JPS6251128B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6251128B2 JPS6251128B2 JP57194328A JP19432882A JPS6251128B2 JP S6251128 B2 JPS6251128 B2 JP S6251128B2 JP 57194328 A JP57194328 A JP 57194328A JP 19432882 A JP19432882 A JP 19432882A JP S6251128 B2 JPS6251128 B2 JP S6251128B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- main body
- rotating disk
- exhaust gas
- chemical
- medicine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は排ガス中の塩化水素等の有害ガスを
除去する薬剤例えば消石灰等のスラリー又は水溶
液を排ガスの中に噴霧する装置に関するものであ
る。
除去する薬剤例えば消石灰等のスラリー又は水溶
液を排ガスの中に噴霧する装置に関するものであ
る。
ごみ焼却炉等から発生する排ガス中の有害ガス
（主として塩化水素、SOx）の除去方法として、
排ガス中にスラリー又は水溶液の有害ガス除去用
薬剤を噴霧する半乾式法によるものが知られてい
る。この半乾式法は除去用薬剤をスラリー又は水
溶液となし、反応塔内で排ガス中に噴霧する方法
で、噴霧薬剤は排ガス中の有害ガスと反応し、排
ガスの保有熱で乾燥された反応生成物として排ガ
ス中から除去される。
（主として塩化水素、SOx）の除去方法として、
排ガス中にスラリー又は水溶液の有害ガス除去用
薬剤を噴霧する半乾式法によるものが知られてい
る。この半乾式法は除去用薬剤をスラリー又は水
溶液となし、反応塔内で排ガス中に噴霧する方法
で、噴霧薬剤は排ガス中の有害ガスと反応し、排
ガスの保有熱で乾燥された反応生成物として排ガ
ス中から除去される。
第１図は前述した反応塔内に装備される従来の
薬剤噴霧装置を示すものであつて、これは反応塔
内の排ガス中への薬剤噴霧位置（例えば反応塔の
上部内側）に固定される装置本体１と、この装置
本体１の下側に例えば10mm程度の隙間Ｇをあけて
配置され前記本体１を貫通する中心回転軸２によ
つて高速回転される回転円盤３とを備え、前記装
置本体１には有害ガス除去用薬剤例えば消石灰ス
ラリーが導入パイプ４を介して垂れ流し程度の少
流量で供給される薬剤供給部５（上部が蓋体６に
よつて閉塞され下部が流出孔７によつて開口した
室として形成されている）が設けられており、ま
た前記回転円盤３には前記薬剤供給部５から流下
する除去用薬剤の流入開口部８と、流入薬剤の受
入室９が設けられていると共に、この室内に入つ
た薬剤を回転遠心力によつて円盤外周部から排ガ
ス中に噴出させる複数個の噴霧ノズル１０が設け
られている。
薬剤噴霧装置を示すものであつて、これは反応塔
内の排ガス中への薬剤噴霧位置（例えば反応塔の
上部内側）に固定される装置本体１と、この装置
本体１の下側に例えば10mm程度の隙間Ｇをあけて
配置され前記本体１を貫通する中心回転軸２によ
つて高速回転される回転円盤３とを備え、前記装
置本体１には有害ガス除去用薬剤例えば消石灰ス
ラリーが導入パイプ４を介して垂れ流し程度の少
流量で供給される薬剤供給部５（上部が蓋体６に
よつて閉塞され下部が流出孔７によつて開口した
室として形成されている）が設けられており、ま
た前記回転円盤３には前記薬剤供給部５から流下
する除去用薬剤の流入開口部８と、流入薬剤の受
入室９が設けられていると共に、この室内に入つ
た薬剤を回転遠心力によつて円盤外周部から排ガ
ス中に噴出させる複数個の噴霧ノズル１０が設け
られている。
而して、この薬剤噴霧装置は消石灰スラリー等
の除去用薬剤が本体供給部５から回転円盤３内に
少量ずつ連続的に供給され、該円盤の高速回転に
よる遠心力を原動力として噴霧ノズル１０から噴
出されるものであるから、前記円盤３の高速回転
時に該円盤内が負圧となり、このため周囲の排ガ
スが装置本体１と回転円盤３との隙間Ｇから回転
円盤３内にまき込まれ、除去用薬剤と一緒になつ
て前記ノズル１０から噴出されるようになる。然
るに排ガスには炭酸ガスが含有されているため、
前記薬剤が消石灰スラリーの場合にはこの消石灰
と排ガス中の炭酸ガスが化学反応して炭酸カルシ
ウムとなり、その生成直後の炭酸カルシウムが前
記ノズル１０の内面に付着して該ノズルを閉塞す
るという問題が発生していた。
の除去用薬剤が本体供給部５から回転円盤３内に
少量ずつ連続的に供給され、該円盤の高速回転に
よる遠心力を原動力として噴霧ノズル１０から噴
出されるものであるから、前記円盤３の高速回転
時に該円盤内が負圧となり、このため周囲の排ガ
スが装置本体１と回転円盤３との隙間Ｇから回転
円盤３内にまき込まれ、除去用薬剤と一緒になつ
て前記ノズル１０から噴出されるようになる。然
るに排ガスには炭酸ガスが含有されているため、
前記薬剤が消石灰スラリーの場合にはこの消石灰
と排ガス中の炭酸ガスが化学反応して炭酸カルシ
ウムとなり、その生成直後の炭酸カルシウムが前
記ノズル１０の内面に付着して該ノズルを閉塞す
るという問題が発生していた。
この発明は前記のような欠点を解消する目的で
なされたもので、回転円盤の高速回転時に周囲の
排ガスが回転円盤内にまき込まれないように、該
円盤内の高速回転時における内圧を装置本体が設
置される反応塔の内圧より高い圧力、好ましくは
０〜＋10mmAq程度高い圧力に維持させることを
特徴とするものである。
なされたもので、回転円盤の高速回転時に周囲の
排ガスが回転円盤内にまき込まれないように、該
円盤内の高速回転時における内圧を装置本体が設
置される反応塔の内圧より高い圧力、好ましくは
０〜＋10mmAq程度高い圧力に維持させることを
特徴とするものである。
以下、この発明装置の一実施例を第２図の図面
に従い説明すると、この実施例は第１図に示すも
のと同様な薬剤噴霧装置（同一部分に同符号を付
して具体的説明は省略する）において、装置本体
１の薬剤供給部５または装置本体１と回転円盤３
との隙間部Ｇ（実施例は前者の場合を示してい
る）に反応塔の外部から空気を導入する空気吹込
管１１を接続して、ここから吹込まれる空気圧に
よつて回転円盤３内の高速回転時における内圧を
装置本体１が設置される反応塔の内圧より高い圧
力（好ましくは０〜＋10mmAq程度高い圧力）に
維持させることを特徴とするもので、前記円盤内
圧のコントロールは回転円盤３の薬剤流入開口部
８の上方位置に配置した空気圧力検出器１２によ
つて、回転円盤３内に供給される空気圧を検出
し、この検出信号で空気管路１３の調整バルブ１
４を制御することで行なうようにしている。な
お、前記のような円盤内圧の維持方法には圧力検
出器１２を用いないで簡単に行なう方法もある。
即ち、前記回転円盤３は定速で回転するので、こ
の内部には略一定の負圧力が生じる。従つてこの
一定の負圧力に見合う空気を定圧定流量で供給す
れば回転円盤３の内圧を反応塔内圧より０〜＋10
mmAq程度高い圧力に維持することができる。な
お、回転円盤３内の高速回転時における内圧を反
応塔内圧より０〜＋10mmAq程度高い圧力にする
理由は回転円盤３の内圧があまり高くなり過ぎる
と、回転円盤３内の供給薬剤が回転遠心力で良好
に噴霧されない等の不具合が生じるからである。
に従い説明すると、この実施例は第１図に示すも
のと同様な薬剤噴霧装置（同一部分に同符号を付
して具体的説明は省略する）において、装置本体
１の薬剤供給部５または装置本体１と回転円盤３
との隙間部Ｇ（実施例は前者の場合を示してい
る）に反応塔の外部から空気を導入する空気吹込
管１１を接続して、ここから吹込まれる空気圧に
よつて回転円盤３内の高速回転時における内圧を
装置本体１が設置される反応塔の内圧より高い圧
力（好ましくは０〜＋10mmAq程度高い圧力）に
維持させることを特徴とするもので、前記円盤内
圧のコントロールは回転円盤３の薬剤流入開口部
８の上方位置に配置した空気圧力検出器１２によ
つて、回転円盤３内に供給される空気圧を検出
し、この検出信号で空気管路１３の調整バルブ１
４を制御することで行なうようにしている。な
お、前記のような円盤内圧の維持方法には圧力検
出器１２を用いないで簡単に行なう方法もある。
即ち、前記回転円盤３は定速で回転するので、こ
の内部には略一定の負圧力が生じる。従つてこの
一定の負圧力に見合う空気を定圧定流量で供給す
れば回転円盤３の内圧を反応塔内圧より０〜＋10
mmAq程度高い圧力に維持することができる。な
お、回転円盤３内の高速回転時における内圧を反
応塔内圧より０〜＋10mmAq程度高い圧力にする
理由は回転円盤３の内圧があまり高くなり過ぎる
と、回転円盤３内の供給薬剤が回転遠心力で良好
に噴霧されない等の不具合が生じるからである。
この発明の排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧
装置は以上述べたようなものであるから、回転円
盤の高速回転時に、周囲の排ガスが前記円盤内に
まき込まれる問題が防止され、排ガスが入ること
によつて生じる従来のようなノズル閉塞問題を簡
単に解消することができた。即ち、本発明の装置
を実際に運転して実験してみたところ、３ケ月経
過後においてもノズルの閉塞は発生しなかつた
（従来装置では２週間程度でノズルの閉塞が発生
した例がある）。
装置は以上述べたようなものであるから、回転円
盤の高速回転時に、周囲の排ガスが前記円盤内に
まき込まれる問題が防止され、排ガスが入ること
によつて生じる従来のようなノズル閉塞問題を簡
単に解消することができた。即ち、本発明の装置
を実際に運転して実験してみたところ、３ケ月経
過後においてもノズルの閉塞は発生しなかつた
（従来装置では２週間程度でノズルの閉塞が発生
した例がある）。
第１図は従来の排ガス中の有害ガス除去用薬剤
噴霧装置を示す要部断面図、第２図はこの発明の
一実施例による排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴
霧装置を示す要部断面図である。 １……装置本体、２……中心回転軸、３……回
転円盤、Ｇ……隙間、４……薬剤導入パイプ、５
……薬剤供給部、８……薬剤流入開口部、９……
流入薬剤の受入室、１０……噴霧ノズル、１１…
…空気吹込管、１２……空気圧力検出器。
噴霧装置を示す要部断面図、第２図はこの発明の
一実施例による排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴
霧装置を示す要部断面図である。 １……装置本体、２……中心回転軸、３……回
転円盤、Ｇ……隙間、４……薬剤導入パイプ、５
……薬剤供給部、８……薬剤流入開口部、９……
流入薬剤の受入室、１０……噴霧ノズル、１１…
…空気吹込管、１２……空気圧力検出器。
Claims (1)
- １ 薬剤供給部を有し反応塔内の薬剤噴霧位置に
設置される装置本体と、この装置本体の下側に隙
間をあけて配置され前記本体を貫通する中心回転
軸によつて高速回転される回転円盤とからなり、
この回転円盤は薬剤供給部から流下する薬剤の流
入開口部及び流入薬剤の受入室を有し且つこの室
内に流入した薬剤を回転遠心力により外周部から
噴出させる複数個の噴霧ノズルを備えた構成とさ
れている排ガス中の有害ガス除去用薬剤の噴霧装
置において、前記装置本体の薬剤供給部または装
置本体と回転円盤との隙間部に空気吹込管を接続
し、ここから吹込まれる空気圧によつて回転円盤
内の高速回転時における内圧を装置本体が設置さ
れている反応塔の内圧より高い圧力、好ましくは
０〜＋10mmAq程度高い圧力に維持することを特
徴とする排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57194328A JPS5982926A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57194328A JPS5982926A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5982926A JPS5982926A (ja) | 1984-05-14 |
| JPS6251128B2 true JPS6251128B2 (ja) | 1987-10-28 |
Family
ID=16322756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57194328A Granted JPS5982926A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5982926A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH062732Y2 (ja) * | 1986-06-26 | 1994-01-26 | 日本鋼管株式会社 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
-
1982
- 1982-11-05 JP JP57194328A patent/JPS5982926A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5982926A (ja) | 1984-05-14 |
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