意味 | 例文 (164件) |
D actionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 164件
The negative resist composition contains (B) a crosslinking agent which crosslinks with a compound having a phenolic hydroxy group by the action of an acid; (C) a compound which generates an acid by irradiated with active rays or radiation; and (D) a phenol compound having 7 to 15 benzene rings in the molecule.例文帳に追加
(B) 酸の作用によりフェノール性水酸基を有する化合物と架橋する架橋剤、(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(D)分子内に7〜15個のベンゼン環を有するフェノール化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
A photosensitive resin composition comprises: (component A) an alkali hardly soluble or alkali insoluble resin, the solubility of which with an alkali is increased by an action of an acid; (component B) a photoacid generator; (component C) a fluorene compound expressed by a formula (I); and (component D) a solvent.例文帳に追加
(成分A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が向上するアルカリ難溶性又はアルカリ不溶性樹脂、(成分B)光酸発生剤、(成分C)式(I)で表されるフルオレン化合物、及び、(成分D)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 特許庁
The lower layer resist composition contains (a) a phenolic polymer, (b) a compound which generates a sulfonic acid at ≥100°C, (c) a phenolic acid crosslinker having two or more benzene rings and capable of crosslinking with the polymer under the action of the sulfonic acid and (d) a solvent.例文帳に追加
(a)フェノール系ポリマー、(b)100℃以上の温度でスルホン酸を発生する化合物、(c)2個以上のベンゼン環を有し、酸の作用により上記ポリマーと架橋しうるフェノール系酸架橋剤及び(d)溶剤を含むことを特徴とするシリコン含有2層レジスト用下層レジスト組成物。 - 特許庁
The positive type silicone-containing photosensitive composition contains (a) a waterinsoluble polymer which has a silicon atom in a side chain and is made soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid, (b) a compound which generates a carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.例文帳に追加
(a)側鎖にシリコン原子を有し、かつ水不溶性で酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、(b)活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、(d)溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコーン含有感光性組成物。 - 特許庁
Liquid matter D in the container 100 can be properly supplied by use of opening/closing action of a first cut hole 133 formed on a ceiling part of the flow quantity limiting cap 130 and a second cut hole 159 formed on a ceiling part of the elastic restoration cap 150.例文帳に追加
流量制限キャップ130の天井部に形成された第1切開孔133と、弾性復元キャップ150の天井部に形成された第2切開孔159との開閉動作を利用して、容器100内の液状物Dを適宜供給することができる。 - 特許庁
The negative type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, (B) a resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, (C) a crosslinker which causes crosslinking with the resin (B) under the action of the acid and (D) a compound which increases hole mobility.例文帳に追加
(A)電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物、(B)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(C)酸の作用により樹脂(B)と架橋を生じる架橋剤、及び(D)ホール移動度を増大させる化合物を含有する電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
If the hit ordinary pattern shows a number in two identical digits 00-99, a game ball stored in the hole 41a provided with the same pattern as the hit ordinary pattern falls down from a position D and is guided to a special device action region with a guide device so that a right is given.例文帳に追加
当り普通図柄が「00」〜「99」のぞろ目である場合は、その当り普通図柄と同じ図柄が付された領域孔41aに収容された遊技球は、位置Dから落下し、案内装置によって特別装置作動領域に案内され、権利が発生する。 - 特許庁
When an operation section 59 of the adjustment lever 51 is moved to the right, a valve element 39 is moved in the direction of D with the action of a cum groove 61, and the rate of opening of a valve hole 41 becomes minimum in the state where a pin 43 enters a recessed portion 62 to result in the heating power of the gas burner becomes low fire.例文帳に追加
調節レバー51の操作部59を右側に移動させて行くと、カム溝61の作用によって弁体39はD方向に移動し、ピン43が窪み部62に入った状態で弁穴41の開口度は最小となり、ガスバーナーの火力はとろ火状態となる。 - 特許庁
The radiation sensitive resist composition contains (A) a resin containing Si atoms and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a photo-acid generating agent, (C) a solvent and (D) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in one molecule.例文帳に追加
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する、シリコン原子を含有する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)溶剤、及び(D)分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁
(a) thin film-shaped particles obtained by oxidizing graphite, dispersible in the liquid having a specific dielectric coefficient of 15 or more, having a skeleton composed of carbon, (b) dispersion medium for dispersing the thin film-shaped particles, (c) compounds having reducing action for the thin film-shaped particles, (d) matrix material.例文帳に追加
(a)黒鉛を酸化して得られ、比誘電率15以上の液体に分散可能である、炭素からなる骨格を持つ薄膜状粒子、(b)該薄膜状粒子を分散させる分散媒(c)該薄膜状粒子に対して還元作用のある化合物(d)マトリックス材料 - 特許庁
The timer device 13 successively generates timing pulses D, where the logical level falls to '0' and rises to '1' within a CPU11, in the comparison between the count value of a counter performing ring-counting action and a relatively small prescribed value A and a relatively large prescribed value B.例文帳に追加
タイマー装置13は、リングカウンタ動作を行うカウンタのカウント値と、比較的小さな所定値A及び比較的大きな所定値Bとの比較で、CPU11内部で論理レベルが“0”に立ち下がったり“1”に立ち上がったりするタイミングパルスDを継続的に発生する。 - 特許庁
The valve performance mechanism controls the engine output by the overlap period Pa or the non-overlap period Pb corresponding to the requirement D for the whole load range, and the valve action performance so as to obtain the maximum internal EGR ratio at the predetermined load Da.例文帳に追加
バルブ特性可変機構は、負荷領域全体で要求量Dに応じてオーバラップ期間Paまたは非オーバラップ期間Pbを制御して機関出力を制御すると共に、所定負荷Daで最大の内部EGR率が得られるようにバルブ作動特性を制御する。 - 特許庁
To provide a manufacturing technology for a medicine having characteristics of a repellent material to small animals such as A. nonstimulation, B. safety (known to be present in the nature and harmless to a human body), C. no discomfort in use and D. durability of repellent action to small animals.例文帳に追加
課題は小動物忌避性材質の特性としての、A.無刺激性、B.安全性(天然に存在し人体に無害であることが周知である)、C.使用時の人の無不快感、D.小動物への忌避作用の残存性、等を製剤技術として具現することである。 - 特許庁
This relaxation action providing system 100 is provided with a management server 20 connectable via a telecommunication line N from a customer terminal 10 installed in the medical agency D provided all the time with a relaxation room, or carried by the medical service worker C belonging to the medical agency.例文帳に追加
リラクゼーション行為提供システム100は、リラクゼーションルームが常設された医療機関Dに設置された又は医療機関に属する医療従事者Cが携帯する顧客端末10から、電気通信回線Nを介して接続可能な管理サーバ20を備える。 - 特許庁
A MOS transistor D is a MOS transistor for leakage current cutoff, whose channel is longer than those of the MOS transistors A and B, is made to be conductive only when the circuit is made to operate by the action of an enable terminal (Enable) and is made to be nonconductive to interrupt the leakage current when the circuit is made to be in a standby mode.例文帳に追加
MOSトランジスタDは、MOSトランジスタA,Bよりもチャネル長の長いリーク電流遮断用のMOSトランジスタであり、イネーブル端子(Enable)の作用により、回路を動作させる時にのみ導通し、回路を待機させる時には非導通となってリーク電流を遮断する。 - 特許庁
The enzymatic production of D-glutamic acid from L-glutamic acid is carried out by using a reaction apparatus composed of a reactor containing glutamic acid racemase and a reactor containing L-glutamic acid oxidase and connected to the former reactor in series, racemizing L-glutamic acid by the action of glutamic acid racemase and then treating the racemized product with L-glutamic acid oxidase to obtain D-glutamic acid.例文帳に追加
L−グルタミン酸からD−グルタミン酸を酵素的に製造する方法において、グルタミン酸ラセマーゼを保持した反応器とL−グルタミン酸オキシダーゼを保持した反応器とを直列に配置してなる反応装置を使用し、まず、L−グルタミン酸にグルタミン酸ラセマーゼを作用させてラセミ化し、次いで、L−グルタミン酸オキシダーゼを作用させて、D−グルタミン酸を得ることを特徴とするD−グルタミン酸の製造法に関する。 - 特許庁
To obtain a cancer therapeutic agent for topical administration comprising vitamin D or a vitamin D derivative which can provide a safe and effective treatment by topical administration to a cancer, especially undifferentiated solid carcinomas such as prostatic cancer, cancer of the breast, large intestinal tumor, pancreatic cancer, without causing hypercalcemia in spite of a small amount of administration in comparison with oral administration or intravenous administration since the action is topical.例文帳に追加
この出願発明は、癌、とくに、前立腺癌、乳癌、大腸癌、膵癌などの未分化固形癌に局所投与することにより、経口投与あるいは静脈内投与に比して少量投与にもかかわらず、作用が局所的であるため、高カルシウム血症を招くこともなく、安全かつ効果的な治療を提供することができるビタミンDまたはビタミンD誘導体からなる局所投与用癌治療剤を提供することを課題とする。 - 特許庁
This liquid resin composition is composed of (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups, (B) a compound having a fluxing action, at least two or more phenolic hydroxy groups in a molecule and at least one or more carboxylic acid groups in a molecule, (C) a curing accelerator and (D) a butadiene-acrylonitrile rubber having a terminal carboxy group.例文帳に追加
(A)2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、(B)フラックス作用を有し、1分子あたり少なくとも2個以上のフェノール性水酸基と1分子当たり少なくとも1個以上のカルボン酸基を有する化合物、(C)硬化促進剤、(D)カルボキシル基末端ブタジエンアクリロニトリルゴムからなる液状樹脂組成物である。 - 特許庁
To provide a control device for a driving device for a hybrid vehicle equipped with a differential mechanism whose differential action is operable and a motor for suppressing a second motor etc. from rotating at high speed which is likely to deteriorate its durability when a shift lever is switched from a D position to an N position while a vehicle is traveling.例文帳に追加
差動作用が作動可能な差動機構と電動機とを備えるハイブリッド車両用駆動装置において、車両走行中にDポジションからNポジションへの切替えられた場合などに、第2電動機などがその耐久性を低下させる可能性のある高速回転をすることを抑制する制御装置を提供する - 特許庁
The solid soap excellent in foaming properties, foam retainability and beautiful appearance of the foam comprises (A) barley young leaf powder treated by optimum treating method, (B) talc excellent in mineral components, (C) jojoba (Simmondsia chinensis) oil excellent in moisture retaining components, (D) brown sugar giving moisture to the skin and (E) a pine bark extract excellent in antioxidative action.例文帳に追加
最適な処理方法で処理された(A)大麦若葉末、ミネラル成分に優れた(B)タルク、保湿成分に優れた(C)ホホバ油、肌に潤いを与える(D)黒砂糖、及び抗酸化作用に優れた(E)松樹皮抽出物を含有し、泡立ち、泡の保持性及び泡の美観性に優れた固形石鹸を提供する。 - 特許庁
To provide stable support action by constructing a narrow foundation beam member having a width W on an improved pile having a diameter D to transmit a weight of a building applied on the foundation beam member to a whole cross section of the improved pile through a receive plate member when the building is constructed on a soft ground.例文帳に追加
軟弱地盤上に建物を構築するに際して、径がDの改良杭の上に巾がWと狭い基礎梁部材を構築し、前記基礎梁部材に付与される建物の重量を、受け板部材を介して改良杭の断面全体に伝達し、安定した支持作用を発揮できるようにする。 - 特許庁
On completion of offset cancellation, the N channel transistor 183 is turned on in a stable period before the start of amplification action of the class D amplifier to discharge electrical charges in capacitances C1 and C2 connected to the output terminals T21 and T22 via the discharging resistance RDIS and the N channel transistor 183.例文帳に追加
オフセットキャンセルが終わった後、D級増幅器の増幅動作が開始される前の安定期間に、Nチャネルトランジスタ183はONとされ、出力端子T21およびT22に接続された容量C1およびC2の充電電荷が放電用抵抗RDISおよびNチャネルトランジスタ183を介して放電される。 - 特許庁
The negative resist composition comprises (A) an alkali-soluble polymer having a specified repeating unit, (B) a crosslinking agent which crosslinks with the alkali-soluble polymer (A) by the action of an acid, (C) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (D) a specified quaternary ammonium salt.例文帳に追加
(A)特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性ポリマー、(B)酸の作用により(A)のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(D)特定の4級アンモニウム塩、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
(2) With regard to the case where a judgment affirming a claim pertaining to an action for the invalidation of a reduction of the unit amount of the contribution of a cooperative has become final and binding, the provisions of Article 937, paragraph (1) (limited to the portions pertaining to item (i), (d)) of the Companies Act shall apply mutatis mutandis. In this case, any necessary technical replacement of terms shall be specified by a Cabinet Order. 例文帳に追加
2 組合の出資一口の金額の減少の無効の訴えに係る請求を認容する判決が確定した場合については、会社法第九百三十七条第一項(第一号ニに係る部分に限る。)の規定を準用する。この場合において、必要な技術的読替えは、政令で定める。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
The positive type photoresist composition contains (A) an Si- containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (C) an ammonium salt which is not degraded by irradiation with energy beams for exposure and (D) a solvent.例文帳に追加
(A)珪素原子を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)露光用のエネルギー線の照射により分解しないアンモニウム塩、及び(D)溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
The negative type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, (B) a resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, (C) a crosslinker which causes crosslinking with the resin (B) under the action of the acid and (D) a compound which increases the electron transportability.例文帳に追加
(A)電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物、(B)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(C)酸の作用により樹脂(B)と架橋を生じる架橋剤、及び(D)電子輸送度を増大させる化合物を含有する電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
A permanent magnet 41 is magnetized in forward and backward direction, and arranged with a prescribed distance d on one magnetic pole side between both poles of a yoke 31, by the above, a single stable type action is realized by sharing the components of the latching type polar electromagnetic relay, without having to newly add a biasing force part such as a spring.例文帳に追加
永久磁石41が前後方向に磁化され、継鉄31の両磁極間において一方の磁極側に所定の距離dだけずらせて配置されることにより、ラッチング型有極電磁リレーの構成部品を共用して、新たなばね等の付勢力部品を追加することなく、シングルステイブル型の動作が実現する。 - 特許庁
The storage section writing/reading section 91 reads identification ID, the work process discrimination section 92 discriminates a work process to be implemented from the identification ID and the work setting section 93 permits or prohibit the implementation of each action in accordance with a work process to be implemented on the basis of work process-specific setting data D.例文帳に追加
記憶部書込読出部91が識別IDを読出し、作業工程判別部92が、識別IDから実施する作業工程を判別し、作業設定部93が、作業工程別設定データDに基づいて、実施する作業工程に対応して、各作業動作を実施許可又は実施禁止に設定する。 - 特許庁
The positive resist composition comprises (A) a resin of which the solubility in an alkali developer increases under the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (C) a resin having a specific structure and (D) a solvent.例文帳に追加
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)特定構造を有する樹脂および(D)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
The positive type silicon-containing photosensitive composition contains (a) a polysiloxane or polysilsesquioxane having a group decomposable by a carboxylic acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid, (b) a compound which generates the carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.例文帳に追加
(a)酸により分解しうる基を有し、かつアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン、(b)活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、(d)溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。 - 特許庁
The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble and becomes alkali- soluble under the action of an acid and (D) a chain compound having three or more hydroxyl groups or substituted hydroxyl groups.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(D)少なくとも3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有する鎖状化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The resist composition contains: base material component (A) caused to change in solubility to an alkali developing liquid by the action of acid; an acid generator component (B) caused to generate acid by exposure; and a nitrogen-containing organic compound (D).例文帳に追加
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、含窒素有機化合物成分(D)とを含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物成分(D)は、下記一般式(d1)で表される化合物を特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁
D. Whether the Financial Instruments Business Operator has developed a control environment wherein, even during a period when proceedings for dealing with a complaint, etc. are pending at an external organization, the business operator takes appropriate action where necessary with respect to the customer who is the other party to the said proceedings (such as ordinarily providing the customer with general materials or explanations). 例文帳に追加
ニ.外部機関等において、苦情等対処に関する手続が係属している間にあっても、当該手続の他方当事者である顧客に対し、必要に応じ、適切な対応(一般的な資料の提供や説明など顧客に対して通常に行う対応等)を行う態勢を整備しているか。 - 金融庁
The photosensitive resin composition comprises a compound (A) having at least two epoxy groups in one molecule, a compound (B) having at least two phenolic hydroxyl groups, a photobase generator (C) and a base breeder (D) which is decomposed by the action of a base to generate a base derived from a urethane bond.例文帳に追加
一分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物(A)と少なくとも2個のフェノール性水酸基を有する化合物(B)と光塩基発生剤(C)と塩基の作用により分解してウレタン結合由来の塩基を発生する塩基増殖剤(D)とからなる感光性樹脂組成物で解決される。 - 特許庁
The positive resist composition comprises (A) a fluororesin which has a specified repeating unit and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (C) a solvent and (D) a compound having at least one carboxyl group.例文帳に追加
(A)特定の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素含有樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)溶剤、及び(D)少なくともひとつのカルボキシル基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The surfactant content of a chemical amplification type positive resist composition containing (A) a compound which generates an acid when irradiated with radiation, (B) resin having alkali solubility increased by the action of the acid and, optionally, (C) a tertiary aliphatic amine and/or (D) an organic carboxylic acid, is adjusted to ≤50 ppm.例文帳に追加
(A)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂及び所望に応じ(C)第三級脂肪族アミン又は(D)有機カルボン酸あるいは(C)及び(D)の両方を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、界面活性剤の含有量を50ppm以下に調整する。 - 特許庁
A sinker main body A is vertically moved through a fishing line B by a turning up action so that an upper fishing line side part 2 having a heavier weight balance around the fish-luring part 1 as a center is shaken downward, simultaneously a lower fishhook side part 3 having a lower weight balance is shaken upward and a point D1 of the fishhook D approaches the fish-luring part 1 with the shakes.例文帳に追加
シャクリ動作で道糸Bを介して錘本体Aが上下動することにより、集魚部1を中心として重量バランスの重い上方の道糸側部2が下方へ揺動すると同時に、重量バランスの軽い下方の針側部3が上方へ揺動し、これらの揺動に伴って釣り針Dの針先D1が集魚部1に接近する。 - 特許庁
The positive type radiation sensitive resin composition contains at least (a) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution, (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (c) an organic carboxylic acid compound, (d) a basic compound and (e) a solvent.例文帳に追加
(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、(b)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(c)有機カルボン酸化合物、(d)塩基性化合物、及び(e)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, (C) a basic compound of formula (I) and (D) an organic solvent.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)下記一般式(I)で表される塩基性化合物、及び(D)有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁
In this soil improvement method employing a combination of vacuum consolidation and the fill, negative pressure for the vacuum consolidation acts in such a manner as to be expanded in a phased manner to the outside from a central section of a soil improvement target area D; and the construction of the fill M is started in accordance with the start of the action of the negative pressure, so as to increase the loading of the fill.例文帳に追加
この地盤改良工法は、真空圧密と盛土との組み合わせによる地盤改良工法であって、真空圧密のための負圧を地盤改良対象域Dの中心部分から外側に段階的に拡げるようにして作用させ、その負圧の作用の開始に合わせて盛土Mの施工を開始し、盛土載荷を増加させる。 - 特許庁
The positive type photosensitive composition contains (A) a specified acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (C) a specified basic compound and (D) a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)特定の塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁
A photosensitive composition contains (A) hollow or porous particles, (B) an alkali soluble particle dispersant having a group capable of chemically binding to the particles (A), (C) a compound which generates an active species upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (D) a binder of which solubility in an alkali developer is reduced by an action of the active species.例文帳に追加
(A)中空又は多孔質粒子、(B)前記粒子(A)に化学的に結合可能な基を有するアルカリ可溶性粒子分散剤、(C)活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び(D)前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーを含有する感光性組成物。 - 特許庁
The ink is used in the inkjet recording method by which an image is recorded on a recording medium by jetting ink drops from the recording head by the action of thermal energy, and contains (a) a pigment, (b) a dispersant, (c) a liquid medium, (d) a polyglycerin and (e) at least one kind selected from among a potassium carboxylate, a rubidium carboxylate and a cesium carboxylate.例文帳に追加
熱エネルギーの作用により記録ヘッドからインク滴を吐出させ、記録媒体上に画像を記録するインクジェット記録方法に用いるインクであって、(a)顔料、(b)分散剤、(c)液媒体、(d)ポリグリセリン及び(e)カルボン酸のカリウム塩、カルボン酸のルビジウム塩及びカルボン酸のセシウム塩から選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とするインク。 - 特許庁
The positive photosensitive composition contains (A) a specified acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (C) a specified basic compound and (D) a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)特定の塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁
The resist composition contains: base material component (A) caused to change in solubility to an alkali developing liquid by the action of acid; an acid generator component (B) caused to generate acid by exposure; and a nitrogen-containing organic compound (D).例文帳に追加
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、含窒素有機化合物成分(D)とを含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物成分(D)は、下記一般式(d1)で表される化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁
After the first explosion, for example the target main current of the motor 3 is set, and the drive duty ratio D is set so that the target main current can be obtained, thereby an action point having large starter output constantly can be used from the engine start to the complete explosion, thus quickly starting the engine using the starter efficiently.例文帳に追加
初爆後は、例えば、モータ3の目標メイン電流を設定しておき、その目標メイン電流が得られる様に、駆動duty比Dを設定するので、エンジンの始動開始から完爆に至るまでの間、常にスタータ出力の大きな動作点を使用することが可能であり、効率的にスタータを使用してエンジン始動をより短時間で行うことができる。 - 特許庁
This liquid sealing resin composition has (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups, (B) a compound having fluxing action, at least two phenolic hydroxy groups in a molecule and at least one carboxy groups in a molecule, (C) a curing accelerator, (D) a silicone-modified liquid epoxy resin having a disiloxane structure and (E) an inorganic filler.例文帳に追加
(A)2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂,(B)フラックス作用を有し、1分子あたり少なくとも2個以上のフェノール性水酸基と1分子当たり少なくとも1個以上のカルボン酸基を有する化合物、(C)硬化促進剤、(D)ジシロキサン構造を有するシリコーン変性液状エポキシ樹脂、及び(E)無機フィラーを有する液状封止樹脂組成物である。 - 特許庁
(a) If an applicant fails to prosecute his application within the required time as provided in these Regulations, the application shall be deemed withdrawn. (b) The time for reply may be extended only for good and sufficient cause, and for a reasonable time specified. Any request for such extension must be filed on or before the day on which action by the applicant is due. The Examiner may grant a maximum of two extensions, provided that the aggregate period granted inclusive of the initial period allowed to file the response, shall not exceed six months from mailing date of the official action requiring such response. (c) Prosecution of an application to save it from withdrawal must include such complete and proper action as the condition of the case may require. Any amendment not responsive to the last official action shall not operate to save the application from being deemed withdrawn. (d) When action by the applicant is a bona fide attempt to advance the case to final action, and is substantially a complete response to the Examiner’s action, but consideration of some matter or compliance with some requirements has been inadvertently omitted, opportunity to explain and supply the omission may be given before the question of withdrawal is considered. (e) Prompt ratification or filing of a correctly signed copy may be accepted in case of an unsigned or improperly signed paper.例文帳に追加
(a)出願人が本規則に規定する期間内に出願を遂行しなかった場合は,当該出願は,取り下げられたものとみなされる。 (b)応答期間は,適切かつ十分な理由がある場合に限り,かつ,指定された合理的な期間にわたり,延長することができる。当該延長の請求は,出願人による応答の期限が到来する日以前にしなければならない。審査官は,最大2回まで延長を認めることができるが,ただし,応答書を提出するために認められた当初期間を含む合計期間は,当該応答を求める庁の処分書の郵送日から6月を超えないものとする。 (c)出願が取り下げられたとみなされないようにするための出願の遂行には,当該事案の事情から必要とされる完全かつ適切な行為を含むものとする。庁による最終処分に応答していない補正は,当該出願を取り下げたとみなされることを防ぐことができない。 (d)出願人による行為が,事案を最終処分に進めるための善意の試みであり,審査官の処分に対する実質的には完全な応答であるにも拘らず,ある事項の検討又はある要件の遵守を不注意により怠っている場合は,取下の問題を検討する前に,当該不作為を説明し,埋め合わせる機会を与えることができる。 (e)署名が脱落した又は署名が不適切な文書の場合においては,正しく署名された写しの速やかな追認又は提出が認められる。 - 特許庁
A resist composition contains: (A) a resin which has a particular structural unit, and which is insoluble or hardly soluble in an alkali aqueous solution and becomes soluble in an alkali aqueous solution by an action of an acid; (B) an acid generator; (D) a solvent; and (E) a compound expressed by the formula (a).例文帳に追加
以下の(A)、(B)、(D)及び(E)を含むレジスト組成物の提供(A)特定の構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂(B)酸発生剤(D)溶剤(E)式(a)で示される化合物[R^3は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基などを示し、R^4は、水素原子、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。 - 特許庁
The negative photosensitive resin composition contains: (a) 100 mass parts alkali water soluble resin; (b) 0.1-20 mass parts compound which generates acid by irradiation of active light; (c) 1-50 mass parts compound which can be crosslinked or polymerized by action of acid; and (d) 1-50 mass parts compound having at least one (meth)acryloyl group in a molecular structure.例文帳に追加
(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂:100質量部、(b)活性光線の照射により酸を発生する化合物:0.1〜20質量部、(c)酸の作用により架橋又は重合し得る化合物:1〜50質量部、及び(d)分子構造中に少なくとも1つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物:1〜50質量部、を含有する、ネガ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁
意味 | 例文 (164件) |
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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