「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

DEPOSITION METHOD AND APPARATUS BY MICROPLASMA例文帳に追加

マイクロプラズマによる堆積方法及び装置 - 特許庁

SUSCEPTOR AND CHEMICAL VAPOR PHASE DEPOSITION METHOD例文帳に追加

サセプタおよび化学気相成長方法 - 特許庁

POLYPROPYLENE-BASED FILM FOR METAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

金属蒸着用のポリプロピレン系フィルム - 特許庁

LiNbO3 EPITAXIAL FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

ＬｉＮｂＯ３エピタキシャル膜の形成方法 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置及び薄膜製造方法 - 特許庁

THIN FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

薄膜形成方法及びスパッタリング装置 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置及び薄膜形成方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME例文帳に追加

蒸着装置及びその制御方法 - 特許庁

GAS WINDOW AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

ガスウィンドウ及び化学気相成長装置 - 特許庁

GLASSY CARBON CVD FILM DEPOSITION JIG例文帳に追加

ガラス状炭素製ＣＶＤ成膜用治具 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITION OXIDE CERAMICS THIN FILM例文帳に追加

酸化物セラミックス薄膜の製造方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION SYSTEM, VAPOR DEPOSITION METHOD, SUBSTRATE HEATING DEVICE AND SUBSTRATE HEATING METHOD例文帳に追加

気相成長装置、気相成長方法、基板加熱装置、および基板加熱方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

成膜装置および成膜方法ならびに液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

ATOMIC GAS CELL, FILM DEPOSITION SYSTEM, METHOD FOR FORMING ATOMIC GAS, AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

原子状ガスセル、成膜装置、原子状ガスの生成方法、及び成膜方法 - 特許庁

ROTATION EVAPORATOR FOR THIN FILM DEPOSITION AND THIN FILM DEPOSITION APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

薄膜蒸着用の回転蒸着源及びこれを用いる薄膜蒸着装置 - 特許庁

VAPOR-DEPOSITION PAPER AND VAPOR-DEPOSITION FILM DEDICATED TO ELECTROPHOTOGRAPHIC COPYING MACHINE AND PRINTER例文帳に追加

電子写真方式のコピー並びにプリンター専用の蒸着紙及び蒸着フイルム - 特許庁

DRYING DEVICE, FUNCTIONAL FILM DEPOSITION SYSTEM, DRYING METHOD, AND FUNCTIONAL FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

乾燥装置、機能性膜形成システム、乾燥方法および機能性膜形成方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION SOURCE, VACUUM FILM DEPOSITION SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING ORGANIC EL DEVICE AND ORGANIC EL DEVICE例文帳に追加

成膜源、真空成膜装置、有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子 - 特許庁

To increase a film deposition rate by surely increasing a Cu film with respect to a film deposition time.例文帳に追加

成膜時間に対してCu膜を確実に増加させて成膜速度を速くする。 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD BY ROLL TO ROLL VACUUM DEPOSITION SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING THE ROLL例文帳に追加

ロール・ツー・ロール真空成膜装置による成膜方法及びそのロール清掃方法 - 特許庁

VACUUM VAPOR DEPOSITION APPARATUS, TOOL FOR THE VACUUM VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND USING METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

真空蒸着装置、真空蒸着装置用治具およびその使用方法 - 特許庁

VAPORIZER AND VAPOR DEPOSITION SYSTEM OF REACTANT LIQUID FOR CHEMICAL VAPOR FILM DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

化学的蒸着膜工程のための反応液体の気化器および蒸着システム - 特許庁

FORMATION METHOD OF Cu WIRING, DEPOSITION METHOD OF Cu FILM, AND DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

Ｃｕ配線の形成方法およびＣｕ膜の成膜方法、ならびに成膜システム - 特許庁

CVD FILM DEPOSITION SYSTEM AND METHOD OF CLEANING INTERNAL ELECTRODE FOR CVD FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

ＣＶＤ成膜装置及びＣＶＤ成膜装置用内部電極の清掃方法 - 特許庁

DIELECTRIC FILM DEPOSITION METHOD TO OPTICAL FIBER END FACE AND DIELECTRIC FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

光ファイバ端面への誘電体膜成膜方法と誘電体膜成膜装置 - 特許庁

METHOD OF ASSESSING CONTAMINATION IN NON-DEPOSITION PORTION OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE DUE TO DEPOSITION MATERIAL例文帳に追加

半導体基板の非成膜部分への成膜材料による汚染の評価方法 - 特許庁

VACUUM TREATMENT DEVICE, VAPOR DEPOSITION DEVICE, PLASMA CVD DEVICE AND ORGANIC VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

真空処理装置、蒸着装置、プラズマＣＶＤ装置及び有機蒸着方法 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITION OF ALUMINUM OXIDE THIN FILM, AND METHOD FOR DEPOSITION OF ALUMINUM NITRIDE THIN FILM例文帳に追加

酸化アルミニウム薄膜の形成方法及び窒化アルミニウム薄膜の形成方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION SYSTEM, VAPOR DEPOSITION METHOD, ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE AND DISPLAY例文帳に追加

蒸着装置、蒸着方法および有機電界発光素子ならびに表示装置 - 特許庁

FILM DEPOSITION INK, FILM DEPOSITION METHOD, DROPLET DISCHARGE DEVICE, DEVICE WITH FILM, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

成膜用インク、成膜方法、液滴吐出装置、膜付きデバイスおよび電子機器 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS, MASK, PATTERN FILM, PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT, AND SOLAR CELL例文帳に追加

成膜方法と成膜装置、マスク、パターン膜、光電変換素子、及び太陽電池 - 特許庁

VACUUM DEPOSITION METHOD FOR FORMING ALLOY FILM ON SURFACE OF PIECE BY VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

個片の表面に合金被膜を蒸着形成するための真空蒸着方法 - 特許庁

The method for forming the film uses an ion-beam vapor deposition method or a plasma vapor deposition method.例文帳に追加

成膜方法には、イオンビーム蒸着法またはプラズマ蒸着法を用いる。 - 特許庁

Thickness of the alumina deposition layer or the silica deposition layer is preferably 0.1 to 1 μm.例文帳に追加

アルミナ蒸着層又はシリカ蒸着層の厚さは、０．１〜１μｍが好ましい。 - 特許庁

FILM DEPOSITION SOURCE, VACUUM FILM DEPOSITION APPARATUS, ORGANIC EL PANEL MANUFACTURING METHOD, AND ORGANIC EL PANEL例文帳に追加

成膜源、真空成膜装置、有機ＥＬパネルの製造方法、有機ＥＬパネル - 特許庁

VAPOR DEPOSITION METHOD, VAPOR DEPOSITION HEAD, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY PANEL例文帳に追加

蒸着方法、蒸着ヘッド、及び有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造装置 - 特許庁

FILM DEPOSITION SYSTEM FOR BOTH PVD/CVD, AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SYSTEM例文帳に追加

ＰＶＤ・ＣＶＤ両用成膜装置及び当該装置を用いた成膜方法 - 特許庁

A vapor deposition device in which vapor deposition elements such as a target electrode are installed in a chamber (25) for vapor deposition is also used.例文帳に追加

また蒸着用チャンバー（２５）の内部にターゲット電極等の蒸着要素が設けられている蒸着装置も使用する。 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, SUBSTRATE TREATING APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD AND RECORDING MEDIUM WHICH RECORDS PROGRAM FOR EXECUTING THE FILM DEPOSITION METHOD THEREIN例文帳に追加

成膜装置、基板処理装置、成膜方法及びこの成膜方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

To miniaturize a film deposition apparatus, and to enhance the uniformity of film deposition during the oblique deposition of a material on a substrate.例文帳に追加

基板に材料を斜めに成長させるにあたり、装置の小型化を図るとともに成膜の均一性を向上させること。 - 特許庁

To provide a deposition method and a deposition apparatus which can increase the maintenance cycle of the deposition apparatus and improve the throughput.例文帳に追加

本発明は、成膜装置のメンテナンスサイクルを長期化し、スループットの向上が可能な成膜方法と成膜装置を提供する。 - 特許庁

When carrying out the proximity vapor deposition, base material temperature from start of the film deposition and an end of the film deposition is controlled to be 80°C or less.例文帳に追加

近接蒸着を実施する際、成膜開始から成膜終了までの基材温度を８０℃以下に制御する。 - 特許庁

THIN FILM VAPOR DEPOSITION APPARATUS ALLOWING CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION, AND MASK UNIT AND CRUCIBLE UNIT USED FOR THE THIN FILM VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

連続蒸着が可能な薄膜蒸着装置、並びにその薄膜蒸着装置に使われるマスク・ユニット及びクルーシブル・ユニット - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, AND RECORDING MEDIUM WITH RECORDED PROGRAM FOR IMPLEMENTING THE FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

成膜装置、基板処理装置、成膜方法及びこの成膜方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of shortening a time required for process: and to provide a film deposition method using the film deposition apparatus.例文帳に追加

プロセス所要時間を短縮することが可能な成膜装置と、この成膜装置を用いた成膜方法とを提供する。 - 特許庁