JPH079758B2 - Sense circuit - Google Patents
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- JPH079758B2 JPH079758B2 JP2914485A JP2914485A JPH079758B2 JP H079758 B2 JPH079758 B2 JP H079758B2 JP 2914485 A JP2914485 A JP 2914485A JP 2914485 A JP2914485 A JP 2914485A JP H079758 B2 JPH079758 B2 JP H079758B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (技術分野) この発明はROM、PROM、EPROMなどのメモリセルを含む半
導体メモリ装置において、メモリセルの記憶状態を検出
するセンス回路に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a sense circuit for detecting a storage state of a memory cell in a semiconductor memory device including memory cells such as a ROM, a PROM, and an EPROM.
(従来の技術) このようなメモリのセンス回路の一例としては第6図に
示されるものが知られている。M1はセンス点D1につなが
る複数のメモリセルのうちの1個であり、そのゲート電
極はワード線W1に接続されている。ワード線W1はバッフ
ァ回路を介してデコーダに接続され、デコーダによりデ
コードされた信号によりそのバッファ回路を介して選択
される。各センス点D1には読出し時にメモリセルに電流
を供給するためにP型MOSトランジスタ(MOSトランジス
タを以下単にトランジスタという)Q1aがN型トランジ
スタQ2aを介して接続されている。トランジスタQ1aのゲ
ート電極は動作時はグランド電位にされる。P型トラン
ジスタQ3とN型トランジスタQ4とからなる回路C1はセン
ス点D1の電圧レベルを検出する回路であり、トランジス
タQ4のゲート電極がセンス点D1に接続されている。トラ
ンジスタQ3とトランジスタQ4とのノードN1がトランジス
タQ2aのゲート電極に接続されている。これにより、メ
モリセルM1のオン状態又はオフ状態がセンス点D1の電圧
変化としてビット線電圧検出回路C1により検出され、ト
ランジスタQ2aのインピーダンスが制御されてトランジ
スタQ1aとトランジスタQ2aのノードN2aの電圧レベルの
相違となって現れる。P型トランジスタQ5とN型トラン
ジスタQ6とからなる回路は、メモリセルM1がオンのとき
にトランジスタQ1とともにセンス点D1に電流を供給し、
センス点D1の電圧の低下を制御してアクセス時間の短縮
化を図るための回路である。(Prior Art) As an example of a sense circuit of such a memory, the one shown in FIG. 6 is known. M1 is one of a plurality of memory cells connected to the sense point D1, and its gate electrode is connected to the word line W1. The word line W1 is connected to the decoder via the buffer circuit, and selected by the signal decoded by the decoder via the buffer circuit. A P-type MOS transistor (MOS transistor is simply referred to as a transistor hereinafter) Q1a is connected to each sense point D1 via an N-type transistor Q2a in order to supply a current to the memory cell at the time of reading. The gate electrode of the transistor Q1a is set to the ground potential during operation. A circuit C1 including a P-type transistor Q3 and an N-type transistor Q4 is a circuit for detecting the voltage level of the sense point D1, and the gate electrode of the transistor Q4 is connected to the sense point D1. A node N1 between the transistor Q3 and the transistor Q4 is connected to the gate electrode of the transistor Q2a. Thereby, the ON state or the OFF state of the memory cell M1 is detected by the bit line voltage detection circuit C1 as a voltage change of the sense point D1, the impedance of the transistor Q2a is controlled, and the voltage level of the node N2a of the transistor Q1a and the transistor Q2a becomes It appears as a difference. The circuit composed of the P-type transistor Q5 and the N-type transistor Q6 supplies current to the sense point D1 together with the transistor Q1 when the memory cell M1 is on,
This is a circuit for controlling the voltage drop at the sense point D1 to shorten the access time.
ROMなどのセンス回路の他の例として知られているもの
は、第7図に示されるセンス回路である。第6図のセン
ス回路と比較して異なる点は、第6図の回路ではトラン
ジスタQ5とQ6とからなる電流供給用回路がビット線電圧
検出回路C1により制御されているのに対し、第7図のセ
ンス回路ではトランジスタQ5aとQ6aとからなる電流供給
用回路が。別個に設けられたビット線電圧検出回路C1a
により制御される点にあり、メモリセルM1とメモリセル
に電流を供給するトランジスタQ1aに関する構成は両回
路とも同一である。Another known sense circuit such as a ROM is the sense circuit shown in FIG. 6 is different from the sense circuit in FIG. 6 in that the current supply circuit including the transistors Q5 and Q6 is controlled by the bit line voltage detection circuit C1 in the circuit in FIG. In the sense circuit, the current supply circuit consisting of the transistors Q5a and Q6a. Bit line voltage detection circuit C1a provided separately
The configuration relating to the memory cell M1 and the transistor Q1a for supplying a current to the memory cell is the same in both circuits.
このようなセンス回路において、メモリセルに電流を供
給するトランジスタQ1aの電流駆動力Ilは、通常、メモ
リセルM1がオン時の電流(オン電流)I onとオフ時の電
流(オフ電流)I offの間に設定される。すなわち、 I off<Il<I on である。このとき、メモリセルM1のオン状態を検出する
ためのセンスマージンは(I on−Il)であり、オフ状態
を検出するためのセンスマージンは(Il−I off)であ
る。In such a sense circuit, the current driving power Il of the transistor Q1a that supplies a current to the memory cell is usually a current (on current) I on when the memory cell M1 is on and a current (off current) I off when the memory cell M1 is on. Is set between. That is, I off <Il <I on. At this time, the sense margin for detecting the on-state of the memory cell M1 is (I on-Il), and the sense margin for detecting the off-state is (Il-I off).
しかしながら、このようなセンス回路では、Ilの変化と
I onの変化が互いに補償し合わない。その結果、次のよ
うな問題が発生する。However, in such a sense circuit, the change of Il
Changes in I on do not compensate each other. As a result, the following problems occur.
(1)製造プロセスの変動によりメモリセルトランジス
タのチャネル長やしきい値が変動してI onが変動して
も、Ilはメモリセルに電流を供給するトランジスタQ1a
のサイズで決まり一定であるので、オン側センスマージ
ン(I on−Il)が変動する。すなわち、例えばIlが第8
図に示されるように設定されていた場合、オン電流(I
on)が減少するとオン側センスマージンが減少し、第9
図に示されるようにオン状態検出のオン側アクセス時間
が長くなっていく。(1) Even if the channel length or threshold value of the memory cell transistor fluctuates due to manufacturing process fluctuations and Ion fluctuates, Il is a transistor Q1a that supplies current to the memory cell.
Is constant and is constant, and therefore the on-side sense margin (I on-Il) varies. That is, for example, Il is the 8th
If it was set as shown in the figure, the on-current (I
on), the on-side sense margin decreases,
As shown in the figure, the on-side access time for on-state detection becomes longer.
(2)電流電圧(V cc)の変動によるI onの変化に対し
て、Ilの変化が小さいので、この場合もオン側センスマ
ージンが変動する。(2) Since the change in Il is small with respect to the change in I on due to the change in current voltage (V cc), the on-side sense margin also changes in this case.
(3)製造プロセスの変動により、(1)とは逆にメモ
リセルに電流を供給するトランジスタQ1aの相互コンダ
クタンス、しきい値又はチャネル長が変動してIlが変化
し、I onが一定の場合にも、やはりオン側センスマージ
ンが変動する。(3) When the manufacturing process changes, the transconductance, the threshold value, or the channel length of the transistor Q1a that supplies the current to the memory cell changes contrary to (1), and Il changes, and Ion is constant. However, the on-side sense margin also fluctuates.
(目的) この発明は、製造プロセスの変動によりメモリセルトラ
ンジスタのIonやメモリセルに電流を供給するトランジ
スタのトランジスタ定数やプロセスパラメータが変動し
たり、電源電圧が変動したりした場合にも、広いセンス
マージンを維持できるリードオンリーメモリ等のセンス
回路を提供することを目的とするものである。(Object) The present invention has a wide sensing range even when Ion of a memory cell transistor, a transistor constant of a transistor that supplies a current to a memory cell, a process parameter, or a power supply voltage changes due to a change in a manufacturing process. An object of the present invention is to provide a sense circuit such as a read-only memory that can maintain a margin.
(構成) この発明は、実施例を示す第1図又は第5図を参照して
示すと、P型MOSトランジスタQ1からメモリセルM1に電
流を供給し、メモリセルM1のオン状態又はオフ状態を検
出することによりメモリM1の記憶状態を検出するセンス
回路であって、メモリセルM1のオン電流と同じ大きさの
電流を流すことのできる少なくとも1個のリファレンス
セルM11が設けられているとともに、このリファレンス
セルM11のゲート電極には読出し用電圧が印加され、ま
た、このリファレンスセルM11に電流を供給する負荷回
路が設けられており、この負荷回路はサイズW/L(Wは
チャネル幅、Lはチャネル長)がメモリセルに電流を供
給するP型MOSトランジスタQ1より大きい少なくとも1
個の第2のP型MOSトランジスタ又はサイズW/Lがメモリ
セルに電流を供給するP型MOSトランジスタQ1と同じで
ある少なくとも2個のP型MOSトランジスタ(Q11,Q12)
を含むP型MOSトランジスタ群からなる並列回路からな
り、かつ、リファレンスセルM11の負荷回路の第2のP
型MOSトランジスタ又はP型MOSトランジスタ群に含まれ
るP型MOSトランジスタ(Q11,Q12)のそれぞれのドレイ
ン電極には第2のP型MOSトランジスタ又はP型MOSトラ
ンジスタ群に含まれるP型MOSトランジスタ(Q11,Q12)
のゲート電極及びメモリセルに電流を供給するP型MOS
トランジスタQ1のゲート電極が接続されていることを特
徴とするものである。(Structure) According to the present invention, referring to FIG. 1 or FIG. 5 showing an embodiment, a current is supplied from a P-type MOS transistor Q1 to a memory cell M1 to turn on or off the memory cell M1. A sense circuit for detecting the storage state of the memory M1 by detecting, and is provided with at least one reference cell M11 capable of flowing a current having the same magnitude as the ON current of the memory cell M1. A read voltage is applied to the gate electrode of the reference cell M11, and a load circuit for supplying a current to the reference cell M11 is provided. The load circuit has a size W / L (W is a channel width, L is a channel width). Channel length) is at least 1 larger than the P-type MOS transistor Q1 that supplies current to the memory cell
Second P-type MOS transistors or at least two P-type MOS transistors (Q11, Q12) whose size W / L is the same as P-type MOS transistor Q1 which supplies current to the memory cell
A second parallel circuit of a load circuit of the reference cell M11, the parallel circuit including a P-type MOS transistor group including
Type MOS transistors or P-type MOS transistors (Q11, Q12) included in the P-type MOS transistor group have drain electrodes of the second P-type MOS transistor or the P-type MOS transistor (Q11 included in the P-type MOS transistor group, respectively). , Q12)
P-type MOS that supplies current to the gate electrode and memory cell of
This is characterized in that the gate electrode of the transistor Q1 is connected.
以下、この発明の実施例について具体的に説明する。Examples of the present invention will be specifically described below.
第1図はこの発明の一実施例を表わす。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.
B1はビット線で、各ビット線B1には複数のメモリセルが
接続され、M1はそのうちの1個のメモリセルを表わす。
ビット線は複数個あり、それらがトラジスタQ7,Q8によ
り構成されるマルチプレクサにより選択されてセンス点
D1に接続されている。B1 is a bit line, a plurality of memory cells are connected to each bit line B1, and M1 represents one of them.
There are multiple bit lines, which are selected by the multiplexer composed of transistors Q7 and Q8 and
It is connected to D1.
センス点D1には、メモリセルに電流を供給するP型トラ
ンジスタQ1がN型トランジスタQ2を介して接続されてい
る。C1はビット線電圧検出回路で、ゲート電極が接地さ
れたP型トランジスタQ3を負荷とするインバータ回路か
ら構成され、そのインバータ回路のトランジスタQ4のゲ
ート電極がセンス点D1に接続されて、マルチプレクサを
通して選択されたビット線B1の電圧を検出するようにな
っている。このビット線電圧検出回路C1の出力端子とな
るノードN1はトランジスタQ2のゲート電極に接続されて
いる。A P-type transistor Q1 that supplies a current to the memory cell is connected to the sense point D1 via an N-type transistor Q2. C1 is a bit line voltage detection circuit, which is composed of an inverter circuit that uses a P-type transistor Q3 whose gate electrode is grounded as a load. The gate electrode of the transistor Q4 of the inverter circuit is connected to the sense point D1 and selected through a multiplexer. The voltage of the selected bit line B1 is detected. A node N1 which is an output terminal of the bit line voltage detection circuit C1 is connected to the gate electrode of the transistor Q2.
M11は情報の記憶の主体となるメモリセルに対して少な
くとも1個設けられたリファレンスセルであり、リファ
レンスM11はメモリセルM1と同一サイズで、メモリセルM
1のオン電流と同じ大きさの電流を流すことのできるト
ランジスタからなり、そのゲート電極は読出しに使用さ
れる電源電圧V ccの端子に接続されている。M11 is a reference cell provided for at least one memory cell that mainly stores information. The reference M11 has the same size as the memory cell M1 and has a memory cell M1.
It is composed of a transistor capable of passing the same amount of current as the ON current of 1, and its gate electrode is connected to the terminal of the power supply voltage V cc used for reading.
リファレンスM11に電流を供給するために、メモリセル
に電流を供給するトランジスタQ1と同じサイズの2個の
P型トランジスタQ11,Q12の並列回路からなる負荷回路
が設けられ、これらのトランジスタQ11,Q12のドレイン
電極のノードN3にはそれらのトランジスタQ11,Q12のゲ
ート電極が接続され、また、そのノードN3にはメモリセ
ルに電流を供給するトランジスタQ1のゲート電極が接続
されている。In order to supply a current to the reference M11, a load circuit including a parallel circuit of two P-type transistors Q11 and Q12 having the same size as the transistor Q1 that supplies a current to the memory cell is provided. The drain electrode node N3 is connected to the gate electrodes of the transistors Q11 and Q12, and the node N3 is connected to the gate electrode of the transistor Q1 which supplies a current to the memory cell.
このリファレンス側負荷回路のノードN3とリファレンス
セルM11との間にはメモリセル側のトランジスタQ2と同
一サイズのトランジスタQ21、及びメモリセル側のマル
チプレクサ用トランジスタQ7,Q8と同一サイズのトラン
ジスタQ71,Q81が接続され、トランジスタQ71,Q81のゲー
ト電極は電源電圧V ccの端子に接続されている。C11は
メモリセル側のビット線電圧検出回路C1と同等のリファ
レンス側ビット線電圧検出回路であり、ビット線電圧検
出回路C1を構成するトランジスタQ3,Q4とそれぞれ同一
サイズのトランジスタQ31,Q41を備えたインバータ回路
から構成されている。ビット線電圧検出回路C11のトラ
ンジスタQ31のゲート電極が接地され、トランジスタQ41
のゲート電極がリファレンス側のセンス点D11に接続さ
れ、このビット線電圧検出回路C11の出力端子となるノ
ードN4がトランジスタQ21のゲート電極に接続されてい
る。Between the node N3 of the reference side load circuit and the reference cell M11, a transistor Q21 having the same size as the memory cell side transistor Q2, and a transistor Q71, Q81 having the same size as the memory cell side multiplexer transistors Q7, Q8 are provided. The gate electrodes of the transistors Q71 and Q81 are connected to the terminal of the power supply voltage V cc. C11 is a reference side bit line voltage detection circuit equivalent to the bit line voltage detection circuit C1 on the memory cell side, and is provided with transistors Q31 and Q41 of the same size as the transistors Q3 and Q4 forming the bit line voltage detection circuit C1. It is composed of an inverter circuit. The gate electrode of the transistor Q31 of the bit line voltage detection circuit C11 is grounded, and the transistor Q41
Is connected to the reference-side sense point D11, and the node N4 which is an output terminal of the bit line voltage detection circuit C11 is connected to the gate electrode of the transistor Q21.
次にこの実施例の動作について説明する。Next, the operation of this embodiment will be described.
リファレンスセルM11の負荷回路を構成しているトラン
ジスタQ11,Q12は、リファレンスセルM11のオン電流に相
当するだけの負荷電流Il11を供給する。そして、このと
きノードN3の電位は2個のトランジスタQ11,Q12を通し
て負荷電流Il11が供給されるように決定される。ノード
N3はまた、メモリセルに電流を供給するトランジスタQ1
のゲート電極にも接続されているので、トランジスタQ1
の電流駆動力Il1はIl11/2となる。Il11はメモリセルM1
のオン電流とも等しいので、結局 Il1=(オン電流)/2 となる。Transistors Q11, Q12 constituting the load circuit of the reference cell M11 supplies the load current Il 11 only corresponds to the on-current of the reference cell M11. Then, at this time, the potential of the node N3 is determined so that the load current Il 11 is supplied through the two transistors Q11 and Q12. node
N3 is also a transistor Q1 that supplies current to the memory cell.
Since it is also connected to the gate electrode of, the transistor Q1
Current drivability Il 1 of the Il 11/2. Il 11 is memory cell M1
Since it is also equal to the ON current of, Il 1 = (ON current) / 2 after all.
すなわち、メモリセルM1の負荷電流Il1はトランジスタQ
1のトランジスタ定数(チャネル幅やチャネル長など)
やプロセスパラメータ(相互コンダクタンスやしきい値
など)によらず、メモリセルM1のオン電流によって決定
されることになる。その結果、オン側及びオフ側のセン
スマージンはメモリセルM1のオン電流の変化に対して第
2図に示されるように変化し、広い動作マージンをもつ
ようになる。また、それによりオン側及びオフ側のアク
セス時間は第3図に示されるように緩やかに変化し、第
9図に示された従来例のようにメモリセルM1のオン電流
の減少に対して急激な増大を示すことがなくなる。That is, the load current Il 1 of the memory cell M1 is
Transistor constant of 1 (channel width, channel length, etc.)
It is determined by the on-current of the memory cell M1 regardless of the process parameters (transconductance, threshold value, etc.). As a result, the on-side and off-side sense margins change as shown in FIG. 2 with respect to changes in the on-current of the memory cell M1 and have a wide operation margin. As a result, the on-side and off-side access times are gradually changed as shown in FIG. 3, and abruptly with respect to the decrease in the on-current of the memory cell M1 as in the conventional example shown in FIG. No longer shows a significant increase.
第1図の実施例ではリファレンス側の負荷回路として2
個のトランジスタQ11,Q12の並列回路を使用している
が、この負荷回路をメモリセルに電流を供給するトラン
ジスタQ1よりサイズW/Lの大きい1個のトランジスタで
構成してもよいし、3個以上のトランジスタの並列回路
で構成してもよい。また、ノードN3の電位はリファレン
スセルM11のオン電流とリファレンス側負荷回路のトラ
ンジスタQ11,Q12のサイズによって決まるが、ノードN3
の電位がリファレンス側センス点D11の電位より高くな
るようにトランジスタQ11,Q12のサイズを設定しておく
のが望ましい。In the embodiment of FIG. 1, the load circuit on the reference side is 2
Although a parallel circuit of transistors Q11 and Q12 is used, this load circuit may be composed of one transistor having a size W / L larger than the transistor Q1 which supplies the current to the memory cell, or three transistors. It may be configured by a parallel circuit of the above transistors. The potential of the node N3 depends on the on-current of the reference cell M11 and the sizes of the transistors Q11 and Q12 of the load circuit on the reference side.
It is desirable to set the sizes of the transistors Q11 and Q12 so that the potential of is higher than the potential of the reference side sense point D11.
第1図の実施例のリファレンスセルM11のゲート電極は
電源電圧端子に接続されているが、このゲート電極はメ
モリセルのゲート電極(ワードライン)に接続されるデ
コーダのバッファ回路と同等のバッファ回路に接続し、
そのリファレンスセルM11で読出しを行なうメモリセル
が選択されるときにはリファレンスセルM11がオン状態
となるように、リファレンスセルM11のゲート電極に電
圧を供給するようにしてもよい。The gate electrode of the reference cell M11 in the embodiment of FIG. 1 is connected to the power supply voltage terminal, and this gate electrode is connected to the gate electrode (word line) of the memory cell and is equivalent to the buffer circuit of the decoder. Connect to
A voltage may be supplied to the gate electrode of the reference cell M11 so that the reference cell M11 is turned on when the memory cell to be read is selected by the reference cell M11.
また、第1図におけるビット線電圧検出回路C1及びC11
として、それぞれ第4図(A)及び(B)に示されるよ
うなCMOSインバータ回路により構成された回路としても
よい。Also, the bit line voltage detection circuits C1 and C11 in FIG.
Alternatively, the circuit may be constituted by a CMOS inverter circuit as shown in FIGS. 4A and 4B, respectively.
第5図はこの発明の他の実施例を表わす。第1図の実施
例と比較すると、まず、メモリセル側においてセンス点
D1の電位の低下を抑制するために、従来の第6図のセン
ス回路と同様にトランジスタQ5とQ6とからなる電流供給
用回路C2がセンス点D1に追加されているとともに、リフ
ァレンス側のセンス点D11においてもそれと同等のトラ
ンジスタQ51とQ61とからなる電流供給用回路C21が追加
されている点で相違する。また、P型トランジスタQ3,Q
5,Q31,Q51のゲート電極が制御線N5に接続され、リファ
レンス側ビット線電圧検出回路C11のノードN4にはN型
トランジスタQ9が接続され、このトランジスタQ9のゲー
ト電極もまた、制御線N5に接続されている点でも第1図
の実施例と相違している。制御線N5は通常はグランド電
位とされるが、スタンバイ時には電源電圧V ccとされる
ことにより、スタンバイ時にトランジスタQ3,Q5,Q31,Q5
1をオフにし、トランジスタQ9をオンにしてこれらの回
路の直流経路を遮断して消費電力を低減させるようにな
っている。なお、この実施例ではメモリセルM1及びリフ
ァレンスセルM11としてEPROMである。FAMOSが使用され
ている。FIG. 5 shows another embodiment of the present invention. Compared with the embodiment of FIG. 1, first, the sense point on the memory cell side
In order to suppress the decrease in the potential of D1, a current supply circuit C2 including transistors Q5 and Q6 is added to the sense point D1 as in the conventional sense circuit of FIG. 6, and the sense point on the reference side is added. D11 is different in that a current supply circuit C21 including transistors Q51 and Q61 equivalent thereto is added. In addition, P-type transistors Q3, Q
The gate electrodes of 5, Q31 and Q51 are connected to the control line N5, the N-type transistor Q9 is connected to the node N4 of the reference side bit line voltage detection circuit C11, and the gate electrode of this transistor Q9 is also connected to the control line N5. The connection is also different from the embodiment shown in FIG. Although the control line N5 is normally set to the ground potential, it is set to the power supply voltage V cc during standby, so that the transistors Q3, Q5, Q31 and Q5
By turning off 1 and turning on the transistor Q9, the DC path of these circuits is cut off to reduce power consumption. In this embodiment, the memory cells M1 and the reference cells M11 are EPROMs. FAMOS is used.
(効果) この発明のセンス回路は、メモリセルに電流を供給する
トランジスタの電流駆動力がメモリセルのオン電流によ
って決定されるように構成されているので、次のような
効果を達成することができる。(Effect) Since the sense circuit of the present invention is configured such that the current driving force of the transistor that supplies a current to the memory cell is determined by the on-current of the memory cell, the following effect can be achieved. it can.
(1)製造プロセスの変動にともなって発生するメモリ
セルトランジスタのチャネル長やしきい値の変動による
メモリセルのオン電流の変動に対して、広いセンスマー
ジンをもつようになる。(1) A wide sense margin is provided with respect to variations in the on-current of the memory cell due to variations in the channel length of the memory cell transistor and variations in the threshold value that occur due to variations in the manufacturing process.
(2)電源電圧の変動に対しても広いセンスマージンを
もつようになる。(2) A wide sense margin is provided even with variations in the power supply voltage.
(3)メモリセルに電流を供給するトランジスタの特
性、例えばチャネル長、しきい値、相互コンダクタンス
など、に対しても広いセンスマージンをもつようにな
る。(3) A wide sense margin can be obtained with respect to the characteristics of the transistor that supplies current to the memory cell, such as the channel length, the threshold value, and the mutual conductance.
第1図はこの発明の一実施例を示す回路図、第2図及び
第3図はそれぞれ同実施例におけるメモリセルのオン電
流の変動に対するセンスマージン及びアクセス時間の変
化を示す図、第4図(A)及び同図(B)は同実施例に
おけるビット線電圧検出回路の他の例を示す回路図、第
5図は他の実施例を示す回路図、第6図及び第7図はそ
れぞれ従来のセンス回路を示す回路図、第8図及び第9
図はそれぞれ従来のセンス回路におけるメモリセルのオ
ン電流の変動に対するセンスマージン及びアクセス時間
の変化を示す図である。 Q1,Q11,Q12……メモリセル又はリファレンスセルに電流
を供給するトランジスタ、 M1……メモリセル、M11……リファレンスセル。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are diagrams showing changes in sense margin and access time with respect to variations in on-current of a memory cell in the embodiment, respectively. 6A and 6B are circuit diagrams showing another example of the bit line voltage detection circuit in the same embodiment, FIG. 5 is a circuit diagram showing another embodiment, and FIGS. 6 and 7 are respectively. Circuit diagrams showing a conventional sense circuit, FIG. 8 and FIG.
Each of the figures is a diagram showing changes in the sense margin and access time with respect to variations in the on-current of the memory cell in the conventional sense circuit. Q1, Q11, Q12 ... Transistors that supply current to memory cells or reference cells, M1 ... Memory cells, M11 ... Reference cells.
Claims (1)
ルに電流を供給し、メモリセルのオン状態又はオフ状態
を検出することによりメモリセルの記憶状態を検出する
センス回路において、 メモリセルのオン電流と同じ大きさの電流の流すことの
できる少なくとも1個のリファレンスセルが設けられて
いるとともに、このリファレンスセルのゲート電極には
読出し用電圧が印加され、 また、このリファレンスセルに電流を供給する負荷回路
が設けられており、この負荷回路はサイズW/L(Wはチ
ャネル幅、Lはチャネル長)がメモリセルに電流を供給
する前記第1のP型MOSトランジスタより大きい少なく
とも1個の第2のP型MOSトランジスタ又はサイズW/Lが
メモリセルに電流を供給する前記第1のP型MOSトラン
ジスタと同じである少なくとも2個のP型MOSトランジ
スタを含むP型MOSトランジスタ群からなる並列回路か
らなり、 かつ、リファレンスセルの前記負荷回路の前記第2のP
型MOSトランジスタ又は前記P型MOSトランジスタ群に含
まれるP型MOSトランジスタのそれぞれのドレイン電極
にはこれらの第2のP型MOSトランジスタ又はP型MOSト
ランジスタ群に含まれるP型MOSトランジスタのゲート
電極及びメモリセルに電流を供給する前記第1のP型MO
Sトランジスタのゲート電極が接続されていることを特
徴とするセンス回路。1. A sense circuit for detecting a storage state of a memory cell by supplying a current from a first P-type MOS transistor to the memory cell and detecting an ON state or an OFF state of the memory cell. At least one reference cell through which a current of the same magnitude as the current can flow is provided, a read voltage is applied to the gate electrode of this reference cell, and a current is supplied to this reference cell. A load circuit is provided, and the load circuit has at least one first W-L size (W is a channel width, L is a channel length) larger than the first P-type MOS transistor for supplying a current to a memory cell. 2 P-type MOS transistors or at least 2 whose size W / L is the same as said first P-type MOS transistor supplying current to the memory cell Becomes a parallel circuit consisting of P-type MOS transistor group including a P-type MOS transistor, and said second P of the load circuit of the reference cell
Type MOS transistors or P-type MOS transistors included in the P-type MOS transistor group, and the drain electrodes of the P-type MOS transistors included in the second P-type MOS transistor group or the P-type MOS transistor group included in the P-type MOS transistor group. The first P-type MO for supplying current to the memory cell
A sense circuit in which the gate electrode of an S transistor is connected.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2914485A JPH079758B2 (en) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | Sense circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2914485A JPH079758B2 (en) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | Sense circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61188798A JPS61188798A (en) | 1986-08-22 |
| JPH079758B2 true JPH079758B2 (en) | 1995-02-01 |
Family
ID=12268075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2914485A Expired - Fee Related JPH079758B2 (en) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | Sense circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH079758B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0738276B2 (en) * | 1986-11-12 | 1995-04-26 | 三菱電機株式会社 | Readout circuit of ROM device |
| IT1232974B (en) * | 1987-12-01 | 1992-03-11 | Sgs Microelettronica Spa | POLARIZATION AND PRELOAD CIRCUIT FOR BIT LINE OF EPROM MEMORY CELLS IN CMOS TECHNOLOGY |
-
1985
- 1985-02-15 JP JP2914485A patent/JPH079758B2/en not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| ELECTRONICS=1983 * |
| ISSCC84 THURSDAY=1984 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61188798A (en) | 1986-08-22 |
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