JPS6113859B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6113859B2 JPS6113859B2 JP58052625A JP5262583A JPS6113859B2 JP S6113859 B2 JPS6113859 B2 JP S6113859B2 JP 58052625 A JP58052625 A JP 58052625A JP 5262583 A JP5262583 A JP 5262583A JP S6113859 B2 JPS6113859 B2 JP S6113859B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- rotating disk
- blade
- main body
- atomizer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B3/00—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements
- B05B3/02—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements
- B05B3/10—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member
- B05B3/1007—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member characterised by the rotating member
- B05B3/1021—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member characterised by the rotating member with individual passages at its periphery
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は排ガス中の塩化水素等の有害ガスを
除去する薬剤例えば消石灰スラリー又は水溶液を
排ガス中に噴霧する装置に関する。
除去する薬剤例えば消石灰スラリー又は水溶液を
排ガス中に噴霧する装置に関する。
ごみ焼却炉等から発生する排ガス中の有害ガス
（主として塩化水素）の除去方法として、排ガス
中にスラリー又は水溶液の有害ガス除去用薬剤を
噴霧する半乾式法によるものが知られている。こ
の半乾式法は除去用薬剤をスラリー又は水溶液と
なし、反応塔内で排ガス中に噴霧する方法で、噴
霧薬剤は排ガス中の有害ガスと反応し、排ガスの
保有熱で乾燥された反応生成物として排ガス中か
ら除去される。
（主として塩化水素）の除去方法として、排ガス
中にスラリー又は水溶液の有害ガス除去用薬剤を
噴霧する半乾式法によるものが知られている。こ
の半乾式法は除去用薬剤をスラリー又は水溶液と
なし、反応塔内で排ガス中に噴霧する方法で、噴
霧薬剤は排ガス中の有害ガスと反応し、排ガスの
保有熱で乾燥された反応生成物として排ガス中か
ら除去される。
第１図及び第２図は前述した反応塔に装備され
る従来の薬剤噴霧装置を示すものであつて、これ
は煙道１からの排ガスを反応塔３に導入させるガ
スデイストリビユーター２の内部に固定されたア
トマイザー本体４（この本体の下端部には薬剤供
給管５から導入された薬剤例えば消石灰スラリー
を下方に流出させる薬剤流出部４ａが設けられて
いる）と、この本体４の下側に隙間６をあけて配
置され前記本体４を貫通する中心回転軸７によつ
て高速回転される回転円盤８とを備え、この回転
円盤８にはアトマイザー本体４からの流出薬剤を
受入する上端開口部９ａが前記隙間６と連通した
薬剤受入室９と、この室内に流入した薬剤を回転
遠心力によつて円盤外周部から排ガス中に噴霧さ
せる複数個の外周ノズル１０が設けられている。
る従来の薬剤噴霧装置を示すものであつて、これ
は煙道１からの排ガスを反応塔３に導入させるガ
スデイストリビユーター２の内部に固定されたア
トマイザー本体４（この本体の下端部には薬剤供
給管５から導入された薬剤例えば消石灰スラリー
を下方に流出させる薬剤流出部４ａが設けられて
いる）と、この本体４の下側に隙間６をあけて配
置され前記本体４を貫通する中心回転軸７によつ
て高速回転される回転円盤８とを備え、この回転
円盤８にはアトマイザー本体４からの流出薬剤を
受入する上端開口部９ａが前記隙間６と連通した
薬剤受入室９と、この室内に流入した薬剤を回転
遠心力によつて円盤外周部から排ガス中に噴霧さ
せる複数個の外周ノズル１０が設けられている。
而して、この薬剤噴霧装置は消石灰スラリー等
の薬剤をアトマイザー本体４の流出部４ａから回
転円盤８内に少量ずつ連続的に供給し、該円盤８
の高速回転による遠心力で外周ノズル１０から排
ガス中に噴霧させるものであるから、高速回転し
ている円盤８の内部は周囲圧力に対して負圧とな
り、周囲の排ガスが回転円盤８とアトマイザー本
体４との隙間６から第２図点線矢印で示すように
吹い込まれるようになる。然るに、排ガス中には
炭酸ガスが含有されているため、前記薬剤が消石
灰スラリーの場合には、この消石灰と排ガス中の
炭酸ガスが回転円盤８内で反応して炭酸カルシウ
ムが生成され、これがノズル１０の内面に付着し
て該ノズルを閉塞するという問題が発生し、約１
ケ月ほどで排ガス中への薬剤噴霧ができなくなる
場合が多かつた。
の薬剤をアトマイザー本体４の流出部４ａから回
転円盤８内に少量ずつ連続的に供給し、該円盤８
の高速回転による遠心力で外周ノズル１０から排
ガス中に噴霧させるものであるから、高速回転し
ている円盤８の内部は周囲圧力に対して負圧とな
り、周囲の排ガスが回転円盤８とアトマイザー本
体４との隙間６から第２図点線矢印で示すように
吹い込まれるようになる。然るに、排ガス中には
炭酸ガスが含有されているため、前記薬剤が消石
灰スラリーの場合には、この消石灰と排ガス中の
炭酸ガスが回転円盤８内で反応して炭酸カルシウ
ムが生成され、これがノズル１０の内面に付着し
て該ノズルを閉塞するという問題が発生し、約１
ケ月ほどで排ガス中への薬剤噴霧ができなくなる
場合が多かつた。
この発明は上記従来の問題点を解消する目的で
なされたもので、前記回転円盤の上面に該円盤と
一体に回転するブレードを設けると共に、前記ア
トマイザー本体にはブレード回転部分の内側に空
気を供給する空気導入路を設けて、前記ブレード
の回転による排風作用で、周囲の排ガスが隙間を
通つて回転円盤内に吸い込まれるのを防止するよ
うにしたことを特徴とするものである。
なされたもので、前記回転円盤の上面に該円盤と
一体に回転するブレードを設けると共に、前記ア
トマイザー本体にはブレード回転部分の内側に空
気を供給する空気導入路を設けて、前記ブレード
の回転による排風作用で、周囲の排ガスが隙間を
通つて回転円盤内に吸い込まれるのを防止するよ
うにしたことを特徴とするものである。
以下、この発明装置の一実施例を第３図、第４
図の図面に従い説明すると、この実施例は第１図
及び第２図に示すものと同様な排ガス中への薬剤
噴霧装置（同一部分に同符号を付して具体的説明
は省略する）において、前記回転円盤８の上面に
該円盤と一体に回転する放射状のブレード１１を
設けると共に、前記アトマイザー本体４にはブレ
ード回転部分の内側に空気を供給する空気導入路
１２を設けてなるもので、この空気導入路１２は
アトマイザー本体４の下面部に薬剤流出部４ａを
外囲するように凹設した環状空気溝１２ａと、こ
の環状空気溝１２ａに下端部が開口し且つ上端部
がアトマイザー本体４内に開口した１本または複
数本の空気導入孔１２ｂと、この各空気導入孔１
２ｂに下端部が接続され且つ上端部がアトマイザ
ー本体４の上壁を貫通して大気中に開放された複
数本の空気管１２ｃとから構成される。
図の図面に従い説明すると、この実施例は第１図
及び第２図に示すものと同様な排ガス中への薬剤
噴霧装置（同一部分に同符号を付して具体的説明
は省略する）において、前記回転円盤８の上面に
該円盤と一体に回転する放射状のブレード１１を
設けると共に、前記アトマイザー本体４にはブレ
ード回転部分の内側に空気を供給する空気導入路
１２を設けてなるもので、この空気導入路１２は
アトマイザー本体４の下面部に薬剤流出部４ａを
外囲するように凹設した環状空気溝１２ａと、こ
の環状空気溝１２ａに下端部が開口し且つ上端部
がアトマイザー本体４内に開口した１本または複
数本の空気導入孔１２ｂと、この各空気導入孔１
２ｂに下端部が接続され且つ上端部がアトマイザ
ー本体４の上壁を貫通して大気中に開放された複
数本の空気管１２ｃとから構成される。
而して、前記ブレード１１が回転円盤８と一体
に高速回転すると、該ブレード回転によつてその
回転部分の内側に大気開放した空気導入路１２か
ら空気が吸い込まれ、その空気は本体４と回転円
盤８との隙間６にある空気と一緒に円周方向外側
に排風されるので、周囲の排ガスが前記隙間６を
通つて回転円盤８内に吸い込まれることはなくな
る。
に高速回転すると、該ブレード回転によつてその
回転部分の内側に大気開放した空気導入路１２か
ら空気が吸い込まれ、その空気は本体４と回転円
盤８との隙間６にある空気と一緒に円周方向外側
に排風されるので、周囲の排ガスが前記隙間６を
通つて回転円盤８内に吸い込まれることはなくな
る。
この発明の排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧
装置は以上述べたようなものであるから、回転円
盤内に周囲の排ガスが吸い込まれることに起因し
たノズル閉塞の問題を解消することができ、長期
的な連続運転が可能となつた。
装置は以上述べたようなものであるから、回転円
盤内に周囲の排ガスが吸い込まれることに起因し
たノズル閉塞の問題を解消することができ、長期
的な連続運転が可能となつた。
第１図は従来装置の説明図、第２図は同装置の
要部拡大断面図、第３図はこの発明装置の一実施
例を示す要部断面図、第４図は第３図の−線
に沿う横断平面図である。 １……煙道、２……ガスデイストリビユータ
ー、３……反応塔、４……アトマイザー本体、５
……薬剤供給管、６……隙間、７……回転軸、８
……回転円盤、９……薬剤受入室、１０……外周
ノズル、１１……ブレード、１２……空気導入
路。
要部拡大断面図、第３図はこの発明装置の一実施
例を示す要部断面図、第４図は第３図の−線
に沿う横断平面図である。 １……煙道、２……ガスデイストリビユータ
ー、３……反応塔、４……アトマイザー本体、５
……薬剤供給管、６……隙間、７……回転軸、８
……回転円盤、９……薬剤受入室、１０……外周
ノズル、１１……ブレード、１２……空気導入
路。
Claims (1)
- １ 排ガス中への薬剤噴霧位置に固定される下端
部に薬剤流出部をもつたアトマイザー本体と、こ
の本体の下側に隙間をあけて軸着された高速回転
される回転円盤とを具備し、この回転円盤はアト
マイザー本体からの流出薬剤を受入する室を有し
且つ室内に流入した薬剤を回転遠心力により外周
ノズル部から排ガス中に噴霧させる構成とされて
いる噴霧装置において、前記回転円盤の上面に該
円盤と一体に回転するブレードを設けると共に、
前記アトマイザー本体にはブレード回転部分の内
側に空気を供給する空気導入路を設けて、前記ブ
レードの回転による排風作用で周囲の排ガスが回
転円盤内に吸い込まれるのを防止するようにした
ことを特徴とする排ガス中の有害ガス除去用薬剤
噴霧装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58052625A JPS59179134A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58052625A JPS59179134A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59179134A JPS59179134A (ja) | 1984-10-11 |
| JPS6113859B2 true JPS6113859B2 (ja) | 1986-04-16 |
Family
ID=12919990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58052625A Granted JPS59179134A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59179134A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH062732Y2 (ja) * | 1986-06-26 | 1994-01-26 | 日本鋼管株式会社 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
| KR101108068B1 (ko) | 2009-11-05 | 2012-01-31 | 녹원종합기술 주식회사 | 로타리 오토마이저 |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP58052625A patent/JPS59179134A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59179134A (ja) | 1984-10-11 |
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