Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
FILM DEPOSITION METHOD AND PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
成膜方法及び処理装置 - 特許庁
On a slide surface S2 of an outer clutch plate 34b, a diamond- like carbon thin film D is applied by a known method such as a CVD(Chemical Vapor Deposition) method, a PVD(Physical Vapor Deposition) method, and an ion deposition method.例文帳に追加
アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（ChemicalVapor Deposition ）法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Ｄを施す。 - 特許庁
A diamond-like carbon thin film D is applied onto a sliding face S2 of an outer clutch plate 34b by known methods such as a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, a PVD (Physical Vapor Deposition) method and an ion vapor deposition method.例文帳に追加
アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ）法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Ｄを施す。 - 特許庁
A DLC-Si thin film D is applied to a sliding surface S2 of an outer clutch plate 34b by publicly known method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method and Ion Deposition method or the like.例文帳に追加
アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（ChemicalVapor Deposition ）法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりＤＬＣ−Ｓｉ薄膜Ｄを施す。 - 特許庁
To provide a film deposition method and a film deposition apparatus which can search the optimum film deposition condition by a combinatorial film deposition, and can easily perform a depositision on the whole face of a substrate under the optimum film deposition condition.例文帳に追加
コンビナトリアル成膜により最適な成膜条件を探索し且つ該最適成膜条件での基板全面における成膜を容易に行うことを可能にする。 - 特許庁
The movable vapor deposition device is disposed in a vapor deposition system, and the vapor deposition system includes a vapor deposition chamber 202 and an external vacuum system 204 which is circumscribed on the vapor deposition chamber.例文帳に追加
移動式蒸着設備が蒸着システムに配置され、蒸着システムが蒸着チャンバ２０２と蒸着チャンバに外接された外部真空システム２０４とを含む。 - 特許庁
LAMINATED POLYESTER FILM FOR VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
蒸着用積層ポリエステルフィルム - 特許庁
FILM DEPOSITION CONTROL METHOD AND DEVICE例文帳に追加
成膜制御方法及び装置 - 特許庁
CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION APPARATUS FOR WIRE ROD例文帳に追加
線材の連続蒸着装置 - 特許庁
In the case the vapor deposition system is used, a film deposition method not only by a passing film deposition system but also by a fixed film deposition system is available.例文帳に追加
この蒸着装置を用いる場合に通過成膜方式だけでなく固定成膜方式による成膜法が可能である。 - 特許庁
AMORPHOUS CARBON FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
アモルファス炭素膜の成膜方法 - 特許庁
To provide a mask for vapor deposition, capable of forming a fine deposition region and a deposition region where a non-deposition region exists inside.例文帳に追加
微細な蒸着領域や非蒸着領域が内部にある蒸着領域を形成できる蒸着用金属マスクを提供する。 - 特許庁
DEPOSITION METHOD AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
成膜方法および記憶媒体 - 特許庁
MONOMER FOR DEPOSITION POLYMERIZATION POLYIMIDE例文帳に追加
蒸着重合ポリイミド用モノマー - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタ装置及び成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET FOR THIN FILM DEPOSITION例文帳に追加
薄膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁
FILM DEPOSITION APPARATUS AND SOLAR CELL例文帳に追加
成膜装置および太陽電池 - 特許庁
DEPOSITION APPARATUS, DEPOSITION APPARATUS CONTROL APPARATUS, DEPOSITION APPARATUS CONTROL METHOD, DEPOSITION APPARATUS USING METHOD AND OUTLET MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
蒸着装置、蒸着装置の制御装置、蒸着装置の制御方法、蒸着装置の使用方法および吹き出し口の製造方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION PARTICLE DISTRIBUTION MEASURING DEVICE例文帳に追加
成膜粒子分布測定装置 - 特許庁
To provide a vacuum vapor deposition method for performing vapor deposition on a work for vapor deposition without degrading yield of vapor deposition.例文帳に追加
蒸着の歩留まりが低下することなく被蒸着体への蒸着を行なうことができる真空蒸着方法を提供する。 - 特許庁
LAMINATED FILM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
積層膜および成膜方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR THIN FILM VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
半導体薄膜蒸着装置 - 特許庁
To provide a coaxial type vacuum arc vapor deposition source particularly, in a technical field of a vapor deposition source, a vapor deposition system and a vapor deposition method.例文帳に追加
蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法の技術分野に関し、特に、同軸型真空アーク蒸着源に関する。 - 特許庁
LOW PRESSURE DEPOSITION OF ORGANIC THIN FILM例文帳に追加
有機薄膜の低圧蒸着 - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタ装置及び成膜方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION APPARATUS USING THERMAL PLASMA例文帳に追加
熱プラズマを用いた成膜装置 - 特許庁
HEARTH LINER FOR ELECTRON BEAM DEPOSITION例文帳に追加
電子ビーム蒸着用ハースライナー - 特許庁
When film deposition is decided to be abnormal with the 1st film deposition abnormality monitoring reference, the following film deposition is monitored with the 2nd film deposition abnormality monitoring reference.例文帳に追加
第１の成膜異常監視基準で異常と判断された場合、続く成膜を第２の成膜異常監視基準で監視する。 - 特許庁
EVAPORATION SOURCE AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
蒸発源及び蒸着装置 - 特許庁
FILM-DEPOSITION METHOD, FILM-DEPOSITION APPARATUS AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加
成膜方法、成膜装置およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 - 特許庁
ORGANIC VAPOR DEPOSITION SYSTEM, AND ORGANIC VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
有機物気相蒸着装置及び有機物気相の蒸着方法 - 特許庁
PRODUCTION METHOD OF BASE FILM FOR VAPOR DEPOSITION, AND BASE FILM FOR VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
蒸着用ベースフィルムの製造方法及び蒸着用ベースフィルム - 特許庁
WINDING TYPE VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND WINDING TYPE VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
巻取式真空蒸着装置及び巻取式真空蒸着方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING METAL VAPOR DEPOSITION FILM AND METAL VAPOR DEPOSITION FILM例文帳に追加
金属蒸着フィルムの製造方法及び金属蒸着フィルム - 特許庁
deposition amount (g/m^2), with respect to the Sn deposition amount.例文帳に追加
記0.14×Sn付着量（g/m^2）≦ 錫酸化膜量（mC/cm^2）≦ 1.8×Sn付着量（g/m^2）… (1) - 特許庁
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