N、N’−
ジメチルアセトアミド567.6部とを580m1容器
の内径間φ、高さ150mmの円筒形ガラス製容器に入
れN2気流中にて容器内壁とのクリアランス31n1r
Lのラセン形攪拌棒で激しくかきまぜ均一に溶解後、容
器を氷冷し粉末のイソフタロイルクロライド121.8
部を内温が30℃をこえないように注意しながら加えた
Comparative Example 1 m-phenylenediamine 64. distilled and purified according to the method described in Japanese Patent Publication No. 35-14399.
8 parts and anhydrous N,N'- distilled in the presence of barium oxide
567.6 parts of dimethylacetamide was placed in a cylindrical glass container with an inner diameter of 580 m1 and a height of 150 mm, and the clearance with the inner wall of the container was 31 n1 r in an N2 gas flow.
Stir vigorously with an L helical stirring rod to uniformly dissolve, cool the container on ice, and add powdered isophthaloyl chloride 121.8
1 part was added while being careful not to allow the internal temperature to exceed 30°C.

添加には約2分を要した。イソフタロイルクロライドを
添加後30分間室温で攪拌を続けたところ、反応物は淡
黄色の粘稠な液体となった。
Addition took approximately 2 minutes. After adding isophthaloyl chloride, stirring was continued at room temperature for 30 minutes, and the reaction product became a pale yellow viscous liquid.

かくして得られた反応物中にはポリ、m−フェニレンイ
ソフタラミドが18重量係含有されていた。
The reaction product thus obtained contained 18% by weight of poly, m-phenylene isophthalamide.

大量の冷水を入れたミキサーを激しく攪拌しつつ取り出
した反応物の一部を滴下し、生じた沈殿を集めて乾燥し
、N、N’−ジメチルアセトアミド中259C1濃度0
.5 g / 100mlでウベローデ型粘度計を用い
て測定された値から求めたηinhは1.54であった
A portion of the reactant taken out was added dropwise to a mixer containing a large amount of cold water with vigorous stirring, and the resulting precipitate was collected and dried to obtain a 259C1 concentration of 0 in N,N'-dimethylacetamide.
.. ηinh determined from the value measured using an Ubbelohde viscometer at 5 g/100 ml was 1.54.

残りの反応物に粉末の水酸化カルシウム22.2部を冷
却下に加えて中和してフィルム成形用ドープを得た。
22.2 parts of powdered calcium hydroxide was added to the remaining reaction product under cooling to neutralize it to obtain a film-forming dope.

このドープをアプリケーターで200間角の硬質ガラス
板に300μの厚さに均一に塗付した。
This dope was uniformly applied to a thickness of 300 μm on a 200 square hard glass plate using an applicator.

ドープを塗布したガラス板を100℃の熱風循環乾燥機
に入れ20分間乾燥した後、フィルムの一部を切り取り
残存溶媒量を測定し、残りの大部分を常温の水中に入れ
残存溶媒、含有塩類およびモノマーなどを水洗除去した
After putting the glass plate coated with the dope in a hot air circulation dryer at 100°C and drying it for 20 minutes, a part of the film was cut off to measure the amount of remaining solvent, and most of the remaining part was put in water at room temperature to determine the remaining solvent and salt content. and monomers were removed by washing with water.

60分間水洗したところ、フィルムは完全に白化不透明
となった。
After washing with water for 60 minutes, the film became completely white and opaque.

水洗後のフィルムを乾燥してから枠に固定して320’
Cで5分間熱処理をしたが外観は変らなかった。
After drying the film after washing with water, fix it on the frame for 320'
Although heat treatment was performed at C for 5 minutes, the appearance did not change.

なお、水洗前の残存溶媒量は52重量係であった。Note that the amount of residual solvent before washing with water was 52% by weight.

得られたフィルムの強度は8.8 kg/rraN、伸
度87係、絶縁破壊電圧は67kV/rrLrILであ
った。
The obtained film had a strength of 8.8 kg/rraN, an elongation of 87, and a dielectric breakdown voltage of 67 kV/rrLrIL.

実施例 1 比較実施例1で用いたのと同じドープを比較実施例1と
全く同じ方法でガラス板に200μの厚さに塗付したも
のを125°Cの熱風循環乾燥機に入れ20分間乾燥し
た後、比較実施例1と同様に残存溶媒量の測定と水洗に
よる精練を行った。
Example 1 The same dope used in Comparative Example 1 was applied to a glass plate to a thickness of 200μ in exactly the same manner as in Comparative Example 1, and then placed in a hot air circulation dryer at 125°C and dried for 20 minutes. After that, in the same manner as in Comparative Example 1, the amount of remaining solvent was measured and scouring by washing with water was performed.

残存溶媒量は37重量φであった。The amount of residual solvent was 37 weight φ.

得られたフィルムの透明度は非常に高く、すぐれた外観
を呈していた。
The resulting film had very high transparency and an excellent appearance.

かくして得られたフィルムをさらに300°Cで2分間
、N2気流中で熱処理を行ったところ、強度16.2k
g/mA、伸度88.6%、絶縁破壊電圧181 kV
/TrL11Lのフィルムが得られた。
When the film thus obtained was further heat treated at 300°C for 2 minutes in a N2 stream, the strength was 16.2k.
g/mA, elongation 88.6%, breakdown voltage 181 kV
/TrL11L film was obtained.

実施例2〜5及び比較実施例2〜9 表1及び表2に示した各側は、フィルムの製造条件と得
られたフィルムの機械的性能と絶縁破壊電圧を示したも
のである。
Examples 2 to 5 and Comparative Examples 2 to 9 Each side shown in Tables 1 and 2 shows the manufacturing conditions of the film and the mechanical performance and dielectric breakdown voltage of the resulting film.

なお、各側とも熱風乾燥後に30〜50℃の温水で水洗
、精練を行った。
In addition, after drying with hot air, each side was washed with warm water of 30 to 50° C. and refined.

なお、表中の略記号の意味は次のとおりである(以下同
じ)。
The meanings of the abbreviations in the table are as follows (the same applies below).

〔A〕 ニジアミン 〔C〕 ニジカルボン酸クロリド MPD :m−フェニレンジアミン PPD :P−フェニレンジアミン DDPM: 4.4’−ジアミノジフェニルメタン PABC: P−アミノベンゾイルクロリド塩酸塩 IPC:イソフタロイルクロライド TPC:テレフタロイルクロライド DMAC: N、N−ジメチルアセトアミドNMP
:N−メチル−2−ピロリドンTMU :テトラメチ
ル尿素 (a)96%硫酸中、C= 0.5.25°Cで測定(
b) ポリマー濃度 (係)対全溶液実施例 6 比較実施例1で用れたドープをTダイのスリット巾が0
.12mmで長さが500mrILのスリットから吐出
量30CC/分で吐出させ、50CrrL/分で走行す
るエンドレススチールベルト上に、125μの厚さに均
一に流延し、この流延薄膜面に135°Cの熱風を向流
方向から吹き付け15分間乾燥した。
[A] Nidiamine [C] Nidicarboxylic acid chloride MPD: m-phenylenediamine PPD: P-phenylenediamine DDPM: 4,4'-diaminodiphenylmethane PABC: P-aminobenzoyl chloride hydrochloride IPC: Isophthaloyl chloride TPC: Terephthalo Il chloride DMAC: N,N-dimethylacetamide NMP
: N-Methyl-2-pyrrolidone TMU : Tetramethylurea (a) Measured in 96% sulfuric acid at C=0.5.25°C (
b) Polymer concentration (related) versus total solution Example 6 The dope used in Comparative Example 1 was
.. It was discharged from a slit with a length of 12 mm and 500 mrIL at a discharge rate of 30 CC/min, and was uniformly cast to a thickness of 125 μ on an endless steel belt running at 50 CrrL/min. It was dried by blowing hot air from the countercurrent direction for 15 minutes.

乾燥終了時点でエンドレススチールベルトからフィルム
を剥し、その一部を採取して残存溶媒量を測定したとこ
ろ37.0重量%であった。
At the end of drying, the film was peeled off from the endless steel belt, a portion of it was sampled, and the amount of residual solvent was measured and found to be 37.0% by weight.

他の大部分を直ちに水洗槽に導入し40°Cの温水で3
0分間洗浄し、次いで乾燥してから350°Cの熱処理
機中で連続的に2分間定長熱処理を行って着色がなく、
透明度のすぐれた厚さ26μのフィルムを得た。
Immediately introduce most of the other parts into the washing tank and rinse with warm water at 40°C.
Washed for 0 minutes, then dried, and then heat treated continuously for 2 minutes in a heat treatment machine at 350°C to ensure no coloration.
A film with a thickness of 26 μm and excellent transparency was obtained.

得られたフィルムの強度は14.7kg/xi、伸度は
90%、絶縁破壊電圧は220 kV 7mmであった
The strength of the obtained film was 14.7 kg/xi, the elongation was 90%, and the dielectric breakdown voltage was 220 kV 7 mm.

実施例 7 洗浄、乾燥までは実施例4と同一条件で処理したフィル
ムを320°Cでタテ、ヨコ、2軸方向に同時にそれぞ
れ1.2倍熱延伸処理をして厚さ1811のフィルム奈
得たヘタテ雪白の強麻は’22.3kG/−1伸度は4
3%、ヨコ方向の強度は21.0kg/ma、伸度は5
1oIo、絶縁破壊電圧は260kV/mrNで着色が
なく、きわめて透明度のよいフィルムであった。
Example 7 A film treated under the same conditions as Example 4 until washing and drying was heat-stretched at 320°C by 1.2 times in each of the vertical, horizontal, and biaxial directions at the same time to obtain a film with a thickness of 1811 mm. Hetate snow white strong hemp has 22.3kG/-1 elongation of 4
3%, horizontal strength is 21.0 kg/ma, elongation is 5
The film was 1oIo, had a dielectric breakdown voltage of 260 kV/mrN, had no coloration, and had very good transparency.

実施例 8 実施例2で用いたドープを直径100cm、長さ50c
rILのキャスティングドラム表面にギーザで厚さ30
0μに流延し、流延薄膜面に並流で120°Cの熱風を
10分間吹付けて乾燥して連続的にフィルムを剥しとっ
た。
Example 8 The dope used in Example 2 had a diameter of 100 cm and a length of 50 cm.
Thickness 30mm with serrations on the surface of the rIL casting drum
The film was cast to a thickness of 0 μm, and hot air at 120° C. was blown onto the surface of the cast film in parallel for 10 minutes to dry it, and the film was continuously peeled off.

このフィルム中の残存溶媒量は45.0重量%であった
The amount of residual solvent in this film was 45.0% by weight.

ひき続き50°Cの温水中で30分間洗浄し、次いで乾
燥後320°Cで5分間熱処理した。
Subsequently, it was washed in warm water at 50°C for 30 minutes, then dried and heat-treated at 320°C for 5 minutes.

得られたフィルムの強度は13、0 kg/mr7t、
伸度は12s、x%、絶縁破壊電圧は127に■/mm
であり着色がなく、透明度のよい厚さ55μのフィルム
であった。
The strength of the obtained film was 13.0 kg/mr7t,
Elongation is 12s, x%, breakdown voltage is 127■/mm
It was a film with a thickness of 55 μm and no coloration and good transparency.

実施例9,10比較例10〜13 表3に示した各側は、フィルムの製造条件と得られたフ
ィルムの機械的性能と絶縁破壊電圧を示したものである
Examples 9 and 10 Comparative Examples 10 to 13 Each side shown in Table 3 shows the manufacturing conditions of the film and the mechanical performance and dielectric breakdown voltage of the obtained film.

なお、各側とも熱風乾燥後に5°Cの流水にて水洗、精
練を行った。
After drying with hot air, each side was washed with running water at 5°C and scoured.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 全芳香族ポリアミドとアミド系溶媒とからなる溶液
から薄膜を形成し、該薄膜を熱風乾燥してフィルムを製
造するに当り、残存溶媒量が30重量φをこえ50重重
量風下になるまで乾燥したのち水洗することを特徴とす
る全芳香族ポリアミドフィルムの製造方法。
1 Form a thin film from a solution consisting of a wholly aromatic polyamide and an amide solvent, dry the thin film with hot air to produce a film, and dry until the amount of remaining solvent exceeds 30 weight φ and becomes 50 weight φ. A method for producing a wholly aromatic polyamide film, which comprises washing the film with water.
JP50119504A 1975-10-02 1975-10-02 Method for producing wholly aromatic polyamide film Expired JPS5854976B2 (en)

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