Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
DEPOSITION APPARATUS AND CLEANING METHOD OF MASK例文帳に追加
蒸着装置およびマスクのクリーニング方法 - 特許庁
These compositions are useful in the deposition of thin films, such as by atomic layer deposition.例文帳に追加
これらの組成物は、例えば、原子層堆積による薄膜の堆積において有用である。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURNIG MAGNESIUM OXIDE VAPOR DEPOSITION MATERIAL例文帳に追加
酸化マグネシウム蒸着材の製造方法 - 特許庁
MASK VAPOR DEPOSITION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, AND MASK VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
マスク蒸着方法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、およびマスク蒸着装置 - 特許庁
PLASMA GENERATING APPARATUS, DEPOSITION APPARATUS, DEPOSITION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY DEVICE例文帳に追加
プラズマ発生装置及び成膜装置並びに成膜方法及び表示素子の製造方法 - 特許庁
SUBSTRATE MOUNTING METHOD IN FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
成膜装置における基板装着方法 - 特許庁
HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
高密度プラズマ化学気相蒸着装置 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus for depositing a manganese film by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process.例文帳に追加
マンガン膜をCVD法により形成することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁
ii. Controlled nucleation thermochemical deposition method 例文帳に追加
2 核生成制御熱化学的析出法 - 日本法令外国語訳データベースシステム
FILM DEPOSITION MONITOR SUBSTRATE, FILM DEPOSITION MONITORING DEVICE PROVIDED WITH THE SUBSTRATE, AND USING METHOD THEREFOR例文帳に追加
成膜モニター基板、該基板を備えた成膜モニター装置およびそれらの使用方法 - 特許庁
SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND ANTIREFLECTION FILM例文帳に追加
スパッタ成膜方法及び反射防止膜 - 特許庁
VACUUM FILM DEPOSITION APPARATUS, VACUUM FILM DEPOSITION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DEVICE例文帳に追加
真空成膜装置、真空成膜方法および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 - 特許庁
VACUUM FILM DEPOSITION METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE APPARATUS, AND VACUUM FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
真空成膜方法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法および真空成膜装置 - 特許庁
To provide a polyester film for vapor deposition excellent in vapor deposition workability and gas barrier properties.例文帳に追加
蒸着加工性、ガスバリア性に優れた蒸着用ポリエステルフィルムを提供すること。 - 特許庁
SUSCEPTOR FOR VAPOR DEPOSITION, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF EPITAXIAL WAFER例文帳に追加
気相成長用サセプタ及び気相成長装置並びにエピタキシャルウェーハの製造方法 - 特許庁
DEPOSITION METHOD OF SILICON NITRIDE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE DEPOSITION METHOD例文帳に追加
窒化珪素膜の成膜方法及びこの方法を使用する半導体装置の製造方法 - 特許庁
SUSCEPTOR FOR VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT, VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT, AND PRODUCTION PROCESS OF EPITAXIAL WAFER例文帳に追加
気相成長装置用のサセプタ、気相成長装置及びエピタキシャルウェーハの製造方法 - 特許庁
DEPOSITION MASK, DEPOSITION METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL PANEL, AND ORGANIC EL DISPLAY PANEL例文帳に追加
蒸着マスク、蒸着方法、有機ELパネルの製造方法および有機EL表示パネル - 特許庁
IN-SITU SILICON AND TITANIUM NITRIDE DEPOSITION例文帳に追加
シリコン及びチタン窒化物のインサイチュ蒸着 - 特許庁
Thereby, the amount of ions entering in the film deposition chamber 50 is increased and the film deposition rate is enhanced.例文帳に追加
これにより、成膜チャンバ50に入るイオンの量が増加し、成膜レートが向上する。 - 特許庁
TOOL FOR FILM DEPOSITION TREATMENT, PLASMA CVD SYSTEM, METAL PLATE, AND OSMIUM FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
成膜処理用治具、プラズマCVD装置、金属プレート及びオスミウム膜の成膜方法 - 特許庁
It is also possible to control the deposition of calcium carbonate by using electrophoresis during the deposition.例文帳に追加
そのさい電気泳動法を利用して炭酸カルシウムの析出をコントロールすることもできる。 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD OF MIXED FILM OF METAL AND TITANIUM OXIDE AND FILM DEPOSITION APPARATUS OF THE MIXED FILM例文帳に追加
金属とチタン酸化物の混合膜の成膜方法及び同膜の成膜装置 - 特許庁
the deposition of one geological stratum on another 例文帳に追加
1つの地層が他の地層に堆積すること - 日本語WordNet
PULVERIZED OBJECT DEPOSITION PREVENTING APPARATUS OF VERTICAL MILL例文帳に追加
竪型ミルの粉砕物堆積防止装置 - 特許庁
DYEING METHOD AND DYE VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
染色方法、及び染料蒸着装置 - 特許庁
To provide a deposition device capable of speeding up the deposition rate without lowering a coverage.例文帳に追加
カバレッジを低下させずに成膜速度を速くすることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁
DEFLECTING MAGNETIC FIELD-TYPE VACUUM ARC DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
偏向磁場型真空アーク蒸着装置 - 特許庁
VACUUM DEPOSITION METHOD AND OPTICAL MATERIAL例文帳に追加
真空蒸着方法および光学材料 - 特許庁
The bonding coat may be deposited on the insulating layer by a chemical vapor deposition process and an electrophoretic deposition process prior to the deposition of the barrier layer.例文帳に追加
バリヤ層を堆積する前に、化学蒸着法および電気泳動堆積法でボンディングコートを絶縁層に堆積させてもよい。 - 特許庁
To provide an apparatus capable of efficiently depositing a film without necessitating frequent maintenance of a film deposition chamber, in vacuum film deposition by an ALD (atomic layer deposition) method.例文帳に追加
ALD法による真空成膜において、成膜室の頻繁なメンテナンスが不要で効率良く成膜しうる装置を提供する。 - 特許庁
DEPOSITION SIMULATION METHOD, RECORDING MEDIUM RECORDED WITH DEPOSITION SIMULATION METHOD, AND SIMULATION DEVICE LOADED WITH DEPOSITION SIMULATION METHOD例文帳に追加
堆積シミュレーション方法および堆積シミュレーション方法を記録した記録媒体および堆積シミュレーション方法を搭載したシミュレーション装置 - 特許庁
To provide an inexpensive vapor deposition source cell capable of setting an extensive vapor deposition rate and obtaining an stable vapor deposition rate.例文帳に追加
広範囲な蒸着レートの設定が可能で、安定した蒸着レートを得ることが可能な安価な蒸着源セルを提供する。 - 特許庁
To provide a mask for film deposition capable of allowing a vapor deposition to be performed accurately on a desired position while suppressing positional displacement of vapor deposition pattern.例文帳に追加
蒸着パターンの位置ずれを抑え所望の位置に精度よく蒸着を行うことができる成膜用マスクを提供する。 - 特許庁
To provide a deposition system which has a deposition chamber and an evaporator connected to the chamber for performing chemical vapor deposition.例文帳に追加
堆積チャンバ及び上記チャンバに結合されている蒸発器を備え、化学蒸着を遂行するための堆積システムを提供する。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus having simple constitution capable of suppressing deposition of any film deposition residue in a space between an electrode bar and a vacuum chamber.例文帳に追加
簡単な構成で電極棒と真空チャンバーとの隙間に成膜残滓がたまることを抑制できる成膜装置を提供する。 - 特許庁
In the vapor deposition source system 6, a crucible 4 charged with a vapor deposition material 3 is heated by a heater 5, so as to evaporate the vapor deposition material 3.例文帳に追加
蒸着源装置6は、蒸着材料3が入れられたルツボ4をヒーター5で加熱して、蒸着材料3を蒸発させる。 - 特許庁
A vacuum film deposition apparatus 30 comprises a vacuum chamber 2, a film deposition rotating body 10, and film deposition units 21 and 22.例文帳に追加
真空成膜装置30を、真空チャンバ2と成膜回転体10と成膜処理ユニット21及び22とを備える構成とする。 - 特許庁
To provide a vacuum vapor deposition capable of correctly measuring the remaining amount of a vapor deposition material to be actually used for film deposition.例文帳に追加
実際に成膜に使える蒸着材料の残量を正確に測定することができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
To provide a film deposition system and a film deposition method by which a film deposition rate can be increased while realizing a satisfactory film quality.例文帳に追加
良好な膜質を実現しつつ成膜速度の向上を図ることが可能な成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁
※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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