「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

VAPOR DEPOSITION DEVICE, METHOD FOR RECOVERING AND REUSING VAPOR DEPOSITION MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE例文帳に追加

蒸着装置および蒸着材料の回収・再利用方法並びに有機電界発光装置の製造方法。 - 特許庁

PARTICULATE MATTER DEPOSITION AMOUNT ESTIMATION DEVICE, EXHAUST GAS PURIFICATION SYSTEM, AND PARTICULATE MATTER DEPOSITION AMOUNT ESTIMATION METHOD例文帳に追加

粒子状物質堆積量推定装置、排気ガス浄化システム、および粒子状物質堆積量推定方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION MATERIAL, HEARTH FOR VAPOR DEPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING DIELECTRIC MULTILAYERED FILTER, AND DIELECTRIC MULTILAYERED FILTER例文帳に追加

蒸着材料、蒸着用ハース、誘電体多層膜フィルタの製造方法及び誘電体多層膜フィルタ - 特許庁

The platinum oxide is prepared by using a physical vapor deposition (PVD) and a chemical vapor deposition (CVD).例文帳に追加

この白金酸化物は、物理気相成長（ＰＶＤ）法や化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いて作成する。 - 特許庁

Like this, the light is irradiated outside while the reflection is repeated between the deposition face 5a and the half-deposition face 5b.例文帳に追加

このように蒸着面５ａと半蒸着面５ｂでの反射を繰り返しながら外部に光を放射する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus capable of continuously forming a deposition film by a process high in the availability of materials and excellent in productivity.例文帳に追加

材料の利用効率が高く、生産性に優れたプロセスで、蒸着膜を連続的に形成する。 - 特許庁

To make the film thickness distribution uniform when the vapor deposition of a vapor deposition substance is performed onto a plurality of works to be deposited.例文帳に追加

複数の被成膜体に蒸着物質の蒸着を行うときに、膜厚分布の均一化を図る。 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC RECORDING DEVICE例文帳に追加

成膜装置及び成膜方法並びに磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録装置の製造方法 - 特許庁

SILICON OXIDE SINTERED COMPACT FOR FILM VAPOR DEPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING SILICON OXIDE VAPOR DEPOSITION FILM例文帳に追加

フィルム蒸着用酸化珪素焼結体、その製造方法、及び酸化珪素蒸着フィルムの製造方法 - 特許庁

To provide a film deposition system which can deposit a film having uniform film quality, and to provide a film deposition method.例文帳に追加

均一な膜質を有する膜を成膜することが可能な成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

A porous film 4 and a subtank 2 are bonded by depositing a first thermal deposition part 31a in first time thermal deposition.例文帳に追加

１回目の溶着で第１溶着部３１ａを溶着して多孔質膜４とサブタンク２を接合する。 - 特許庁

To provide a thin film vapor deposition apparatus, and to provide a method for manufacturing an organic emission display by using the thin film vapor deposition apparatus.例文帳に追加

薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING VAPOR DEPOSITION COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL COMPONENT HAVING VAPOR DEPOSITION COMPOSITION AND REFLECTION PREVENTIVE FILM例文帳に追加

蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法 - 特許庁

Moreover, the vapor deposition can be easily performed by setting the screen mask 10 for vapor deposition on the substrate.例文帳に追加

また、蒸着は、蒸着用スクリーンマスク１０を基板に設置することで行うことができ、簡易的である。 - 特許庁

To suppress temperature elevation in a substrate for vapor deposition when depositing a solder layer on an electrode by vacuum vapor deposition.例文帳に追加

電極上にはんだ層を真空蒸着により形成する際、被蒸着物の昇温を抑制する。 - 特許庁

THIN FILM DEPOSITION METHOD BY CATALYST SPUTTERING AND THIN FILM DEPOSITION SYSTEM AS WELL AS METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

触媒スパッタリングによる薄膜形成方法及び薄膜形成装置並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

The covering sheet 2 is formed of a vapor deposition film prepared by forming a metal vapor deposition layer 6 on the surface of a base film 5.例文帳に追加

被覆シート２は、ベースフィルム５の表面に金属蒸着層６を形成した蒸着フィルムで形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system capable of enhancing the reproducibility and the productivity, and easily adjusting the quantity of vapor deposition.例文帳に追加

再現性や生産性を向上させ、蒸着量の調節が容易な蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

WIRE ARRANGING METHOD, CATALYST CHEMICAL VAPOR PHASE DEPOSITION METHOD USING THE SAME, AND CATALYTIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

線材配置方法およびそれを用いた触媒化学気相堆積法ならびに触媒化学気相堆積装置 - 特許庁

To provide a film deposition system where a vapor deposition material can be film-deposited into a uniform film thickness.例文帳に追加

この発明は、蒸着材の膜厚を均一に成膜できる成膜装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

A deposition preventing film 111 is formed on the inner wall of the deposition chamber 102 comprising organic resin.例文帳に追加

また、有機樹脂から構成されて成膜室１０２の内壁に形成された堆積阻止膜１１１を備える。 - 特許庁

When the current integration value of the target after the start of deposition of the film becomes a prescribed value, the deposition of the film is finished.例文帳に追加

そして、成膜開始からのターゲット電流積算値が所定値となったならば成膜を終了する。 - 特許庁

FORMATION OF THIN FILM BY LASER VAPOR DEPOSITION AND LASER VAPOR DEPOSITION DEVICE USED IN THIS FORMATION OF THIN FILM例文帳に追加

レーザ蒸着法による薄膜形成方法、及び、この薄膜形成方法で使用されるレーザ蒸着装置 - 特許庁

DEPOSITION METHOD OF GRADING PRXCA1-XMNO3 THIN FILMS BY METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

有機金属化学的気相成長法によるグレーディングＰｒｘＣａ１−ｘＭｎＯ３薄膜の堆積方法 - 特許庁

ORGANIC EL DEVICE PRODUCTION DEVICE, FILM DEPOSITION SYSTEM, ORGANIC EL DEVICE PRODUCTION METHOD, AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置並びに有機ＥＬデバイス製造方法及び成膜方法 - 特許庁

The film thickness of the vapor deposition electrode of the connection part 5 is made thicker than the film thickness of the vapor deposition electrode of the effective electrode.例文帳に追加

接続部５の蒸着電極膜厚は、有効電極部の蒸着電極膜厚よりも厚くする。 - 特許庁

The nanoparticle dispersed liquid crystal is extremely simply produced by physical vapor deposition such as sputtering vapor deposition, etc.例文帳に追加

ナノ粒子分散液晶は、スパッタ蒸着等の物理蒸着によって極めて簡便に製造することができる。 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING ABNORMALITY IN INJECTION VALVE OF FILM DEPOSITION APPARATUS AND VAPORIZER, AND FILM DEPOSITION APPARATUS AND VAPORIZER例文帳に追加

成膜装置の噴射弁異常判断方法、気化器の噴射弁異常判断方法、成膜装置及び気化器 - 特許庁

PASSIVATION METHOD FOR IMPROVING UNIFORMITY AND REPRODUCIBILITY OF ATOMIC LAYER DEPOSITION AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

原子層堆積法および化学気相成長法の均一性および再現性を向上するパッシベーション方法 - 特許庁

The process of deposition-in situ treatment-deposition-in situ treatment is performed to form dielectric layers in the gap.例文帳に追加

堆積−インサイチュ処理−堆積−インサイチュ処理というプロセスを実行して、間隙に誘電層を形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method in which a high precision patterning is possible by a proximity vapor deposition method using a laser.例文帳に追加

レーザーを用いる近接蒸着法による、高精細なパターニングが可能な蒸着方法を提供すること。 - 特許庁

The amorphous Al_2O_3 film can be deposited using a chemical vapor deposition, atomic layer deposition or sputtering process.例文帳に追加

上記アモルファスＡｌ_２Ｏ_３膜は、化学気相堆積法、原子層堆積法又はスパッタ法を用いて、堆積される。 - 特許庁

THIN FILM DEPOSITION SYSTEM, THIN FILM DEPOSITION METHOD, ELECTRO-OPTIC APPARATUS MANUFACTURING METHOD, ELECTRO-OPTIC APPARATUS, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

薄膜形成装置、薄膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for substrate treatment, which can improve vapor deposition uniformity and deposition rate.例文帳に追加

蒸着均一度及び蒸着率を向上させることができる基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, the adhesiveness between the vapor deposition mask 1 and the substrate 30 can be improved, and vapor deposition can be performed with a good precision.例文帳に追加

これにより、蒸着マスク１と基板３０との密着度が向上され、精度の良い蒸着ができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a film formed body by vapor deposition, by which an accuracy of a film thickness of a vapor deposition film is improved.例文帳に追加

蒸着膜の膜厚の精度が向上する蒸着膜形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

ROTARY TYPE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS FOR MASS PRODUCTION AND PROCESS FOR FORMING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FILM ON INNER SURFACE OF PLASTIC VESSEL例文帳に追加

ロータリー型量産用ＣＶＤ成膜装置及びプラスチック容器内表面へのＣＶＤ膜成膜方法 - 特許庁

In the sputtering step, the deposition device 11 is cooled so that a deposition material neither evaporates nor sublimes.例文帳に追加

スパッタリング工程では、蒸着材料が蒸発ないし昇華しないように蒸着装置１１を冷却する。 - 特許庁

The first wafer is thereafter moved to a second IBS deposition chamber 304 for the purpose of a metallic layer deposition process.例文帳に追加

第１のウェハはその後、金属層堆積プロセスのために第２のＩＢＳ堆積室３０４に移動される。 - 特許庁

ROTARY TYPE CVD FILM DEPOSITION SYSTEM FOR MASS PRODUCTION AND CVD FILM DEPOSITION METHOD TO INNER SURFACE OF PLASTIC VESSEL例文帳に追加

ロータリー型量産用ＣＶＤ成膜装置及びプラスチック容器内表面へのＣＶＤ膜成膜方法 - 特許庁

To provide a coating vapor deposition system which enables pattern vapor deposition of a thermally unstable/easily changeable material.例文帳に追加

熱的に不安定な／変化しやすい材料のパターン蒸着を可能とする被覆蒸着システムを提供する。 - 特許庁

In the second deposition step, deposition is performed to fill the trench having the opening enlarged in the etching step with a silicon film.例文帳に追加

第２成膜工程では、エッチング工程で開口部が広げられた溝にシリコン膜を埋め込むように成膜する。 - 特許庁

To provide a thin film deposition apparatus capable of performing film deposition by generating stable plasma at high efficiency.例文帳に追加

安定したプラズマを高効率に発生させて成膜を行うことができる薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

As a result, the deposition rate is improved and the efficiency of using the vapor deposition material can be enhanced.例文帳に追加

これにより、蒸着レートが向上するとともに、蒸着材料の利用効率を高めることが可能となる。 - 特許庁

The fluoride film is formed as follows by using the film deposition method by a vacuum vapor deposition method and the cluster beam.例文帳に追加

真空蒸着法による膜形成方法とクラスタビームを用いて、つぎのように弗化物膜を形成する。 - 特許庁