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「C region」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索
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C regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1260



例文

Placement of the individual antenna elements is optimized on the roof panel 11 by assigning A-region 31, B-region 32, C-region 33 and D-region 34 in ascending order of line length from the transceiver 12 at predetermined spaced intervals.例文帳に追加

ルーフパネル11には、送受信機12からのライン長の短い順にA領域31、B領域32、C領域33、D領域34が予め決められた間隔で割り当てられ、各アンテナ素子の配置が最適化されている。 - 特許庁

A resist 20 is formed to a region, excluding the region to which the N-type emitter region 15 is to be formed and on the LOCOS oxide film 16 and the N-type emitter region 15 is formed by ion implantation and thermal diffusion (Figs. 3(b), 3(c)).例文帳に追加

そして、N型エミッタ領域15の形成予定場所を除く場所およびLOCOS酸化膜16上にレジスト20を形成し、イオン注入、熱拡散を行ってN型エミッタ領域15を形成する(図3(b)、(c))。 - 特許庁

To provide a material excellent in wear resistance than the conventional material in a temperature region exceeding 1,000°C.例文帳に追加

1000℃を超える温度領域で従来材料よりも耐摩耗性に優れた材料を提供する。 - 特許庁

The conditions of the specific region: (i) a temperature range of 800 and 1200°C and (ii) a reducing atmosphere.例文帳に追加

特定領域条件:(i)800〜1200℃の温度範囲である;および(ii)還元性雰囲気である。 - 特許庁

例文

(c) The hairspring 2 and the terminal curvature 4 are assembled at a junction region 3 by assembling means.例文帳に追加

(c)前記ひげゼンマイ2と終端湾曲4は、接合領域3で組み立て手段により組み立てられる。 - 特許庁


例文

In the seal region c, a second conductive pattern 132 made of the same layer with the pixel electrodes 118 is provided.例文帳に追加

シール領域cには画素電極118と同一層からなる第2導電パターン132を設ける。 - 特許庁

A reactance component X2 as a parallel circuit, composed of a capacitive reactance C and an inductive reactance L, decreases in the low frequency region because the capacitive reactance C cannot be ignored to the inductive reactance L in a low-frequency region and has effect on the reactance component X2, and the effect of the capacitive reactance C decreases in a high-frequency region.例文帳に追加

リアクタンス成分X2は、低周波領域で容量性リアクタンスCが誘導性リアクタンスLに対して無視できず、その影響で容量性リアクタンスCと誘導性リアクタンスLの並列回路としてのリアクタンスの値X2が減少し、高周波領域では容量性リアクタンスCの影響が減少する。 - 特許庁

As a result, excessive heat feeding in the paper non-passing region is eliminated and the balance with natural heat radiation is established so that the temperature in the paper non-passing region does not rise above 230°C.例文帳に追加

その結果、非通紙領域での過剰な熱の供給はなくなり、自然な放熱とのバランスがとれるために、230℃以上には昇温しない。 - 特許庁

The process (C) is carried out by measuring display characteristics of pixels in a first region R1 and display characteristics of pixels in a second region R2.例文帳に追加

工程(C)は、第1の領域R1内の画素の表示特性と、第2の領域R2内の画素の表示特性とを測定することによって行われる。 - 特許庁

例文

On a silicon substrate 1, gate electrodes MG, SG are formed in the memory cell region (Fig.3(b)) and a gate electrode PG is formed in a peripheral circuit region (Fig.3(c)).例文帳に追加

シリコン基板1にメモリセル領域にゲート電極MG、SGを形成し(図3(b))、周辺回路領域にゲート電極PG(図3(c))を形成する。 - 特許庁

例文

A guide section 44 is provided at the overflow chute 38 at its lower side and guides the coins at the lower side region of the overflow chute 38 in the the direction setting free the coins C from its lower side region.例文帳に追加

オーバーフローシュート38の下側に、オーバーフローシュート38の下側域のコインCをその下側域から逃がす方向へ向けてガイドするガイド部44を設ける。 - 特許庁

After that, it is heated at 500-850°C, thus allowing the crystallization acceleration element remaining at a region 15b to be subjected to gettering to be sucked by the 15-family element doped region 15a.例文帳に追加

次に500〜850℃で加熱して、被ゲッタリング領域15bに残存した結晶化促進元素を15族元素添加領域15aに吸い取らせる。 - 特許庁

A region R with the display position of a main icon A as a base point is specified as a displayable region of slave ions B and C subordinate to the main icon.例文帳に追加

主アイコンAの表示位置を基点にした領域Rが、当該主アイコンに従属する従アイコンB及びCの表示可能領域として規定されている。 - 特許庁

Next, the n- source region 6, the n- drain region 7, and a selective oxide film 10 are formed in a self-aligned manner by using the nitride film 4 as a mask (see FIG. (c)).例文帳に追加

つぎに、窒化膜4をマスクとして、前記のn^- ソース領域6、n^- ドレイン領域7と選択酸化膜10をセルフアライン(自己整合)で形成する(同図(c))。 - 特許庁

When a requirement point (C-point) defined by a control force f3 and a motor operation speed v3 exists in a region 5 within a motor operation out-of-region boundary speed, a C'-point designation command is sent to a driver 16 in place of a C-point designation command, and a motor 12 is operated.例文帳に追加

制御力f3及びモータ動作速度v3で定まる要求点(C点)がモータ動作範囲外領域境界速度内領域5に存在する場合、C点指定指令に代えてC´点指定指令をドライバ16に送り、モータ12を動作させるようにする。 - 特許庁

The tire is heated to a temperature difference state, wherein the temperature α°C of a region including the maximum trough part is lower than the temperature β°C of a range other than the region by 5°C or higher, in such a state that internal pressure is applied to the tire and, thereafter, the internal pressure is removed to cool the tire.例文帳に追加

タイヤを内圧付加状態において、前記最大谷部を含む領域の温度α゜Cが、該領域外の範囲の温度β゜Cよりも5゜C以上低い温度差状態に加温したのち、前記内圧を除去して冷却する。 - 特許庁

The peptide contains a variable region to which an antigen-binding site is to be formed and has an amino acid sequence expressing a specific adsorption function to a solid phase at a site closer to the C-terminal than a heavy-chain variable region or at a site closer to the C-terminal than a light-chain variable region.例文帳に追加

抗原結合部位が形成される可変部を含むペプチドであって、重鎖の可変部よりもC末端側又は軽鎖の可変部よりもC末端側に、固相に対して特異的な吸着機能を発現させるアミノ酸配列を有する。 - 特許庁

The scraper for cleaning is constituted by providing a grip region and a working region for storing a blade and by molding the grip region (1) and the working region (2) with a thermosetting plastic material so as to be durable a temperature exceeding 130°C of a glass surface or a glass-like surface, especially a temperature of at least 240°C.例文帳に追加

握り領域と、刃を収容するための作業領域とを有し、ガラス表面またはガラス類似表面の130℃を超える温度、特に240℃以上の温度に耐えるよう、握り領域(1)と作業領域(2)とを熱硬化性プラスチック材料から成形して清掃用スクレーパを構成する。 - 特許庁

In a calculation region A of a mesh model, a spatial calculation region B and an underground calculation region C that a shape model for a vehicle 102 to be analyzed is made to correspond to are set, and an underground boundary layer 105 in the underground calculation region C is set to a depth δ where a temperature variation in the ground is small.例文帳に追加

メッシュモデルの計算領域Aに、解析対象となる車両102の形状モデルを対応付けした空間計算領域Bと地中内計算領域Cとを設定し、地中内計算領域Cの地中境界層105を地中内部の温度変化の少ない深さδに設定する。 - 特許庁

First thermal treatment (750°C) is performed in a nitrogen atmosphere to self-aligningly form silicide films 31, 32 and 33 (thickness: 30 nm each) on a gate region, a source region, and a drain region, respectively.例文帳に追加

窒素雰囲気中で1回目の熱処理(750℃)を行い,ゲート領域,ソース領域,およびドレイン領域にそれぞれ自己整合的にシリサイド膜31,32,33(膜厚30nm)を形成する。 - 特許庁

The storage modulus (G'(L2)) in a nonlinear region at 180°C in step strain measurement from a nonlinear region to linear region of the toner is set to 400 to 2,000 dyn/cm^2.例文帳に追加

トナーの、粘弾性特性の非線形領域から線形領域へのステップストレイン測定において、180℃での線形領域における貯蔵弾性率(G′(L2))が、400〜2000dyn/cm^2である。 - 特許庁

The diode part 3 of the P+ type region 10 is then irradiated with laser light and patterned by laser annealing thus forming an N+ type region 13 selectively in the P+ type region 10 (Fig. 3(c)).例文帳に追加

そして、P+型領域10のうちダイオード部3にレーザ光を照射してレーザアニールすることによりパターニングし、P+型領域10にN+型領域13を選択的に形成する(図3(c))。 - 特許庁

Further, a second inductive impurity is ion-implanted to a deep region 4B, deeper than the region 4A and to the depth where C, is ion-implanted in the surface layer of the n-type drift region 2.例文帳に追加

そして、n型ドリフト領域2の表層部のうち、Cが注入された領域4A及び該Cが注入された深さよりも深い領域4Bまで第2導電型不純物をイオン注入する。 - 特許庁

The heater 8A is helically wound in the entrance region A, the heater 8B is helically wound in the exit region B, and the heater 8C is helically wound in the center region C.例文帳に追加

ヒータ8Aは螺旋状となるように入口領域Aに巻かれ、ヒータ8Bは螺旋状となるように出口領域Bに巻かれ、ヒータ8Cは螺旋状となるように中央領域Cに巻かれている。 - 特許庁

The transferring device 1 is equipped with the transfer means 5 which starts and operates the transfer operation in such a way as including a relative low-speed region A, a transition region B, and a relative high-speed region C in order.例文帳に追加

移載装置1は、移載動作開始から相対的な低速度領域Aと遷移領域Bと相対的な高速度領域Cとをその順に含むように動作する移載手段5を有する。 - 特許庁

A heat treatment (750°C) of a first time is performed in a nitrogen atmosphere, and the silicide films 31, 32 and 33 (film thickness is 30 nm) are formed in a self-aligning manner respectively in a gate region, a source region and a drain region.例文帳に追加

窒素雰囲気中で1回目の熱処理(750℃)を行い,ゲート領域,ソース領域,およびドレイン領域にそれぞれ自己整合的にシリサイド膜31,32,33(膜厚30nm)を形成する。 - 特許庁

A wedge-shape spatial region is formed between the surface of the application roller 11 and a recovery part 29A, and the spatial region includes a region C in which a wedge angle changes smaller from a region B2 where a coating liquid remains toward a region B1 where there is almost no coating liquid.例文帳に追加

塗布ローラ11の表面と回収部29Aとの間にクサビ形状の空間領域を形成し、その空間領域は、塗布液が残る領域B2から塗布液がほとんど無くなる領域B1に向かってクサビ角度が小さく変化する領域Cを含む。 - 特許庁

An Si film is grown on a base region 3-a of a horizontal bipolar and on a collector region 3-b of a vertical bipolar at the same time to form an emitter region 9-a and a collector region 9-c of the horizontal bipolar and a base region 9-b of the vertical bipolar.例文帳に追加

横型バイポーラのベース領域3−aの上、および縦型バイポーラのコレクタ領域3−bの上にシリコン膜を同時に成長させ、横型バイポーラのエミッタ領域9−aおよびコレクタ領域9−cを形成するとともに、縦型バイポーラのベース領域9−bを形成する。 - 特許庁

While a p-channel MISFET is covered with a mask layer RM, ion (including at least a kind of F, Si, C, Ge, Ne, Ar, and Kr) is implanted to the n-type source region and n-type drain region of n-channel MISFET.例文帳に追加

マスク層RMによりPチャネル型MISFETを覆いつつ、Nチャネル型MISFETのN型ソース領域およびN型ドレイン領域に、イオン(F,Si,C,Ge,Ne,Ar,Krのうち少なくとも一種類を含む)を注入する。 - 特許庁

An outer wall 500 is provided around the equipment space including the processing regions A and B and the carrying region C, and a partition wall 501 is provided to partition the processing regions A and B and the carrying region C.例文帳に追加

処理領域A,Bおよび搬送領域Cを含む装置空間の周囲には外壁500が設けられ、処理領域A,Bおよび搬送領域Cをそれぞれ隔離するように隔壁501が設けられている。 - 特許庁

While a P-channel type MISFET is covered by a mask layer RM, ion (at least one of F, Si, C, Ge, Ne, Ar, and Kr is included) is implanted into an N-type source region and an N-type drain region of N-channel type MISFET.例文帳に追加

マスク層RMによりPチャネル型MISFETを覆いつつ、Nチャネル型MISFETのN型ソース領域およびN型ドレイン領域に、イオン(F,Si,C,Ge,Ne,Ar,Krのうち少なくとも一種類を含む)を注入する。 - 特許庁

To provide a light-modifying sheet which exhibits light-shielding properties because of its ability to show a large haze (%) variation in a relatively low temperature region (40-50°C) and exhibits its effect in a practical temperature region (25-50°C).例文帳に追加

比較的低温(40〜50℃)領域において、ヘーズ値(%)の変化量が大きくなることによって、光遮蔽性を発揮し、実用温度領域(25〜50)において効果を発揮する調光性シートを提供すること。 - 特許庁

Cholesteric liquid crystals of an R-L body, a G-L body, a B-L body and a C-L body are encapsulated in the red display region, the green display region, the blue display region and the white display region of the first display panel 60a, respectively.例文帳に追加

第1の表示パネル60aの赤色表示領域、緑色表示領域、青色表示領域及び白色表示領域には、それぞれR−L体、G−L体、B−L体及びC−L体のコレステリック液晶を封入する。 - 特許庁

The resist pattern 15 is removed and a desired light reception opening is formed in an image pickup region (refer to Fig. (c)).例文帳に追加

レジストパターン15を除去して、撮像領域に所望の受光開口部を形成する(図1(c)参照)。 - 特許庁

The minimum melt viscosity of the resin composition in a temperature region of 50-150°C is100 Pa s.例文帳に追加

50〜150℃の温度領域での上記樹脂組成物の最低溶融粘度は100Pa・s以下である。 - 特許庁

To provide a friction material which has enhanced friction material strength at a high temperature region of a rotor temperature of 400°C or more.例文帳に追加

ロータ温度400℃以上の高温域での摩擦材強度を向上させた摩擦材を提供すること - 特許庁

Thereby, the region C of the vehicle body structure 1 on the front side of the fuel tank 3 also is added to an absorption stroke.例文帳に追加

これによって、燃料タンク3より前側の車体構造1の領域Cも吸収ストロークに加算する。 - 特許庁

The number of times of 'on' of an ignition key switch 6 is counted using a counter region C in the EEPROM 74.例文帳に追加

EEPROM74内のカウンタ領域Cを用いて、イグニッションキースイッチ6のオン回数が計数される。 - 特許庁

The substrate processing system 100 has processing regions A and B and a carrying region C is provided between.例文帳に追加

基板処理装置100は、処理領域A,Bを有し、処理領域A,B間に搬送領域Cを有する。 - 特許庁

(c) A thick silicon oxide film 32 is formed on the impurity diffused region 30 in a thermal oxidation process.例文帳に追加

(c)熱酸化処理により、不純物拡散領域30上に膜厚の厚いシリコン酸化膜32を形成する。 - 特許庁

The nonvolatile semiconductor storage has: a capacitive element region C for composing capacitive elements Cp1-Cp3.例文帳に追加

不揮発性半導体記憶装置は、容量素子Cp1〜Cp3を構成する容量素子領域Cを有する。 - 特許庁

Next, cell arrangement (step B) and wiring (step C) are executed again, after the exclusive wiring region 4 is set.例文帳に追加

次に、配線専用領域4を設定した上で、セルの配置(ステップB)、配線処理(ステップC)を再度実行する。 - 特許庁

To provide a friction material capable of suppressing decomposition of organic materials even in a high temperature region such as500°C.例文帳に追加

500℃以上のような高温域においても有機材料の分解抑制が可能な摩擦材を提供する。 - 特許庁

To provide a high-ductility Mg alloy which shows adequate ductility when deformed even at a low temperature region around 200°C.例文帳に追加

変形温度が200℃程度の低温域であっても良好な延性を示す高延性Mg合金を提供する。 - 特許庁

If the damper 1 parts from the string 15 while inclining, (c) to (e) can be used as a half pedal region.例文帳に追加

このようにダンパー1が傾きつつ弦15から離れると(c)〜(e)をハーフペダル領域として用いることができる。 - 特許庁

The region existence data includes the holder A, B, C, D, but does not include the holder E (data for reproduction exclusive recording area).例文帳に追加

領域存在データはフォルダA,B,C,Dを含むが、フォルダE(再生専用データ記録区域)を含まない。 - 特許庁

Such grain-oriented silicon steel sheet can be obtained by heating the steel sheet to a temperature region of700°C at a heating rate of100°C/s prior to decarburization annealing, then regulating the stangnaition time at700°C to 1 to 20 second and controlling the atmosphere of this temperature region.例文帳に追加

このような一方向性電磁鋼板は、脱炭焼鈍する前に、700℃以上の温度域へ100℃/s以上の加熱速度により加熱したのち700℃以上の滞在時間を1〜20秒間とし、かつこの温度域の雰囲気を制御することにより得ることができる。 - 特許庁

A GaN-base semiconductor layer 12 forming a laser structure is made to grow on an n-type GaN substrate 11 including as main surfaces: first plane region 11a composed of a C surface; a second plane region 11b composed of a semipolar surface; and a third plane region 11c composed of a C surface.例文帳に追加

C面からなる第1の平面領域11aと半極性面からなる第2の平面領域11bとC面からなる第3の平面領域11cとを主面に有するn型GaN基板11上にレーザ構造を形成するGaN系半導体層12を成長させる。 - 特許庁

In a liquid crystal panel P1, however, because a recessing part 4, in the state the liquid crystal 2 is not filled therein, is formed in a non-pixel region C, the gap part A1 is generated inside the non-pixel region C utilizing the recessing part 4 as a nucleus and is not generated in the pixel region D.例文帳に追加

しかし、図示の液晶パネルP_1 においては、非画素領域Cにおいて、液晶2の充填されていない状態の凹部4が形成されているため、空隙部A_1 はこの凹部4を核として非画素領域Cの内部に発生し、画素領域Dには発生しない。 - 特許庁

例文

As a result, lateral dispersion of the p-type impurity is suppressed to the limit of the depth where C is ion-implanted, and lateral dispersion is enlarged in the region deeper than the depth where C is ion-implanted, resulting in constitution of p-type gate region, in such a manner as to creep into under the source region.例文帳に追加

これにより、Cが注入された深さまでにおいては、p型不純物の横方向拡散が抑制され、Cが注入された深さよりも深い領域においては、p型不純物が横方向拡散され、ソース領域の下方まで入り込むようにp型ゲート領域4が形成される。 - 特許庁




  
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