「BEFORE PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

Next, it is determined whether or not the subsequent print command has been received before a predetermined time T2 has elapsed after the developing process for the final color (yellow) performed last in the color print mode.例文帳に追加

そして、カラー印字モードにおいて最後に実行される最終色（イエロー）の現像工程終了から所定時間Ｔ２が経過するまでに次の印字命令の受取有無を確認している。 - 特許庁

To provide a process for forming lumber which can be suitably used for uniformizing mutual color tone and luster when separately compressing members mutually contiguous before forming, and to provide an exterior for electronic device.例文帳に追加

成形する前に互いに連なっていた部分を別体として圧縮しても互いの色調やつやを一様に揃えることができる木材の成形方法および電子機器用外装体を提供する。 - 特許庁

This optimization process contains an optimization stage before at least one, pre-frequency-assignment optimization stage, and this is applied prior to a frequency is allocated to one or a plurality of communication channels of a radio network.例文帳に追加

本最適化プロセスは、少なくとも１つの周波数割り当て前最適化段階を含み、これは、周波数を無線ネットワークの１つまたは複数の通信チャネルに割り当てる前に適用される。 - 特許庁

To make a countermeasure to noise determinable at a high speed without going back in a design process by determining the countermeasure to noise before circuit design and package design.例文帳に追加

本発明はノイズ対策決定装置に関し、回路設計及び実装設計を行う前にノイズ対策の決定を行い、設計工程の後戻りがなく、かつ高速にノイズ対策を決定できるようにする。 - 特許庁

To improve the accuracy of a process by a means for compensating surface topography in designing a mask and to provide a method for performing optical proximity correction (OPC) of the mask before forming the mask.例文帳に追加

マスク設計時に表面トポグラフィを補償する手段によってプロセスの精度を向上させること、およびマスクを作成する前にマスクの光学的近接補正を行う方法を提供する。 - 特許庁

Before the check node process is started on each row of a check matrix for LDPC encoding, an initialization section 60 derives the product of signs of a priori value ratios contained in a row to be processed.例文帳に追加

ここで、初期化部６０は、ＬＤＰＣ符号化の検査行列における各行のチェックノード処理を開始するまでに、処理対象の行に含まれた事前値比の符号の総積を導出する。 - 特許庁

The image forming apparatus is characterized in that a contact part of the contact type memory tag does not contact a main body side contact connector when the process cartridge before starting use from which a toner seal is not removed is attached.例文帳に追加

トナーシールを除去していない使用開始前プロセスカートリッジが装着された場合には、接触式メモリータグの接点部と本体側接点コネクタが接触しないことを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

To provide a high vacuum die-casting apparatus capable of stably keeping a vacuum degree for a long period of time and having a sealing structure without sucking the outer atmosphere even in either case of before or after a injection process.例文帳に追加

長期的に安定して真空度が維持でき、かつ射出動作前／後のどちらであっても外部雰囲気を吸いこむことが無い密封構造を有する高真空ダイカスト装置を提供する。 - 特許庁

The microwave firing furnace gives a drying process to a body to be fired before a biscuit firing or a great firing is given, when the body to be fired placed in the cavity of the furnace is fired by microwave radiation.例文帳に追加

マイクロ波焼成炉は、マイクロ波の輻射によってキャビティ内の被焼成体を焼成する際に、被焼成体の素焼き工程又は本焼き工程に先立って乾燥工程を実施する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device excluding, before arbitration, an access request to be restrained upon an exclusive process, and of quickly determining an access request that should be accepted by arbitration.例文帳に追加

排他処理に伴って抑止されるべきアクセス要求を調停前に排除することができ、調停によって受理されるべきアクセス要求を早く確定することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the electric contact (12) comprises a process of supplying a series of electric contacts (30) coupled with a carrier strip to a plating station (36) before an induction heating station (38).例文帳に追加

電気コンタクト（１２）を製造する方法は、誘導加熱ステーション（３８）の前のめっきステーション（３６）に、キャリアストリップ（２８）に連結された一連の電気コンタクト（３０）を供給する工程を有する。 - 特許庁

The task managing method confirms whether or not a task which has been executed last a time longer than its cycle before is ready to execute in a time counting process (step 302) for respective tasks.例文帳に追加

各タスクの時間カウント処理（ステップ３０２）で、前回の実行からそのタスクの周期以上の時間が経過しているタスクに関して、このタスクが実行可能な状態にあるかどうかを確認する。 - 特許庁

The determination process means 16 displays on the display part 13 the information, representing the duration period counted from the occurrence time of the warning phenomenon within the prescribed period, before or after the warning display.例文帳に追加

判定処理手段１６は、前記警告表示より前あるいは後の所定の期間内で、前記警告事象の発生時点からカウントした継続期間を示す情報を表示部１３に表示する。 - 特許庁

The ambient temperature T0 of the image forming system is obtained (S100), and also the temperature T2 of paper before a fixing process, which is fed from a paper feeding part of the preceding image forming apparatus, is obtained (S110).例文帳に追加

画像形成システムの外気温度Ｔ０を取得すると共に（Ｓ１００）、前段の画像形成装置の給紙部から給紙される定着処理前の用紙の紙温度Ｔ２を取得する（Ｓ１１０）。 - 特許庁

The cold rolled steel sheet which requires no annealing before the cold rolling by the effect of the control of the C content and the composite addition of Ti and B, and is provided with required quality by the process of hot rolling-pickling-cold rolling (at a draft of ≥50%) can be obtained.例文帳に追加

C量規制とTi，B複合添加の効果として、冷延前の焼鈍を必要とせず、熱延−酸洗−冷延（圧下率≧50%）の工程により所要品質を備えた冷延鋼板を得る。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for thermal spraying, in which operating efficiency of a thermal spraying process is improved by pre-heating a wire feedstock before a wire arrives at a combustion chamber of a thermal spraying gun.例文帳に追加

本発明は、溶射ガンの燃焼チャンバにワイヤが到達する前に、ワイヤ供給原料を予熱することによって溶射プロセスの動作効率を向上させる、溶射ガン装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Before a next plane is subjected to a printing process after printing data of one plane is completely outputted to a printer control part, register changing data is read out from the line memory to change the set value of the register.例文帳に追加

そして、プリンタ印刷部へ１プレーン分の印刷データを出力し終えて、次のプレーンの印字処理を行う前にラインメモリからレジスタ変更データを読み出し、レジスタの設定値を変更するようにする。 - 特許庁

A touch panel sheet is pre-annealed by heat-shrinking first and second resin films 1 and 2 in advance before being annealed in order to prevent heat shrinkage when annealed in a manufacturing process.例文帳に追加

タッチパネルシートは、製造工程においてアニール処理される場合の熱収縮を防ぐために、アニール処理をする前に予め第一、第二の樹脂フィルム１、２を熱収縮させてプレアニール処理が行われる。 - 特許庁

About each measurement item, the factor analysis device selects an explanatory variable in multiple regression analysis from items wherein the measurement order or the process order is before the measurement item, and generates a multiple regression equation.例文帳に追加

各測定項目についてその測定項目より測定順序または工程順序が前の項目の中から重回帰分析における説明変数を選択し、重回帰式を作成する。 - 特許庁

After exposure of a resist film for EUV on a wafer W but before a development process, the PEB device 83 firstly heats the wafer W at a first heating temperature using the first thermal plate 140.例文帳に追加

ウェハＷ上のＥＵＶ用レジスト膜の露光処理後であって現像処理前において、ＰＥＢ装置８３では、先ず、第１の熱板１４０によって第１の加熱温度でウェハＷを加熱する。 - 特許庁

To manufacture ceramic hollow particles at a lower cost than before in a method for manufacturing ceramic hollow particles using a pressure welding mixing apparatus, in which a process for mixing resin powder and ceramic powder is unnecessary and there is neither material loss.例文帳に追加

圧接混合装置を用いてセラミックス中空粒子を製造する方法において、樹脂粉末とセラミックス粉末とを混合する工程が不要で材料ロスもなく、これまでよりも安価に製造する。 - 特許庁

To provide a washing method of a highly purified UF membrane module which prevents the contamination due to air suction at the time of washing completion during the washing process before incorporating the UF membrane module into the ultrapure water producing apparatus.例文帳に追加

ＵＦ膜モジュールを超純水製造装置に組み込む前の洗浄工程における、洗浄終了時の空気吸い込みに起因する汚染を防止して、高清浄なＵＦ膜モジュールを供給する。 - 特許庁

A device for removing the impure substances on a sample, after sample measurement or inspection by using charged particle beam, and before the following semiconductor manufacturing process, is provided.例文帳に追加

上記目的を達成するために、荷電粒子線による試料測定、或いは検査の後であって、次の半導体製造工程前に、試料上の不純物除去処理を行う装置を提供する。 - 特許庁

The production method comprises a process where a powdery mixture containing silicon carbide powder and hexagonal boron nitride powder is heat-treated at 1,450 to 1.650°C in a vacuum or in an inert gas atmosphere before being fired.例文帳に追加

上記製造方法は、炭化珪素粉末および六方晶窒化硼素粉末を含む混合粉末を焼成する前に真空または不活性雰囲気中1450〜1650℃の温度で熱処理する工程を備える。 - 特許庁

When heating after alignment as a post-process is performed for this substrate W, a flow of the gas in an inversive direction to the specific direction at the time of heating before alignment is formed.例文帳に追加

この基板Ｗに対し、後工程である露光後加熱処理を行うときには、露光前加熱処理時における前記特定方向とは逆向きの気流の流れを基板Ｗ上に形成する。 - 特許庁

To provide a developing device, an image forming device and a process cartridge capable of preventing a white stripe from occurring on a toner image due to the accumulation of developer before a developer regulating member.例文帳に追加

現像剤規制部材の手前での現像剤の蓄積を原因とするトナー像上の白スジの発生を防ぐことができる現像装置及び画像形成装置、並びにプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

Before a thin piezoelectric film depositing process (S5), an etching stopper layer 2 is formed on a silicon substrate (S1) and, after a thin piezoelectric film 7 is deposited (S5), a prescribed spot of the silicon substrate 1 is etched (S7).例文帳に追加

圧電薄膜の堆積工程（Ｓ５）より前に、シリコン基板１上にエッチングストッパ層２を形成し（Ｓ１）、圧電薄膜７の堆積工程（Ｓ５）以降に、シリコン基板１の所定箇所をエッチングする（Ｓ７）。 - 特許庁

To prevent deadlock of a plurality of multicast transfer requests, suppress a circuit scale for an increase in defined priority degree, and process data transfer requests considering timewise before/after relation.例文帳に追加

複数のマルチキャスト転送要求を互いにデッドロックさせない、定義する優先度数の増加に対する回路規模の増大を抑える、データ転送要求を時間的な前後関係を考慮して処理する。 - 特許庁

When it is detected by the addition that the ink is not present, and consequently the ink tank is replaced, one recovery process will do without duplicating a suction recovery operation before and after the ink tank is replaced.例文帳に追加

これにより、上記の加算でインクなしと判断されインクタンクの交換を行うとき、そのタンク交換の前後で重複した吸引回復動作を行なわずに１回の回復処理で済ますことができる。 - 特許庁

In a process of resolution enhancement, a gradation curve for interpolating a gradation value between adjacent pixels is calculated in regard to vertical and horizontal directions of pixels on an image before conversion (step 700).例文帳に追加

高解像度化の処理において、変換前画像上の画素の垂直方向、水平方向について隣接する画素間の階調値を補間するための階調曲線を算出する（ステップ７００）。 - 特許庁

To surely confirm before next process when exception processing such as error processing is performed, and minimize a rework even if a print error is caused, and improve work efficiency.例文帳に追加

エラー処理等の例外処理が行われた場合、次工程の前に確実に確認を行い、万が一印刷ミスがあっても手戻りを最小限に抑え、作業効率を向上させることを目的とする。 - 特許庁

To provide a retainer ring processing apparatus which shortens time of running-in of a retainer ring to be performed before a polishing process in a polishing device or eliminates the running-in.例文帳に追加

研磨装置において研磨工程前に行われるリテーナリングの慣らし運転の時間を短縮することができ、あるいは慣らし運転をなくすことができるリテーナリング加工装置を提供する。 - 特許庁

An outer peripheral face 2a1 of a raw material 2' is cleaned by one means selected from among acid cleaning, UV cleaning, and ozone cleaning before a printing process of the dynamic pressure generating part by an ink jet system.例文帳に追加

インクジェット方式による動圧発生部の印刷工程の前に、素材２’の外周面２ａ１を、酸洗浄、ＵＶ洗浄、オゾン洗浄の中から選択される一の手段により洗浄する。 - 特許庁

In one embodiment, the method includes a defect counting step of detecting impurities contained in the silica particles by optically counting defective parts on the surface of the precision component before the solving step after the cleaning process.例文帳に追加

ある態様では、洗浄工程後、溶解ステップ前に、精密部品の表面にある欠陥部位を光学的にカウントして、シリカ微粒子に含まれる不純物を検出する欠陥カウントステップを備えている。 - 特許庁

To provide a method for molding an FRP-made blow molded article discharging a core in a process for curing an FRP material, reducing more the number of processes than before, and shortening the molding time.例文帳に追加

ＦＲＰ材を硬化させる工程で中子を排出することができ、従来に比べて工程数を削減でき、成形時間も短縮できるＦＲＰ製中空成形品の成形方法の提供。 - 特許庁

Related to a process wherein a trench is formed by etching and then a surface of the trench is processed by plasma etching, before the plasma etching for the trench, the periphery of an opening of a mask is etched set back.例文帳に追加

エッチングによってトレンチ（溝）を形成した後にプラズマエッチングによって溝の表面を処理するプロセスにおいて、溝のプラズマエッチングの前にマスクの開口の周囲をエッチングして後退させておく。 - 特許庁

Through the configuration above, applying main image processing including the smoothing process to the image before signal compression can enhance the compression rate because no dot data are included at the compression.例文帳に追加

上述の構成のように、信号圧縮の前に平滑化処理を含んだ主画像処理を行うことで、圧縮時において網点データが含まれていないために圧縮率の向上を図ることができる。 - 特許庁

When the vehicle control mode is switched, the electronic control device 40 executes a gradually changing process for gradually changing the target throttle opening from a set value before switching to a set value after switching.例文帳に追加

電子制御装置４０は、車両制御モードが切り替えられたとき、目標スロットル開度を切り替え前の設定値から切り替え後の設定値に徐々に変更する徐変処理を実行する。 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device with an excellent yield even when a manufacturing method for the semiconductor device bonding a filmy adhesive member for a die bonding on the rear of a semiconductor wafer before a dicing process.例文帳に追加

ダイシング工程前にダイボンド用のフィルム状接着部材を半導体ウェハの裏面に接着する半導体装置の製造方法を採用した場合にも、歩留まりよく半導体装置を製作する。 - 特許庁

Feeding of main steam from a nuclear reactor 1 to the turbine 3 body is stopped before the vacuum break of a condenser in a stopping operation process of a nuclear plant, and clean fluid is fed to the turbine 3 body.例文帳に追加

原子力プラント停止操作過程の復水器真空破壊前に、原子炉１から主蒸気がタービン３本体に供給されるのを停止して、タービン３本体に清浄流体を供給する。 - 特許庁

To provide a device for leveling a noodle cluster for unfolding and also leveling the upper surface of the noodle cluster placed in a molding frame before its frying process in the production processes of an instant noodle.例文帳に追加

即席麺の製造工程において、油揚げ工程に先立ち、型枠内に投入された麺塊の上面をほぐすと共に均すための、麺塊均し装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a forming method of wiring that can suppress a rise in manufacturing cost by making the number of processes less than before when forming a processed film by using a side-wall transfer process.例文帳に追加

側壁転写プロセスを用いて被加工膜を形成する場合に、従来に比して工程数を減少させ、製造コストの上昇を抑えることができる配線の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reliable method of excellent cost efficiency for removing a liquid of a contamination factor from a space part of a hem flange, before the liquid of the contamination factor is boiled up in a heat treatment process.例文帳に追加

熱処理工程において汚染要因となる液体が沸騰する前に、ヘムフランジの空間部から汚染要因となる液体を除去するため、信頼性があり、コスト効率の良い方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a plasma processor capable of making the resistance almost the same resistance before cutting after removing the extended layer and capable of shortening the unit process time.例文帳に追加

引き延びた層の除去工程後の抵抗値を、切断前の抵抗値とほぼ同程度の値にすることができ、タクトタイムも短くすることができるプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, the carry-out operation of the substrate can be started after the exposure process on the substrate P ends and before the substrate stage 20a is positioned at a substrate exchange position for the exchange of the substrate P.例文帳に追加

このため、基板Ｐに対する露光処理が終了した後、基板Ｐの交換のために基板ステージ２０ａを基板交換位置に位置させる前に基板Ｐの搬出動作を開始することができる。 - 特許庁