| 例文 (999件) |
BEFORE PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2470件
This method consists of a process of conveying a thin processed part S to an inspecting position, a process of generating vacuum destruction between the thin processed part S and sucking table 21 before suction at the inspecting position, and a process of making the sucking table 21 suck the thin processed part S immediately after of the vacuum destruction.例文帳に追加
薄板加工部品Sを搬送して検査位置へもたらす工程と、検査位置にて吸着する前に薄板加工部品Sと吸着テーブル21との間で真空破壊を生じさせる工程と、真空破壊を生じさせた後直ちに薄板加工部品Sと吸着テーブル21に吸着させる工程と、からなることを特徴とする。 - 特許庁
The manufacturing method includes a filling process of resign mortar 30 containing an acrylic resign 32 into the molding form 42 of the plate body 8, a process forming the plate body by curing the resin mortar in the molding form, and an installation process installing the fixing means ( Hook and Loop fastener 10) before or after the resin mortar is cured, the fixing means ( Hook and Loop fastener 10) is installed.例文帳に追加
プレート本体(8)の成形型(42)にアクリル系樹脂(32)を含む樹脂モルタル(30)を充填する工程と、成形型内で樹脂モルタルを硬化させ、プレート本体を形成する工程と、成形型からプレート本体を取り出す工程と、プレート本体に樹脂モルタルの硬化前又は硬化後に固定手段(面ファスナー10)を設置する工程とを含んでいる。 - 特許庁
In heating and pressurizing a laminate structure including an electric insulating base material and a wiring board via a press plate, the heating and pressurizing process includes a deviation generating process for generating a deviation between the laminate structure and the press plate before the temperature reaches a laminate deviation start temperature.例文帳に追加
電気絶縁性基材と配線基板とを含む積層構成物をプレス板を介して加熱加圧するに際し、前記加熱加圧工程は、積層ずれ開始温度に達する前に前記積層構成物と前記プレス板の間でずれを発生させるずれ発生工程を含むものである。 - 特許庁
The second well 109 is formed after a process for effecting wet etching of the surface of the semiconductor substrate 101 including the first well 104 or divided into before and after the etching process whereby a condition that the first well 104 is electrically conducted with the semiconductor substrate 101 upon the wet etching is obtained.例文帳に追加
第1ウェル104を含む半導体基板101の表面をウェットエッチングする工程の後に、または、その前後に分けて、第2ウェル109を形成することにより、ウェットエッチング時において、第1ウェル104と半導体基板101が電気的に導通している状態にする。 - 特許庁
Herein a pattern of a change in the moving speed of the scraper in the coating process is set in accordance with "the rate of the thickness of the film printed before the start of the coating process at a position in the substrate H corresponding to the plate opening part, to the thickness of the plate opening part 21a etc.".例文帳に追加
ここで、コート工程におけるスクレッパ移動速度の変化パターンが、「製版開口部21a等の厚さに対する、基板Hにおける同製版開口部に対応する位置にて同コート工程開始前に既に印刷されている膜の厚さの割合」に応じて設定される。 - 特許庁
The desiccant rotor 20 is rotated so that the respective parts thereof are successively positioned to the introducing route 16 and the supplying route 18, whereby the process air after cooling is dehumidified by the desiccant rotor 20 and the desiccant rotor 20 is regenerated by the process air before cooling.例文帳に追加
そして、デシカントロータ20をその各部が導入経路16と供給経路18に順次位置するように回転させることにより、冷却後の処理空気を該デシカントロータ20で除湿し、かつ冷却前の処理空気でデシカントロータ20を再生するようになっている。 - 特許庁
To degrade sticky tough dirt such as grease, stain or the like by the force of steam by applying steam to the laundry before a washing process and to eliminate the degraded dirt in the subsequent washing process in a washing machine which washes the laundry in its washing and dewatering tub.例文帳に追加
洗濯兼脱水槽内で洗濯物を洗う洗濯機において、洗い行程の前に洗濯物に蒸気を当てることにより、脂汚れやしみ汚れなどのこびりついた頑固な汚れを蒸気の力で分解し、つぎの洗い行程で、分解されたこれらの汚れを除去する。 - 特許庁
Even during the time any of processing from the control process steps "0"-"3" is being carried out, power failure or the like occurs and the induction heating control circuit 9 is initialized, when the power supply is returned and the program is started again, operation can be started again from the process step before the power failure.例文帳に追加
制御工程ステップ“0”〜“3”までのいずれかの処理を実行中に、停電等が発生し、誘導加熱制御回路9が初期化された場合でも、電源が復帰しプログラムが再起動した時には、停電発生前の工程ステップから運転を再開することができる。 - 特許庁
Further, in the recovering process, after cobalt is reduced and recovered by solid-liquid separation, a process in which a new amphoteric metal with larger specific surface area than that used before is added to a solution to be reduced and residual cobalt is reduced and recovered by separation, may be repeated for plural times.例文帳に追加
なお、上記回収工程においてコバルトを還元して固液分離して回収した後に、被還元溶解液に対して、前回よりさらに比表面積を大きくした新たな両性金属を添加し、残存するコバルトを還元して分離回収する過程を複数回繰り返してもよい。 - 特許庁
In manufacturing the semiconductor device, the switch 5 is transferred so as to conduct the wiring 2 on scribe lines with the terminal 3 alone of the main circuit 4 of IC chip 1 passing through acceptance criteria in a pass-fail process before a screening process is implemented.例文帳に追加
そして、半導体装置を製造する際では、スクリーニング工程を行う前に、ICチップ1の良、不良を判定する工程で良品と判定されたICチップ1の主回路4の端子3のみが、スクライブライン上の配線2と導通するように、スイッチ5を切り替える。 - 特許庁
To provide a heat treatment apparatus which, having plural substrates to be treated disposed in multistages, can reduce a difference in process gas temperature between the substrates to improve the uniformity of treatment and can restrain the process gas from being decomposed before the substrates arrive.例文帳に追加
処理対象である複数の基板が多段に配置される熱処理装置であって、プロセスガスの温度の差を基板間で低減することにより処理の均一性を改善することができ、基板到達前にプロセスガスが分解するのを抑制することが可能な熱処理装置を提供する。 - 特許庁
In the production process of bisphenol A having a step to isomerize the total mother liquor, bisphenol A powder generated in a granulation step is recovered by heating and melting without extracting the powder from the system and the recovered bisphenol A is returned to at least one step before the granulation step of the bisphenol A production process.例文帳に追加
母液の全量を異性化処理する工程を有するビスフェノールAの製造方法において、造粒工程で発生したビスフェノールA粉末を系外に抜き出すことなく加熱溶融して回収し、造粒前のビスフェノールA製造工程の少なくとも1つの工程に循環する。 - 特許庁
In the synthetic resin made blow container manufactured by performing an axial stretching blow molding at one time before and after heating and shrinking process for removing residual stress, and the container has a density change rate of -0.03% or more in relation to a blow intermediate body 2 after a heating process.例文帳に追加
残留応力を除去する加熱、収縮処理の前後でそれぞれ一回の軸延伸ブロー成形を行うことによって製造された合成樹脂製ブロー容器において、前記ブロー容器は、加熱処理を終えたのちにおけるブロー中間体2に対する密度の増減率を-0.03%以上とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device for realizing stable manufacture of a precise device, by measuring a plurality of points on a sample simultaneously for realizing speedy three-dimensional shape measurement, before reflecting for the setting of working process conditions, in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加
試料上の複数の点を同時に計測して高速な立体形状計測を実現し、半導体製造工程の加工プロセス条件の設定に反映させて、高精度なデバイスの安定な製造を実現することができる半導体デバイスの製造技術を提供する。 - 特許庁
To provide a welding structure of a face plate of a golf club head that can quickly and accurately complete the assembly of a head body and a face plate before a manufacturing process for temporary welding and high energy welding, increase the convenience of assembly and simplify the manufacturing process for welding.例文帳に追加
仮溶接および高エネルギー溶接の製造過程の前にヘッド本体とフェース板の組立を迅速かつ精確に完成することができ、組立の便利性を高めることができると共に、溶接の製造過程を簡単にすることができるゴルフクラブヘッドのフェース板の溶接構造を提供する。 - 特許庁
When executing an afterward timer instruction, for example in a first scan, a timer present value is not added with a time until a changeover process from final equalization before generation of a changeover factor though an elapsed time from the changeover process is added to the timer present value, so that it becomes an error time.例文帳に追加
その後の例えば1スキャン目のタイマ命令実行の際、タイマ現在値には、切替え処理からの経過時間が加算されることになるが、切替え要因が発生する前の最終等値化から切替え処理までの時間が加算されないことになり、これが誤差時間となる。 - 特許庁
The polyester fibers in tow state for stretch and cutting processing has ≥2.2 cN/dtex of stress at 7% elongation and ≤25% of elongation at break before the stretch and cutting process and the polyester fibers after stretch and cutting process has ≥1.8 cN/dtex of stress at 3% elongation.例文帳に追加
牽切加工用に用いるポリエステル繊維において、牽切加工前のトウ状ポリエステル繊維の7%伸長時応力が2.2cN/dtex以上、破断伸度が25%以下であり、かつ、牽切加工後のポリエステル繊維の3%伸長時応力が1.8cN/dtex以上となる牽切加工用ポリエステル繊維。 - 特許庁
To provide a production object range setting device capable of optimizing an inventory and resolving a processing delay when a range of objects for which a production plan is to be prepared is set in a production process where steel plates are transported in discontinued processing and an inventory is retained immediately before each processing process.例文帳に追加
鋼板が非連続処理にて搬送され、各処理工程の直前で在庫が滞留する生産工程での生産計画作成対象範囲の設定に際し、在庫を最適化するとともに処理日遅れを解消し得る生産対象範囲設定装置を提供する。 - 特許庁
In the nonvolatile semiconductor memory device using a multi-value recording system and the nonvolatile memory system, a first verify voltage is used when data are written before a packaging process, and a second verify voltage lower than the first verify voltage is selected when the data are written after the packaging process.例文帳に追加
多値記憶方式の不揮発性半導体記憶装置および不揮発性メモリシステムにおいて、パッケージング工程前にデータを書き込む場合には第一のベリファイ電圧を用い、パッケージ工程後にデータを書き込む場合には第一のベリファイ電圧よりも低い第二のベリファイ電圧に切り替える。 - 特許庁
To provide a sheet sticking device and a sheet sticking method, wherein capacity in a sticking process and a post-process is prevented from being lowered even when an adhesive is applied to an adherend and a base sheet right before the base sheet is stuck on the adherend and then they are stuck together.例文帳に追加
被着体に貼付する直前に接着剤を被着体または基材シートに塗布してこれらを貼付する場合であっても、貼付工程および後工程の処理能力が低下することを防止することができるシート貼付装置および貼付方法を提供すること。 - 特許庁
Thus, by constructing the steel-framed column 40 on the base isolation device 18 first and by constructing the upper-floor beam 60 to the steel-framed column 40 before constructing the footing beam, the process of constructing the footing beam 72 and the process of constructing a floor slab between the upper-floor beams 60 can be performed at the same time.例文帳に追加
このように、免震装置18に最初に鉄骨柱40を施工し、基礎梁を施工する前に、鉄骨柱40へ上階梁60を施工することで、基礎梁72を施工する工程と上階梁60間に床スラブを施工する工程とを併行して行うことができる。 - 特許庁
The dry weight (EW) per one equivalent weight of ion exchange group is 250-940, while decrease in weight after boiling process for eight hours under water is 5 wt.% or less according to a dry weight reference before boiling process.例文帳に追加
イオン交換基1当量当たりの乾燥重量(EW)が250以上940以下であり、かつ水中8時間沸騰処理による重量減少が沸騰処理前の乾燥重量基準で5wt%以下である事を特徴とする、フッ素系イオン交換樹脂膜。 - 特許庁
In a method for manufacturing a semiconductor device for forming two electrodes on a semiconductor substrate and a source region at a region being sandwiched by the gate electrodes in self-aligned manner, a thermal oxidation process for thermally oxidizing the sidewall of the gate electrodes is made before the process for forming a TEOS film.例文帳に追加
半導体基板上に2つのゲート電極を形成し、該ゲート電極に挟まれた領域に自己整合的にソース領域を形成する半導体装置の製造方法において、TEOS膜形成工程前に、該ゲート電極の側壁を熱酸化する熱酸化工程を行なう。 - 特許庁
To provide a thermosetting adhesive composition which can exhibit high early adhesive force before cured by heat and keep the force afterward so that it can be continuously used from a dicing process to a die bonding process.例文帳に追加
熱硬化の前において高い初期接着力を容易に発現することができ、かつその高い初期接着力をそのまま維持することができ、したがって、特に半導体装置の製造においてダイシング工程からダイボンディングまで一貫して使用できる熱硬化性接着剤組成物を提供すること。 - 特許庁
This dishwasher has a function of executing a preliminary washing process intermittently jetting wash water before starting a full-scale washing process continuously jetting the wash water, and a function of selecting whether the preliminary washing is executed or omitted in response to the user.例文帳に追加
食器洗浄機は、洗浄水を連続的に噴射する本洗浄工程の開始前に、洗浄水を間欠的に噴射する予備洗浄工程を実行する機能を有すると共に、ユーザに応答して予備洗浄工程を実行するか省略するかを選択する機能を有する。 - 特許庁
In the in-line screw type injection molding machine using a hot runner type mold, a screw in a heating cylinder is controlled to be operated so that a resin pressure in the hot runner is raised during a predetermined period of time before an injection process passed at predetermined seconds from the completion of a measuring process.例文帳に追加
ホットランナー方式の金型を用いるインラインスクリュー式の射出成形機において、計量工程完了から所定秒時を経た射出工程前の所定期間に、ホットランナー内の樹脂圧を昇圧させるように、加熱シリンダ内のスクリューを動作させる制御を行う。 - 特許庁
The method comprises an underfill molding process of filling a gap between terminals, connecting a semiconductor chip 1 to a board 2 with a flowing liquid resin 4 and an overmolding process of sealing the surface of the board with resin before the surface layer of the liquid resin 4 is cured.例文帳に追加
半導体チップ1と基板2とを接続する端子間の隙間に液状樹脂4を流下させて充填するアンダーフィルモールド工程と、液状樹脂4の表層が硬化する前に半導体チップ1を覆って基板面を樹脂封止するオーバーモールド工程とを有する。 - 特許庁
The reference magnification process part 76 achieves its function using a software, and applies the electronic magnification process to raster data at a reference magnification rate that is set based on the average value of deviation amount from the reference size of the drawn object 14, as an external setup operation which is done before exposure of the drawn object 14.例文帳に追加
基準変倍処理部76は、ソフトウエアでその機能が実現され、被描画体14に露光を行う前の外段取りの作業として、被描画体14の基準サイズからのずれ量の平均値を元に設定される基準変倍率で、ラスターデータに電子変倍処理を施す。 - 特許庁
The aberration of a projection optical system is obtained, the target position of the optical element capable of correcting the above aberration and included in the projection optical system is predicted, and the movement of the optical element is controlled so as to enable the optical element to reach the target position not in an exposure process before a following exposure process starts.例文帳に追加
投影光学系の収差を求め、当該収差を補正しうる該投影光学系に含まれる光学素子の目標位置を予測し、非露光中であって次の露光開始前に該光学素子の該目標位置への移動が完了するように、該光学素子の移動を制御する。 - 特許庁
To provide a visual inspection method which rationalizes and simplifies a setup process before a defect of an anti-reflection film is observed and a cleanup process after the observation, and to provide a visual inspection device which enables visual inspection of the total length of the anti-reflection film to be manufactured at a time.例文帳に追加
反射防止フィルムの欠陥を観察するに至るまでの段取り工程及び観察後の後始末工程を合理化・簡略化する外観検査方法を提供し、同時に製造した反射防止フィルム全長の外観検査が可能な外観検査装置を提供することを目的とした - 特許庁
A constitution/system is employed, in which post-drying density distribution data for each coordinate position on a color filter substrate are acquired in advance before the manufacturing process, and in which the liquid droplet is discharged at each coordinate position with a discharge amount distribution which is set on the basis of the post-drying density distribution data, in the manufacturing process.例文帳に追加
生産工程前に、カラーフィルタ基板上の各座標位置毎の乾燥後濃度分布データを予め取得しておき、生産工程時に、乾燥後濃度分布データに基づいて設定された吐出量分布で各座標位置に液滴を吐出する構成/方法を採用した。 - 特許庁
To provide a method for simulating a tire manufacturing process by which a deformation status of tire, a distortion, a stress and a tension of each tire member which occur in each manufacturing process before vulcanization are calculated, and a program for putting this method into practice, a method for manufacturing a pneumatic tire and a pneumatic tire.例文帳に追加
加硫前の各製造工程で発生するタイヤの変形状態や各部材の歪みや応力や張力を算出することのできるタイヤ製造工程のシミュレーション方法、およびこの方法を実行させるためのプログラム、空気入りタイヤの製造方法および空気リタイヤを提供する。 - 特許庁
For the electrode for secondary battery of nonaqueous electrolyte, the process of manufacturing it is designed in such ways that the temperature of thermal treatment with the electrode should be higher than the melting point of binders and the treatment should be done at higher temperature than softening temperature for the metal collector of electrode, and this thermal treatment should be done before the process of rolling.例文帳に追加
非水電解液二次電池用電極において、電極を熱処理するときの温度が結着剤の融点よりも高温で、かつ電極の金属集電体が軟化する温度よりも高温で熱処理し、さらにこの熱処理工程を圧延工程よりも前に行うものである。 - 特許庁
(2) Subsection (1) does not apply if, before the priority date, the person: (a) had stopped (except temporarily) exploiting the product, method or process in the patent area; or (b) had abandoned (except temporarily) the steps to exploit the product, method or process in the patent area. 例文帳に追加
(2) 優先日前に,その者が, (a) 当該特許地域においてその製品,方法又は工程の実施を停止していた(一時的な場合を除く),又は (b) 当該特許分野においてその製品,方法又は工程を実施するための準備を放棄していた(一時的な場合を除く)場合は,(1)は適用しない。 - 特許庁
In a method for manufacturing the sintered body by calcining a raw material of the sintered body and the sludge coming out of the phosphate forming treatment process, which is not included in the raw material of the above sintered body, the sludge coming out of the above phosphate forming treatment process is washed with water before the above calcination.例文帳に追加
焼結体の原料と、前記焼結体の原料に含まれていないリン酸塩化成処理工程から発生したスラッジとを焼成することにより焼結体を製造する方法において、前記焼成前に、前記リン酸塩化成処理工程から発生したスラッジを水洗する。 - 特許庁
In order to locate the recess on the side of the metal wiring layer, after the current density of an intermediate process is made lower than a current density of before/after process to form a plating layer of a fine metal crystal when depositing the metal wiring layer by plating, the recess can be obtained by carrying out an etching treatment.例文帳に追加
金属配線層の側面に窪みを設けるには、金属配線層をメッキにより析出させるに際して、中間工程の電流密度を前後の工程の電流密度よりも低くして微細金属結晶のメッキ層とした後、エッチング処理を行うことにより得られる。 - 特許庁
The fuse 12 for discrimination belonging to a chip region CHIPf specified through a pre-test SORT 1 before the fuse-cut process is cut by the fuse-cut process, after that, at the time of post test SORT 2, abnormality of the power source supply system in this specified chip region CHIPf is detected.例文帳に追加
ヒューズカット工程以前のプリテストSORT1を経て特定されたチップ領域CHIPfに属する判定用ヒューズ12をヒューズカット工程にてカットし後のポストテストSORT2に際しこの特定のチップ領域CHIPfにおける電源供給系の異常を検出させる。 - 特許庁
In the coating method for coating the car inner panel with the intercoating paint, an emulsion paint is used in order to perform the finish coating of the inner panel of the car in the intercoating process by an aqueous paint and the paint solid thereof before a baking and drying process is set to 80 mass % or more.例文帳に追加
中塗り工程内で自動車内板の仕上げ塗装を水系塗料で仕上げるため、エマルジョン系塗料とし、焼付け乾燥工程前の塗料固形分を80質量%以上とすることを特徴とする自動車内板用中塗り塗料の塗装方法。 - 特許庁
The mutual relation data is analyzed by a data analyzer 19, compared with the same data of a reference system, and then the shift of control parameters and process monitor signals due to the difference of system is grasped and corrected before a process control similar to that of the reference system is performed.例文帳に追加
その相関関係データをデータ解析装置19で解析して、基準となる装置の同じデータと比較し、制御パラメータやプロセスモニタ信号がどのように機差によってシフトしているかを把握し、そのシフト分を補正した後、基準となる装置と同等のプロセスコントロールを行なう。 - 特許庁
To attain the improvement of press formability without such an additional process, although it is necessary that forced cooling process with another device is added after pressing or the forced cooling is added before the pressing when attempting to improve the press formability by a hot pressing in the background technology.例文帳に追加
背景技術では、熱間プレスにおいてプレス成形性を向上させようとすると、プレス後に別個の装置による強制冷却工程の追加、あるいはプレス前に強制冷却工程の追加が必要である、かかる追加工程なしで、プレス成形性の向上を実現する。 - 特許庁
The liquid crystal resin P remaining in a molten state at an outlet 3c of the polymerization vessel 3 is re-ejected from the polymerization vessel 3 by a gauge pressure higher than 0.005 MPa after the resin ejecting process for each lot and before the resin producing process of the subsequent lot.例文帳に追加
各ロットに対する樹脂吐出工程の後であって次のロットに対する樹脂生成工程の前に、重合容器3の吐出口3cに溶融状態で残存している液晶樹脂Pを0.005MPaを超えるゲージ圧で重合容器3から再吐出する。 - 特許庁
Before assembly, each of the PDL files of pages to be combined on the single multiple-page sheet is rendered into a bit map or a pixel map by a rendering method process, a renderer or a rendering module, and the rendering method process includes an operation associated with the assembly depending on an assembly parameter.例文帳に追加
組み付けの前に、多数ページ単葉シート上に組み合わされるべきページのページ記述言語フアイルの各々は、レンダリング方法過程、レンダラー又はレンダリングモジュールで、ビットマップ又はピクセルマップにレンダーされるが、レンダリング方法過程は組み付けパラメーターに依存する組み付け関連操作を含む。 - 特許庁
To efficiently suppress production of malodorous substances by subjecting paper mill waste water discharged from a pulping process and/or a paper making process to air bubbling treatment just before flocculation precipitation treatment to suppress growth of anaerobic bacteria during the flocculation precipitation treatment.例文帳に追加
本発明はパルプ化工程及び又は抄紙工程より排出される製紙工場排水を凝集沈殿処理する直前にエアバブリング処理し、凝集沈殿処理中に発生する嫌気性菌の発生を抑えることにより悪臭物質発生の抑制を効率よく行なう事を目的とする。 - 特許庁
In this inspection method of a plasma display panel, a formation state of the photosensitive film is inspected by entering light having a wavelength without being sensed by the photosensitive film into the photosensitive film after an exposure process and before a development process, and imaging reflection of the light.例文帳に追加
本発明のプラズマディスプレイパネルの検査方法は、露光処理後であって現像処理前の感光性膜に、前記感光性膜を感光させない波長の光を入射し、前記光の反射を撮像して、前記感光性膜の形成状態を検査することを特徴とする。 - 特許庁
The trouble to switch the process speed is saved, and it is unnecessary to wait for ejection of a recording paper 14 immediately before switching in order to switch the process speed, and biases can be switched in order from the uppermost photoreceptor drum, whereby throughout (processing speed) is increased.例文帳に追加
プロセススピードを切り換える手間が省け、また、このプロセススピードの切り換えのために、切換直前の記録用紙14の排出を待たなくてもよく、上流側の感光体ドラムから順にバイアスを切り換えることができるため、処理能力(処理速度)を高めることができる。 - 特許庁
To apply steam to laundry before a washing process for decomposing stubborn sticking dirt such as fatty dirt and a stain and removing the decomposed dirt in the following washing process in a washing machine washing the laundry in a washing and spin-drying drum.例文帳に追加
洗濯兼脱水槽内で洗濯物を洗う洗濯機において、洗い行程の前に洗濯物に蒸気を当てることにより、脂汚れやしみ汚れなどのこびりついた頑固な汚れを蒸気の力で分解し、つぎの洗い行程で、分解されたこれらの汚れを除去する。 - 特許庁
When the target track position is calculated in the process S2, a target yaw angle α of the head is calculated (step S4, target yaw-calculating process) before or after the driving of the actuator for rough movement begins is started.例文帳に追加
この粗動用アクチュエータの駆動開始と前後して、目標トラック位置算出工程S2にて算出された目標トラック位置が算出された時に当該目標トラック位置に基づいて前記ヘッドの目標ヨー角αを算出する(ステップS4,目標ヨー角算出工程)。 - 特許庁
In this method for manufacturing of a semiconductor device including a grinding process of grinding a surface of a wafer on the side opposite to a circuit forming surface thereof, cutout parts of which the depth is smaller than the thickness of the wafer is formed by laser irradiation on the surface of the wafer on the circuit formation side before the grinding process.例文帳に追加
回路形成面とは反対側のウエハ面を研削する研削工程を有する半導体装置の製造方法であって、 前記研削工程の前に、前記回路形成側のウエハ面に、その深さがウエハ厚より浅い寸法の切欠部を、レーザ照射によって形成する。 - 特許庁
The game control device 100 (CPU 111) and the discharge control device 200 (CPU 211) implement a power stoppage process (at least an RAM access prohibiting process in it) after completely finishing transmission/ reception processes under way (or immediately before beginning) when a power stoppage start is detected.例文帳に追加
遊技制御装置100(CPU111)及び排出制御装置100(CPU211)では、停電開始検出時点で実行中(又は開始直前)の送受信処理を完全に終了した後、停電処理(少なくとも、そのうちのRAMアクセス禁止処理)を実行する構成とする。 - 特許庁
The CMP process and the film deposition process when manufacturing a semiconductor predicts the amount of polishing, where the residual level difference generated after CMP polishing becomes not more than a prescribed value, by an information processing unit, and deposits the same thickness film as or a thicker film than the amount of polishing in advance before polishing by a CMP apparatus.例文帳に追加
半導体製造におけるCMPプロセスおよび膜堆積プロセスにおいて、CMP研磨後に生じる残留段差が規定値以内となる研磨量を情報処理装置で予測し、その研磨量と同一もしくはより厚い膜をCMP装置で研磨する以前に予め堆積させる。 - 特許庁
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