JPH0578835B2

JPH0578835B2 -

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Publication number: JPH0578835B2
Application number: JP60112491A
Authority: JP
Inventors: Eiji Moro; Takayasu Hirano; Takeaki Koshio
Original assignee: Hoechst Gosei KK; TDK Corp
Current assignee: Hoechst Gosei KK; TDK Corp
Priority date: 1985-05-25
Filing date: 1985-05-25
Publication date: 1993-10-29
Also published as: JPS61270769A

Description

【発明の詳細な説明】発明の背景技術分野本発明は、電子写真現像用磁性キヤリア粒子に
関する。さらに詳しくは、特に磁気ブラシ現像に用いる
磁性キヤリア粒子に関する。先行技術とその問題点従来、電子写真現像用の磁気ブラシ現像に用い
る磁性キヤリア粒子の１つとしては、鉄粉やいわ
ゆるフエライト粒子に樹脂コーテイングを施した
ものが用いられている。ところで、このような磁性キヤリア粒子は、ト
ナーを摩擦帯電することにより、トナーを静電的
に付着させ、現像時にトナーを感光体上に移動さ
せるものである。このため、キヤリア粒子の摩擦帯電量が大き
く、帯電性が均一で、トナーを有効かつ均一にと
りあげ、析出させることが要求される。この場合、帯電量としては、15〜40μC／ｇの
範囲におさまることが望まれる。さらに、各種ト
ナーを用いた場合でも上記範囲の帯電量におさま
ることが望ましいが、現状はトナー中に添加する
帯電量制御剤で帯電量を制御しており、コスト
高、帯電量の安定性、湿度依存性が問題となつて
いる。他方、キヤリア粒子は、現像機中での搬送性が
良好でなければならず、粉体として良好な流動性
を示すことが要求される。この場合、流動性の指標である粉体50gの落下
速度としては、25〜35秒の範囲において、できる
だけ小さい値をとることが望まれる。さらに、キヤリア粒子は、現像部分で一方の電
極として機能し、電解を均一にする役目をはたす
ものであり、樹脂コートを施される磁性粒子の組
成をかえることにより、また、樹脂の組成をかえ
ることにより、10⁵〜10¹²Ωの範囲において、複
写機に応じた所望の抵抗をもつことが要求され
る。しかも、この電気抵抗は、高湿下で低下しない
ことが望まれる。また、キヤリア粒子は、現像機中で、上記諸特
性を安定して維持、発揮するための、耐久性をも
つことが要求される。しかし、従来の樹脂コート材質では、これら諸
特性をすべての点で満足させるものではない。発明の目的本発明の目的は、安定した電気抵抗、流動特性
を有し、摩擦帯電量を任意に制御でき、十分大き
な耐湿性と耐久性を有する電子写真現像用磁性キ
ヤリア粒子を提供することにある。発明の開示このような目的は、以下の本発明によつて達成
される。すなわち、本発明は磁性粒子の表面に、重合性
乳化剤を用いモノエチレン性単量体を乳化重合し
て得られる合成樹脂の被覆を形成したことを特徴
とする電子写真現像用磁性キヤリア粒子である。発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。本発明の電子写真現像用磁性キヤリア粒子は、
磁性粒子の表面に樹脂被覆を有する。被覆は、重合性乳化剤を用い、モノエチレン性
単量体を乳化重合して得られる合成樹脂エマルジ
ヨンを用いて形成される。重合性乳化剤としては、アリルアルコール誘導
体、アクリル酸誘導体、イタコン酸誘導体、マレ
イン酸誘導体、フマール酸誘導体、エチレン誘導
体およびスチレン誘導体のうち１種または２種以
上が好ましい。重合性乳化剤の具体例を以下に示
す。アリルアルコール誘導体

【化】（特公昭49−46291号、特開昭58−203960号） R₁：水素またはメチル基 R₂：炭化水素基または置換基を有する炭化水
素またはオキシアルキレン基を含む有機基Ａ：炭素数２ないし４のアルキレン基または置
換されたアルキレン基ｎ：０または正の数Ｍ：アルカリもしくはアルカリ土類金属、アン
モニウム、有機アミン塩基または有機第４級
アンモニウム塩基などｍ：Ｍの原子価またはイオン価 −１ｎ＝０、R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₂H₂₅、M1／ｍ＝Na、 −２ｎ＝１、Ａ＝CH₂CH（OH）CH₂、 R₁＝Ｈ、R₂＝C₁₂H₂₅、Ｍ１／ｍ＝Na、 −３ｎ＝１、Ａ＝CH₂CH（OH）CH₂、 R₁＝Ｈ、R₂＝C₁₈H₃₇、Ｍ１／ｍ＝Na、 −４ｎ＝１、Ａ＝CH₂CH（OH）CH₂、 R₁＝Ｈ、R₂＝C₁₈H₃₇、Ｍ１／ｍ＝NH₄、 −５ｎ＝０、R₁＝Ｈ、 R₂＝ CH₂CH（C₉H₁₉）（C₇H₁₅）アクリル酸誘導体 R₁CH＝Ｃ（R₂）CONH−SO₃Ｍ（特公昭46−12472号） R₁，R₂：水素原子または１ないし10個の炭素
原子を有する有機残基、好ましくは炭化水素
残基より好ましくはアルキルまたはアリール
基でありさらに好ましくはメチルまたはフエ
ニル基Ｍ：アルカリ金属−好ましくはカリウム −１ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₀H₂₁、Ｍ＝Ｋ、 −２ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₀H₂₁、Ｍ＝Na、 −３ R₁＝Ｈ、 R₂＝CH₂、Ｍ＝Ｋ、

【化】（特開昭54−144317号） R₁，R₂：水素原子またはメチル基 R₃：炭素数７〜21のアルキル基またはアルケ
ニル基Ｍ：アルカリ金属またはアンモニウム基 −４ R₁＝Ｈ、 R₂＝Ｈ、 R₃＝C₇H₁₅、Ｍ＝Na −５ R₁＝Ｈ、 R₂＝CH₃ R₃＝C₂₁H₄₃、Ｍ＝NH₄ −６ R₁＝Ｈ、 R₂＝Ｈ、 R₃＝C₁₈H₃₅、Ｍ＝Na

【化】（特開昭55−11525号） R₁，R₂：水素原子またはメチル基 R₃：水素数１〜21の飽和または不飽和脂肪族
炭化水素基Ｍ：アルカリ金属またはアンモニウム基 −７ R₁＝Ｈ、 R₂＝CH₃、 R₃＝C₁₂H₂₅、Ｍ＝Na、 −８ R₁＝Ｈ、 R₂＝Ｈ、 R₃＝C₁₂H₂₅、Ｍ＝Ｋ、 −９ R₁＝CH₃、 R₂＝CH₃、 R₃＝C₁₈H₃₇、Ｍ＝NH₄、

【化】（特開昭56−28208号） R₁，R₂：水素原子またはメチル基Ｘ，Ｙ，Ｚ：０または100以下の整数であり、
次の関数が成り立つ１≦Ｘ＋Ｙ＋Ｚ≦100 −10 R₁＝Ｈ、 R₂＝CH₃、Ｘ＝20、Ｙ＝20、Ｚ＝30、 −11 R₁＝Ｈ、 R₂＝Ｈ、Ｘ＝30、Ｙ＝30、Ｚ＝40 −12 R₁＝Ｈ、 R₂＝CH₃、Ｘ＝30、Ｙ＝20、Ｚ＝30

【化】（特開昭55−41684号） R₁：水素、低級アルキル、フエニルまたはハ
ロゲン R₂：水素または低級アルキルｎ：５〜25の整数 −13 R₁＝CH₃、 R₂＝Ｈ、ｎ＝２ −14 R₁＝CH₃、 R₂＝Ｈ、ｎ＝５ −15 R₁＝CH₃、 R₂＝Ｈ、ｎ＝９イコタン酸誘導体

【化】（特公昭46−34894号）Ｒ：炭素数１〜22までのアルキル基、構造 CH₂（CF₂）_XＨ（但しｘは２から10ま
での偶数の整数）を有する基構造

【式】（但しｚは１から40までの整数）を有する
基Ｍ：水素またはアルカリ金属ｍ：ｚないし４の整数ｎ：１または２ −１Ｒ＝，ｘ＝10、Ｍ＝Ｋ、ｍ＝３、ｎ＝１ −２Ｒ＝，ｘ＝５、Ｍ＝Ｋ、ｍ＝３、ｎ＝１ −３Ｒ＝，ｚ＝12、Ｍ＝Na、ｍ＝３、ｎ＝１

【化】（特公昭51−44157号）Ｒ：炭素数８〜22の炭化水素基Ｍ：アルカリ金属またはアンモニウム基 −４Ｒ＝C₁₂H₂₅、Ｍ＝Na、 −５Ｒ＝C₁₈H₃₇、Ｍ＝Na、 −６Ｒ＝C₁₂H₂₅、Ｍ＝NH₄、

【化】（特開昭51−30284号） R₁：水素または炭素数１〜４のアルキル基 R₂：水素または炭素数１〜22のアルキル基ｍ：１≦ｍ≦150の整数 R₃：Ｈのときｎ＝１〜３メチル基のときｎ＝２Ｍ：アルカリ金属またはアンモニウム塩基等の
１価のカチオン −７ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₂H₂₅、 R₃＝Ｈ、Ｍ＝Na、ｍ＝５、ｎ＝３ −８ R₁＝Ｈ R₂＝C₁₈H₃₇、 R₃＝Ｈ、Ｍ＝Na、ｍ＝３、ｎ＝１ −９ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₂H₂₅、 R₃＝Ｈ、Ｍ＝NH₄、ｍ＝５、ｎ＝３マレイン酸誘導体

【化】（特公昭51−44157号）Ｒ：炭素数８〜22の炭化水素基Ｍ：アルカリ金属またはアンモニウム基 −１Ｒ＝C₁₂H₂₅、Ｍ＝Na、 −２Ｒ＝C₁₈H₃₇、Ｍ＝Ｋ −３Ｒ＝C₁₈H₃₇、Ｍ＝NH₄

【化】（特開昭51−30284号） R₁：水素または炭素数１〜４のアルキル基 R₂：水素または炭素数１〜22のアルキル基ｍ：５≦ｍ≦150の整数 R₃：Ｈのときｎ＝１〜３メチル基のときｎ＝２Ｍ＝アルカリ金属またはアンモニウム塩基等の
１価のカチオン −４ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₂H₂₅、 R₃＝Ｈ、ｍ＝５、ｎ＝２、Ｍ＝Na −５ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₈H₃₇、 R₃＝Ｈ、ｍ＝５、ｎ＝２、Ｍ＝Na −６ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₂H₂₅、 R₃＝Ｈ、ｍ＝５、ｎ＝２、Ｍ＝NH₄

【化】（特公昭56−29657号） R₁：炭素数６〜22の脂肪族アルコール、芳香
族アルコール、もしくはエーテルアルコール
の残基 R₂：Ｈのときｎ＝２，３メチル基のときｎ＝２Ｍ：水素、アルカリ金属もしくはアンモニウム
等の１価のカチオン −７ R₁＝C₈H₁₇、 R₂＝Ｈ、ｎ＝３、Ｍ＝Na −８ R₁＝C₁₂H₂₅、 R₂＝Ｈ、ｎ＝３、Ｍ＝Ｋ −９ R₁＝C₁₆H₃₃、 R₂＝Ｈ、ｎ＝３、Ｍ＝NH₄ フマール酸誘導体

【化】（特開昭51−30285号） R₁：炭素数１〜22の脂肪族アルコール、芳香
族アルコールもしくはエーテルアルコールの
残基 R₂：Ｈのときｎ＝１〜３メチル基のときｎ＝２Ｍ：アルカリ金属もしくはアンモニウム塩基等
の１価のカチオン −１ R₁＝C₈H₁₇、 R₂＝Ｈ、Ｍ＝Na、ｎ＝２ −２ R₁＝C₁₂H₂₅、 R₂＝Ｈ、Ｍ＝Na、ｎ＝２ −３ R₁＝C₁₆H₃₃ R₂＝Ｈ、Ｍ＝Na、ｎ＝２

【化】（特開昭51−30284号） R₁：水素もしくは炭素数１〜４のアルキル基 R₂：水素もしくは炭素数１〜22のアルキル基ｍ：５≦ｍ≦150の整数 R₃：Ｈのときｎ＝１〜３メチル基のときｎ＝２Ｍ：アルカリ金属もしくはアンモニウム塩基等
の１価のカチオン −４ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₂H₂₅、 R₃＝Ｈ、ｍ＝５、ｎ＝２、Ｍ＝Na −５ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₈H₃₇、 R₃＝Ｈ、ｍ＝５、ｎ＝２、Ｍ＝Na −６ R₁＝Ｈ、 R₂＝C₁₂H₂₅、 R₃＝Ｈ、ｍ＝５、ｎ＝２、Ｍ＝NH₄ スチレン誘導体

【式】Ｍ：アルカリ金属またはアンモニウム基等の１
価のカチオン −１Ｍ＝NH₄ −２Ｍ＝Na エチレン誘導体

【式】Ｍ：アルカリ金属あるいはアンモニウム基等の
１価のカチオン −１Ｍ＝NH₄ 上記の重合性乳化剤の中では特にアリルアルコ
ール誘導体が好ましい。これら重合性乳化剤は１種または２種以上組合
わせて用いられ、その使用量は、合成樹脂エマル
ジヨン中、モノエチレン性単量体に対して１〜
15wt％、より好ましくは１〜10wt％とする。 1wt％未満では効果がなく、15wt％をこえると
抵抗の湿度依存性が大きくなり、さらに帯電量が
減少し、不都合を生じる。なお、一般の非重合性乳化剤を併用することも
可能である。併用される非重合性乳化剤としては、ラウリル
硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウ
ム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジ
オクチルスルホコハク酸ナトリウム、およびポリ
オキシエチレンノニルフエニルエーテル等があ
る。使用される主要モノエチレン性単量体の具体例
としては以下のものがあげられる。Ａスチレン系ビニルモノマー類スチレン；α−メチルスチレン、β−エチルス
チレンようなαまたはβアルキル置換スチレン；
４−メチルスチレン、２−エチルスチレン、４−
ヘキシルスチレンのような核アルキル置換スチレ
ン；クロロスチレン、ジクロロスチレン、フロロ
スチレン、ブロモスチレンのような核ハロゲン置
換スチレン；メトキシスチレンのような核アルコ
キシ置換スチレン；アセチルスチレンのような核
アシル置換スチレン；ニトロスチレン等。Ｂアクリル系ビニルモノマー類（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸とア
ルキルアルコール、ハロゲン化アルコール、アル
コキシアルコール、アラルキルアルコール、アル
ケニルアルコールのようなアルコールとのエステ
ル（上記アルコールの具体例としてはメチルアル
コール、エチルアルコール、プロピルアルコー
ル、ｎ−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコ
ール、tert−ブチルアルコール、アミルアルコー
ル、ヘキシルアルコール、２−エチル−ヘキシル
アルコール、ヘプチルアルコール、オクチルアル
コール、ノニルアルコール、ドデシルアルコー
ル、テトラデシルアルコール、ヘキサデシルアル
コールのようなアルキルアルコール；これらアル
キルアルコールを一部ハロゲン化したハロゲン化
アルキルアルコール；メトキシエチルアルコー
ル、エトキシエチルアルコール、エトキシエトキ
シエチルアルコール、メトキシプロピルアルコー
ル、エトキシプロピルアルコールのようなアルコ
キシアルキルアルコール；ベンジルアルコール、
フエニルエチルアルコール、フエニルプロピルア
ルコールようなアラルキルアルコール；アリルア
ルコール、クロトニルアルコールのようなアルケ
ニルアルコール等がある。）Ｃシアン系ビニルモノマーアクリロニトリル；メタクリロニトリル、α−
エチルアクリロニトリルのようなα−アルキルア
クリロニトリル；α−クロロアクリルニトリル、
α−ブロモアクリロニトリルのようなα−ハロゲ
ン化アクリロニトリル；シアン化ビニリデン等。これらモノエチレン性単量体は１種または２種
以上組合わせて用いられ、より好ましくはメチル
メタアクリレート−アクリロニトリル、スチレン
−アクリロニトリル、メチルメタアクリレート−
スチレンの組合わせが良好である。主要モノエチレン性単量体の他に、ガラス転移
点Tgの調節、磁性粒子への接着性の改良などの
目的で、他のビニルモノマー、オリゴマー等が必
要に応じて使用される。使用量は50wt％以下が
望ましい。このようなビニルモノマーとして、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニルのような脂肪酸ビニルエ
ステル類；エチレン、プロピレン、ブチレン、ブ
タジエンのようなオレフイン類；塩化ビニル、臭
化ビニル、フツ化ビニル、塩化ビニリデン、臭化
ビニリデン、フツ化ビニリデンのようなハロゲン
化オレフイン類；アクリルアミド、メタクリルア
ミドなどのアミド類などがある。さらに、磁性粒子の帯電量を調節する目的でア
ジン化合物、４級アンモニウム塩、ポリアミン樹
脂等の帯電量調節剤を必要に応じ使用してもよ
い。使用量は15wt％以下が望ましい。磁性粒子の被覆に用いる合成樹脂エマルジヨン
は、乳化重合法により製造される。乳化重合法と
しては、バツチ重合法、滴下重合法（モノマーま
たは乳化モノマー）、シード重合法、さらにこれ
らの発展タイプである多段式重合法が目的により
採用される。このようにして製造された合成樹脂エマルジヨ
ンは合成樹脂含有量５〜60wt％である。合成樹脂エマルジヨンの粒子径は0.01〜10μm、
好ましくは0.02〜1μm程度である。また溶媒は水またはメチルアルコール、エチル
アルコール、イソプロピルアルコール等のアルコ
ール系あるいはこれらの混合系である。このような合成樹脂エマルジヨン中の合成樹脂
のガラス転移点Tgは、130℃以下、特に20〜130
℃であることが好ましい。 Tgが130℃をこえると、合成樹脂エマルジヨン
を磁性粒子に均一にコーテイングすることが工業
的にコスト高となり、また、形成された被膜が均
一になりにくい。 Tgが20℃未満になると磁性キヤリア粒子の流
動性が非常に悪く、さらに電気抵抗の湿度依存性
が大きくなる。このような合成樹脂からなる被覆は、２〜
10μmの厚さに連続被膜として形成される。このような被覆を磁性粒子の表面に形成するに
は、流動層ないし転動層を形成した容器中で、加
熱下、エマルジヨン溶液をノズルスプレーを用い
て被覆し、乾燥すればよい。加熱温度は70〜90℃、乾燥温度は70〜100℃程
度とする。また造膜助剤を添加することにより、より均一
な連続被膜が形成される。この場合、使用する造
膜助剤としては、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、ブチルカルビトールアセ
テート、セロソルブ、セロソルブアセテート、ブ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、
フエニルセロソルブ、カルビトール、カルビトー
ルアセテート、ブチルカルビトール、ジエチルカ
ルビトール、ジブチルカルビトール、ヘキシレン
グリコール、テキサノール、シエルゾール、３−
メトキシブチルアセテート、エチレングリコール
アセテート、ベンジルアルコール、フルフリルア
ルコール等の１価ないし多価のアルコールないし
その誘導体；あるいはトルエン、キシレン等の芳
香族系炭化水素等がある。そして、造膜助剤の使用量は１〜20wt％が好
ましい。造膜助剤の使用により、エマルジヨン中で樹脂
分が膨潤し、高ガラス転移点の合成樹脂の被覆が
可能となる。これに対し、本発明において用いる磁性粒子の
材質については、特に制限はないが、通常、鉄粉
またはスピネル構造あるいは六方晶構造をもつ酸
化物の粉体である。スピネル構造をもつ酸化物としては、いわゆる
２−３スピネルや１−３スピネル等のソフトフエ
ライト、マグネタイト（Fe₃O₄）、マグヘマイト
（γ−Fe₂O₃）いずれであつてもよい。また、ソフトフエライトとしては、Ni，Mn，
Mg，Zn，Cu，Co等のうちの１種以上を有する
ものいずれであつてもよい。六方晶構造をもつ酸化物としては、Baフエラ
イトやSrフエライトや、このBaないしSrフエラ
イトのBa，Feの一部を他の金属で置換したもの
等であつてもよい。そして、これらの磁性粉体は、公知の方法によ
り、10〜200μmの平均粒子径の粒子として作製さ
れる。なお、粒度分布については特に制限はな
い。このような本発明の磁性キヤリア粒子は15〜
40μC／ｇの帯電量をもつ。また、50gあたりの流動度は、28〜34secの値を
示す。この場合、流動度は、50gのキヤリアを秤取
し、粉末流動計にて求めたキヤリア50gの落下速
度である。さらに、電気抵抗は100〜500Vの範囲におい
て、10¹²〜10⁵Ω程度の値を示す。この場合、キヤリア粒子の電気抵抗の測定は、
磁気ブラシ現像方式を模し、下記のようにして行
われる。すなわち、磁極間間隙７mmにて、Ｎ極およびＳ
極を対向させる。この場合、磁極の表面磁束密度
は1500Gauss、対向磁極面積は10×30mmとする。
この磁極間に、電極間間隙５mmにて、非磁性の平
行平板電極を配置し、電極間に試料200mgを入れ、
磁力により保持する。そして、絶縁抵抗計または
電流計により抵抗を測定すればよい。なお、キヤリア粒子の飽和磁化は、40〜
80emu／ｇ程度とする。発明の具体的作用本発明の磁性キヤリア粒子は、トナーと組合わ
せて、電子写真用の現像用とされる。用いるトナーの種類等については制限がない。なお、静電複写画像を得るにあたり、用いる磁
気ブラシ現像方式や感光体の種類等については制
限はない。発明の具体的効果本発明により、以下の効果が得られることにな
る。重合性乳化剤を用いて、その種類および添加
量を調節することにより、磁性キヤリア粒子の
帯電量を制御することができ、その制御範囲は
15〜35μC／ｇと大きいものである。このように、磁性キヤリア粒子自体の帯電量
を制御できることにより、帯電量が安定する。さらに、高価な帯電量制御剤をトナー中にほ
とんど添加する必要がなくなり、現像剤のコス
ト低減が望める。流動度は、50gあたり34秒以下の良好な値を
示す。電気抵抗は帯電量に依存することなく、10⁵
〜10¹²Ωに制御することができる。さらに電気抵抗の湿度依存性が小さく、低湿
度（30％RH）下に対する高湿度（85％RH）
下での電気抵抗は、樹脂被覆のない磁性キヤリ
ア粒子では１／10²〜５／10³まで、非重合性乳
化剤を用いた磁性キヤリア粒子では１／10²〜
１／10³までそれぞれ低下するのに比較し、重
合性乳化剤を用いた磁性キヤリア粒子では１／
10〜５／10²までの低下にとどまつている。このため、各種複写機に最適の抵抗とするこ
とができ、さらに、外部環境の変化に対して、
安定した良好な画質が得られる。重合性乳化剤を用いることにより、被覆層の
耐久性も十分である。水系エマルジヨンを使用するため、従来の溶
剤タイプの樹脂を使用する場合と比較して、無
公害、低コストという特徴がある。発明の具体的実施例以下に本発明の具体的実施例を示し、本発明を
さらに詳細に説明する。実施例１磁性粒子として粒子径約60μmのフエライト粒
子（組成：NiO 20モル％、ZnO 28モル％、Fe₂
O₃ 52モル％、σ_n＝50emu／ｇ、Hc＝2.0Oe）
を用いた。このフエライト粒子を、流動層を形成した容器
中に入れ、約15分間、80℃に予備加熱した。この後、下記表１に示される合成樹脂エマルジ
ヨンA1〜A8を二流体ノズルを用いて噴霧し、乾
燥した。乾燥湿度は60〜100℃とした。なお、造膜助剤として、ブチルカルビトールア
セテートを用いた。使用量は5wt％である。フエライト表面には３〜5μmの均一な連続被膜
が形成された。

【表】これら各キヤリア粒子につき、市販のトナーと
キヤリア粒子とを５対100の割合（重量比）で混
合し、摩擦帯電させ、帯電量を東芝ケミカル社製
ブローオフ帯電量測定器を用いて測定した。結果を図１に示す。図中、曲線およびは、
それぞれサンプルA1〜A4およびA5〜A8に対応
するものである。また、各キヤリア粒子の30℃ 50％での電気抵
抗の測定結果を図２に示す。図中、曲線および
は、それぞれサンプルA1〜A4およびA5〜A8
に対応するものである。さらに、各キヤリア粒子を50g秤量し、筒井理
化学機器株式会社製の粉末流動計を使用して、キ
ヤリア粒子50gの落下速度を測定して流動度とし
た。結果を表２に示す。また、表２には、30℃、30％の電気抵抗に対す
る30℃、85％の電気抵抗の比率（％）が示され
る。

【表】これらの結果から、本発明によれば、重合性乳
化剤の添加量を調整することにより、キヤリア粒
子の電気抵抗、流動度を良好な値に維持したまま
で、帯電量を制御できることがわかる。また、耐湿性もきわめて良好であることがわか
る。実施例２実施例１と同様の磁性粒子を使用し、実施例１
と同様に、表３に示される樹脂の被覆を施した。なお、造膜助剤として、ブチルカルビトールア
セテートを用いた。使用量は5wt％である。これらの各キヤリア粒子の帯電量を図３に、30
℃、湿度50％RHでの電気抵抗を図４に示す。さらに、各キヤリア粒子の低湿度（30％RH）
下での電気抵抗に対する高湿度（80％RH）下で
の電気抵抗の比率および乳化剤の添加量をかえた
ときの帯電量制御範囲を表４に示す。

【表】

【表】これらの結果から、本発明によれば、重合性乳
化剤の種類を変えることにより、キヤリア粒子の
電気抵抗等の特性を良好な状態に維持したまま
で、帯電量を制御でき、さらに、キヤリア粒子
は、湿度依存性が小さく安定した電気抵抗を有す
るものであることがわかる。実施例３実施例２と同様に表５に示される被覆を形成
し、特性を測定した。結果を表６に示す。

【表】

【表】表６に示される結果から、本発明の効果があき
らかである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、重合性乳化剤添加量と、帯電量との
関係を示すグラフである。第２図は、重合性乳化
剤添加量と、電気抵抗との関係を示すグラフであ
る。第３図は、乳化剤の種類と、帯電量との関係
を示すグラフである。第４図は、乳化剤の種類
と、電気抵抗との関係を示すグラフである。

Claims

【特許請求の範囲】１磁性粒子の表面に、重合性乳化剤を用いモノ
エチレン性単量体を乳化重合して得られる合成樹
脂の被覆を形成したことを特徴とする電子写真現
像用磁性キヤリア粒子。２重合性乳化剤がアリルアルコール誘導体、ア
クリル酸誘導体、イタコン酸誘導体、マレイン酸
誘導体、フマール酸誘導体、エチレン誘導体およ
びスチレン誘導体のうちの１種または２種以上で
ある特許請求の範囲第１項に記載の電子写真現像
用磁性キヤリア粒子。３モノエチレン性単量体がスチレン系ビニルモ
ノマー、アクリル系ビニルモノマーおよびシアン
系ビニルモノマーのうちの１種もしくは２種以上
を含むものである特許請求の範囲第１項または第
２項に記載の電子写真現像用磁性キヤリア粒子。４重合性乳化剤が、モノエチレン性単量体に対
し１〜15wt％含まれる特許請求の範囲第１項な
いし第３項のいずれかに記載の電子写真現像用磁
性キヤリア粒子。５前記合成樹脂の被覆が合成樹脂のエマルジヨ
ンを用いて形成された特許請求の範囲第１項ない
し第４項のいずれかに記載の電子写真現像用磁性
キヤリア粒子。６合成樹脂含有量が５〜60wt％である特許請
求の範囲第５項に記載の電子写真用現像用磁性キ
ヤリア粒子。７合成樹脂のガラス転移点が、130℃以下であ
る特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれか
に記載の電子写真現像用磁性キヤリア粒子。８被覆の厚さが２〜10μmである特許請求の範
囲第１項ないし第７項のいずれかに記載の電子写
真現像用磁性キヤリア粒子。９磁性粒子が、鉄またはスピネル構造もしくは
六方晶構造酸化物からなる特許請求の範囲第１項
ないし第８項のいずれかに記載の電子写真現像用
磁性キヤリア粒子。１０造膜助剤が合成樹脂エマルジヨンに１〜
20wt％添加される特許請求の範囲第５項ないし
第９項のいずれかに記載の電子写真現像用磁性キ
ヤリア粒子。１１造膜助剤がアルコールおよびその誘導体な
らびに芳香族炭化水素類の１種または２種以上で
ある特許請求の範囲第１０項に記載の電子写真現
像用磁性キヤリア粒子。