「Deposition Rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A high purity source material having an impurity index low enough to reduce spitting during the vapor deposition process and increase evaporation rate is provided.例文帳に追加

本発明の方法は蒸着プロセス中の吐出を減少し蒸発速度を増大させるに十分に低い不純物指数を有する高純度源材料を提供する。 - 特許庁

The deposition rate of the Cu film 107 on the surface of the metal layer 105 is greater than that of the Cu film 107 on the surface of the metal nitride layer 106.例文帳に追加

金属層１０５の表面におけるＣｕ膜１０７の成膜速度は、金属窒化層１０６の表面におけるＣｕ膜１０７の成膜速度よりも大きい。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus and a semiconductor manufacturing method reducing the rejection rate of process gas without reducing the property of a membrane in a film deposition step.例文帳に追加

成膜工程において、膜質を低下させることなく、プロセスガスの廃棄率を低減させることが可能な半導体製造装置及び半導体製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering system which can secure a satisfactory film deposition rate in a reactive sputtering system where sputtering particles are fed from the oblique direction of a substrate.例文帳に追加

基板の斜め方向からスパッタリング粒子が供給される反応性のスパッタリング装置において、良好な成膜レートを確保できるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for depositing a silicon nitride layer and an amorphous silicon layer on a thin film transistor substrate in a sufficient rate of deposition and for maintaining a high level quality of the film.例文帳に追加

薄膜トランジスタ基板上へ窒化珪素層及びアモルファスシリコン層を充分な堆積速度で堆積し、なお膜の品質を非常に高く維持する方法を提供する。 - 特許庁

An upper layer BPSG film 120 whose B density is lower than that of the lower layer BPSG film 140 is formed at a second deposition rate v2 on the lower layer BPSG film 140.例文帳に追加

下層ＢＰＳＧ膜１４０の上に、Ｂ濃度が下層ＢＰＳＧ膜１４０より低い低濃度の上層ＢＰＳＧ膜１２０を第２の成膜速度ｖ２で形成する。 - 特許庁

To provide the manufacture of an air flow rate control device and molding die thereof which prevent the deposition of a throttle body and a throttle valve and promote their separation.例文帳に追加

スロットルボディおよびスロットルバルブの溶着を防止し、離脱を促進させることが可能な空気流量制御装置の製造方法およびその成形金型を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma CVD device of a structure wherein the system is simple in constitution and a film of a uniform thickness can be easily formed on a large substrate at a rapid film deposition rate, and a film-forming method.例文帳に追加

簡単な構成にて、厚さが均一な膜を速い成膜速度で大きな基板に容易に形成できるプラズマＣＶＤ装置及び膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface-treated metallic material having excellent magnetic properties by an economical production method at a high film deposition rate without requiring special high temperature.例文帳に追加

本発明は、特別な高温を必要とせず、かつ成膜速度の速い経済的な製造方法により、磁気特性に優れた表面処理金属材を提供する。 - 特許庁

To obtain a chemical phase deposition apparatus which can improve a uniformity of film thickness or composition rate in a plane of a substrate and can suppress production of contamination within a reaction chamber.例文帳に追加

膜厚や組成比等の基板面内の均一性が向上するとともに、反応室内の異物発生が低減される化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

A liquid flow meter 34 measuring flow rate of liquid source for deposition and a vapor controller 35 vaporizing instantaneously liquid source are fixed to the pipe 33 for supplying source.例文帳に追加

このソース供給配管３３に、成膜用の液体ソースの流量を計測する液体流量計３４と、液体ソースを瞬時にガス化するベーパコントローラ３５とを設ける。 - 特許庁

To provide a method for preparing a noble metal thin film, which has a fast deposition rate, can use cheap raw materials and does not leave impurities on the thin film.例文帳に追加

成膜速度が速く、安価な原料を用いることができ、薄膜に不純物が残留しない貴金属薄膜の作製方法及びその作製装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film forming device with which the working rate of a film forming line is increased and the productivity is improved by preventing the deposition of a film on the wall face, or the like, of an exhausting passage.例文帳に追加

排気通路の壁面等に膜が付着するのを防止して、成膜ラインの稼働率を高めて、生産性の向上を図れる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation source having a contamination barrier for reducing a deposition rate of ions, atoms, molecules, granular debris and the like on a collector mirror of an EUV radiation source.例文帳に追加

ＥＵＶ放射源の集光ミラー上へのイオン、原子、分子及び粒状デブリなどの堆積率を減少させるための汚染バリアを有する放射源を提供する。 - 特許庁

To provide a film forming device capable of making constant a deposition rate of a polyimide film formed by thermal polymerization of aromatic acid dianhydride and aromatic diamine.例文帳に追加

芳香族酸二無水物と芳香族ジアミンとの熱重合反応により成膜されるポリイミド膜の成膜速度を一定にすることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To attain a stabilized film deposition rate and a high throughput by preventing a fluoride layer of fluorine based gas component used at the time of cleaning from being formed on the surface of an electrode.例文帳に追加

クリーニング時に使用する弗素系ガスの成分からなる弗化層が電極表面に形成されるのを防いで、安定した成膜速度と高いスループットを得る。 - 特許庁

A lower layer BPSG film 140 whose B density is high is formed at a first deposition rate v1 on the semiconductor substrate 110 including the polycide gate electrode 230.例文帳に追加

ポリサイド・ゲート電極２３０を含む半導体基板１１０上に、Ｂ濃度が高濃度の下層ＢＰＳＧ膜１４０を第１の成膜速度ｖ１で形成する。 - 特許庁

To provide a thin film growing method by which a thin film having sufficient adhesion with a substrate can more swiftly be produced at an increased film deposition rate and to provide a system therefor.例文帳に追加

基板との間に十分な密着力を持った薄膜を、成膜速度を上げて、より迅速に作製できるようにした薄膜成長方法及び装置を提供する。 - 特許庁

Further, since the Cu film can be deposited at a low temperature and at a practical film deposition rate in this way, the flocculation of Cu is hardly caused to obtain the Cu film which has satisfactory surface properties.例文帳に追加

また、このように低温でかつ実用的な成膜レートでＣｕ膜を成膜できるため、Ｃｕの凝集が生じ難く、表面性状が良好なＣｕ膜となる。 - 特許庁

To provide sputtering system and method which can form a thin film with good coverage even in a through-hole having a high aspect ratio without reducing the deposition rate.例文帳に追加

高アスペクト比の貫通穴であっても、貫通穴内部に薄膜をカバレッジ良く形成することができ、かつ成膜レートを低下させないスパッタリング装置及び方法を提供する。 - 特許庁

In the metal vapor deposition film manufacturing method, when conductive metal is continuously vapor-deposited on a base film with a predetermined wetting tension, at least a part of a margin formed on a metal vapor deposition film is formed by a print roll with a margin pattern engraved thereon, and the conductive metal is vapor-deposited at a predetermined vapor deposition rate.例文帳に追加

所定の濡れ張力を有するフィルム基材に導電性金属を連続蒸着する際に、金属蒸着フィルムに形成されたマージンのうち少なくとも一部をマージンパターンが彫刻された印刷ロールによって形成し、かつ、所定の蒸着速度により導電性金属が蒸着されることを特徴とする金属蒸着フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method for thin films capable of increasing the rate of vapor deposition while making film thicknesses more uniform in depositing the thin films on a substrate by evaporation, an organic electroluminescence device, a method for manufacturing the organic electroluminescence device, and electronic apparatus.例文帳に追加

本発明は、基板に薄膜を蒸着させるときに、その膜厚の均一化を図りながら蒸着速度を高めることができる薄膜の蒸着方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法及び電子機器を提供する。 - 特許庁

High oil adsorption performance is obtained in fibers prepared by depositing powder of activated carbon by ≤80% deposition rate by using a binder on each fiber and processing into a mat, felt or cord so that a sufficient space rate can be obtained by entangling the fibers.例文帳に追加

繊維一本一本の表面に粉末活性炭をバインダーで８０％以下の量を付着させ、繊維の絡み合いで充分な空間率を持つようにマット状、フエルト状、紐状に加工された繊維は高い油吸着性能を持つ。 - 特許庁

To provide reduced iron powder for a deoxidizer and a method for manufacturing the powder which has an extremely high oxidation rate, causes no deposition on the wall or the like of a reducing device and is excellent in the productivity and inexpensive.例文帳に追加

酸化速度が非常に高く、しかも還元装置の壁面等への付着がなく、生産性に優れ、かつ廉価な脱酸素剤用還元鉄粉及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide activated carbon which substantially avoids a dendrite formation phenomenon by the reductive deposition of heavy metals, hardly causes problems such as short-circuiting, and shows a good rate of self-discharge retention.例文帳に追加

重金属の還元析出によるデンドライト化現象を生じさせにくく、ショートなどの障害を起こし難く、また、良好な自己放電保持率を示す活性炭を提供する。 - 特許庁

To obtain a thin film having uniform thickness in a substrate-width direction even if the distance between an electrode and a substrate is shortened to increase film deposition rate in a roll-to-roll-type deposited film forming equipment.例文帳に追加

Roll To Roll方式の堆積膜形成装置において、成膜速度を高めるために電極-基板間距離を縮めても、基板幅方向に膜厚が均一な薄膜が得られることにある。 - 特許庁

To provide a method and equipment for evaporating and concentrating waste liquid which can inhibit the deposition of organic components in the waste liquid caused by evaporation and concentration of the waste liquid while setting the evaporation/concentration rate of the waste liquid at a high value.例文帳に追加

廃液の蒸発濃縮倍率を高い値に設定しつつ、廃液の蒸発濃縮に伴って廃液中の有機成分が析出してしまうのを抑制する。 - 特許庁

To provide a method for forming a hard carbon nitride film which makes the hardness of the film higher than the hardness of a DLC (Diamond-like Carbon) film and can make a deposition rate higher.例文帳に追加

膜の硬さをＤＬＣ膜以上の硬度に向上させた上に成膜速度を速くすることが可能な硬質窒化炭素膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the case the particles of a metallic material are generated, the release quantity of the particle from the arc evaporation source is large, thus an inexpensive thin film pigment can be deposited at a high film deposition rate.例文帳に追加

金属材料の粒子を発生させる場合、アーク蒸発源の粒子放出量が多いので、成膜速度が速く、安価な薄膜顔料を形成することができる。 - 特許庁

To provide a CVD method capable of improving productivity as well as improving the deposition rate of a material layer on a substrate, and a CVD system used for its implementation.例文帳に追加

基材に材料層が堆積する速度を向上させるとともに、生産性が向上する化学気相成長方法及びその実施に使用する化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To reduce dilution of first and second reaction gases to avoid reduction in a deposition rate, wherein the dilution may be caused by a separation gas used to suppress mixing of the reaction gases.例文帳に追加

第１及び第２の反応ガスとの混合を抑制するために使用される分離ガスによって、これらの反応ガスが希釈されるのを低減して、成膜速度の低下を抑える。 - 特許庁

To provide a plasma-assisted sputter deposition system which provides the fixed sputtering rate of a target with the lapse of time, and also can make process conditions which are not varied.例文帳に追加

時間の経過に伴なってターゲット部材の一定のスパッタ速度を提供し、かつ変動しないプロセス条件を作ることのできるプラズマ支援スパッタ成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device for treating sewage whose deposition rate of sludge in an anaerobic tank equipped with an anaerobic filter bed is retarded, whose frequency of sampling the sludge is not changed, and in which the size of anaerobic tank is reduced.例文帳に追加

嫌気濾床を備えた嫌気槽内での汚泥の堆積速度を遅くして、汚泥の抜き取り頻度を変えず且つ嫌気槽を小さくした汚水処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for forming a magnetic recording medium film, which allows oxygen to be properly contained in the film without lowering a deposition rate, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

成膜レートを低下させずに、膜中に酸素を良好に含有させることができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method includes controlling the deposition rate of silicon dioxide on a substrate by supplying the high frequency pulse power supply used to generate a TEOS oxide plasma.例文帳に追加

該方法には、ＴＥＯＳ酸化物プラズマを生成するために用いられる高周波パルス電源を供給することにより、基板上の二酸化ケイ素の堆積速度を制御するステップが含まれる。 - 特許庁

To put off a maintenance cycle of a gas supply nozzle to the same degree as other component members in a processing chamber by delaying the deposition rate of a reaction product in the gas supply nozzle.例文帳に追加

ガス供給ノズル内の反応生成物の堆積レートを遅くして、ガス供給ノズルのメンテナンスサイクルを、処理室内の他の構成部材と同程度に延ばすことができるようにする。 - 特許庁

To provide a PCVD (plasma chemical vapor deposition) method by which a microcrystalline silicon can be formed at a low flow rate of hydrogen gas, and to provide a more inexpensive microcrystalline silicon solar cell.例文帳に追加

本発明は、低流量の水素ガスで微結晶シリコンの形成が可能なＰＣＶＤ法を提供し、より廉価な微結晶シリコン太陽電池を提供することを目的とする。 - 特許庁

To increase productive efficiency and also to improve film characteristics by increasing the film deposition rate of a crystalline silicon semiconductor thin film deposited by a low temperature plasma CVD method.例文帳に追加

低温プラズマＣＶＤ法で形成する結晶質シリコン系半導体薄膜の成膜速度を高速化することによって、その生産効率を高めるとともにその膜特性をも改善する。 - 特許庁

This allows an etching rate in cleaning to be relatively small by increasing concentration of a carbon contained even in deposition at a relatively low temperature thereby improving controllability of a film thickness in cleaning.例文帳に追加

これにより、比較的低温で成膜しても含有する炭素濃度を多くさせてクリーニング時のエッチングレートを比較的小さくでき、もってクリーニング時の膜厚の制御性を向上させる。 - 特許庁

Since negative fixed charges are introduced into an SiN film by simply controlling the flow rate ratio of SiH_4 gas and NH_3 gas appropriately during film deposition, a troublesome step is not required additionally.例文帳に追加

ＳｉＮ膜中に負の固定電荷を導入するには、成膜時のＳｉＨ_4ガスとＮＨ_3ガスとの流量比を適切に制御するだけでよいので特に面倒な工程の追加を要しない。 - 特許庁

The crystal growth is accelerated and reduction reaction and deposition rate are raised and manufacturing efficiency is raised by subjecting the surface of the seed crystal within a reaction furnace to the blasting treatment and to etching posttreatment.例文帳に追加

反応炉内の種結晶の表面をブラスティング処理を行い、エッチング後処理を行うことにより結晶生成を早め、還元反応・析出速度を高め製造効率を上げる。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a photoelectric converter in which film deposition rate of a power generation layer can be enhanced while sustaining conversion efficiency of a photoelectric converter being fabricated.例文帳に追加

製造される光電変換装置の変換効率を保ちつつ、発電層の製膜速度を向上させることができる光電変換装置の製造方法を提供すること - 特許庁

To provide a CVD film manufacturing method and a CVD film manufacturing apparatus for depositing a thin film of uniform refractive index and film thickness without degrading the film deposition rate and the yield.例文帳に追加

屈折率及び膜厚の均一な薄膜を、成膜速度及び収率を低下させることなく形成できるＣＶＤ膜の製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

To heighten the film deposition rate of a dielectric material protective film and to enhance manufacturing capacity of a phase change optical disk by optimizing a material which constitutes the dielectric material protective film protecting a phase change recording layer.例文帳に追加

相変化記録層を保護する誘電体保護膜を構成する材料を最適化して、誘電体保護膜の成膜速度を高め、相変化光ディスクの量産性を向上させる。 - 特許庁

A microcrystalline diamond film 2 is deposited on a nondiamond carbon base material 1 consisting of amorphous carbon or graphite at a film deposition rate of 0.5 μm/hr by a chemical vapor phase synthesis.例文帳に追加

アモルファス炭素又はグラファイトからなる非ダイヤモンド炭素基材１上に、化学気相合成によって、成膜速度を０．５μｍ／時として微結晶ダイヤモンド膜２を形成する。 - 特許庁