「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

By using a plasma CVD (chemical vapor deposition) system capable of feeding negative bias power to a substrate when the film deposition is performed, film deposition time can be further shortened as well.例文帳に追加

成膜を行う際には基板に負のバイアス電力を供給できるプラズマＣＶＤ装置を用いることにより、成膜時間を更に短くすることもできる。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus for forming a thick film, by vacuum deposition of separately heating several kinds of film-forming materials, in two or more independent deposition.例文帳に追加

複数の成膜材料を個々に独立して加熱する二元以上の真空蒸着によって、厚い蒸着膜を成膜できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam vapor deposition apparatus that improves use efficiency and treatment efficiency of a deposition material while forming a vapor deposition film with uniform thickness.例文帳に追加

蒸着膜を均一な厚みで成膜しつつ、蒸着材料の使用効率および処理効率を向上させることができる電子ビーム蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a crucible which can form a vapor-deposition film having satisfactorily uniform film thickness and few defects due to bumping; a vacuum deposition method; and a vacuum deposition apparatus.例文帳に追加

膜厚均一性が良好で、かつ、突沸に起因する欠陥等の少ない蒸着膜が成膜できるルツボ、真空蒸着方法、および真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition machine capable of forming a uniform vapor flow of a vapor deposition material even in a large substrate, controlling the vapor distribution and unifying the vapor deposition.例文帳に追加

大型基板においても、蒸着材料の蒸気の均一な流れを形成し、蒸気分布を制御して、蒸着を均一化できる真空蒸着機を提供する。 - 特許庁

To provide a spray gun for electrostatic coating which is made small-sized and lightweight, has improved deposition efficiency of a coating material with a compact structure and is capable of keeping the improved deposition efficiency without deteriorating the improved deposition efficiency.例文帳に追加

小型化，軽量化を図り、よりコンパクトな構造にて塗料の塗着効率を向上させ、その向上した塗着効率を低下させることなく維持する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of performing the film deposition on both sides of a substrate, having small installation area, short film deposition process, and capable of preventing any abnormal discharge.例文帳に追加

基板の両面に成膜可能な成膜装置であって、設置面積が小さいと共に成膜工程が短く、しかも異常放電が生じない成膜装置の提供。 - 特許庁

The depositing method can be CVD (chemical vapor deposition), MOCVD (organic metal chemical vapor deposition), ALD (atomic layer deposition), or those similar to this.例文帳に追加

蒸着は化学気相蒸着法ＣＶＤ、有機金属化学気相蒸着法ＭＯＣＶＤ、原子層蒸着法ＡＬＤ、またはこれと類似の蒸着法であり得る。 - 特許庁

The holder for the vapor deposition, which has adopted the structures, can inhibit the holder from deteriorating its flatness due to thermal deformation, and also inhibit the mask for the vapor deposition from changing the projection angle of the mask for the vapor deposition.例文帳に追加

これらの構成を採用することで、熱変形による蒸着用フォルダの平坦性の悪化を抑え、蒸着マスクの投影角の変化を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method suitable for film deposition on an inner peripheral surface of a cylindrical body, and capable of suppressing damages caused by γ electrons.例文帳に追加

筒状体の内周面への成膜に適したものであって、かつγ電子によるダメージを抑制することができる成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition material evaporating device provided with a vapor deposition container having the depth of a predetermined value or more, which is capable of suppressing bumping occurring when heating a vapor deposition material.例文帳に追加

所定以上の深さを有する蒸着容器を備えた蒸着材料蒸発装置において、蒸着材料加熱時に生じる突沸を抑制する。 - 特許庁

To provide a vapor phase deposition apparatus for easily controlling the vapor phase reaction having large influence on the quality of the deposition and also provide a vapor phase deposition method using the same.例文帳に追加

成膜品質に大きく影響する気相反応の制御を簡便に行なうことができる気相成長装置および気相成長方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the number of macroparticles sticking on a substrate for film-deposition while maintaining a film deposition rate when a film is deposited by an FCA (Filtered Cathodic Arc) method, with respect to a film deposition apparatus and method.例文帳に追加

成膜装置及び成膜方法に関し、ＦＣＡ法により成膜する際に、成膜レートを維持しつつ、被成膜基板上に付着するマクロパーティクル数を低減する。 - 特許庁

To increase the yield of powder by facilitating increase of film thickness of a deposition film, or deposition to a hard substrate, in a film forming method using aerosol deposition.例文帳に追加

エアロゾルデポジションを用いた成膜方法において、堆積膜の膜厚増加を容易にし、或いは、硬質基板への堆積を容易にして、その粉体歩留まりを高くすること。 - 特許庁

To provide a method and a system for vacuum deposition by which the deposition rate of a vapor deposition material can be controlled with greater follow-up properties than heretofore.例文帳に追加

従来より蒸着物質の蒸着速度を追従性良く制御することができる真空蒸着方法及び真空蒸着装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition method for forming homogeneous films on a plurality of substrates when vapor deposition is simultaneously performed to the plurality of substrates, and to provide a vapor deposition device.例文帳に追加

複数の基板に同時に蒸着するときに、複数の基板に均質な膜を成膜することができる真空蒸着方法及び蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To shorten the distance between a substrate for vapor deposition and outlet holes while keeping the uniformity of vapor deposition and to attain the improvement of vapor deposition ratio and the miniaturization of a chamber.例文帳に追加

被蒸着板への蒸着の均一性を保ちつつ、被蒸着板と放出口との間隔を小さくして、蒸着率の向上およびチャンバの小型化を図る。 - 特許庁

To provide a film deposition method having a high film deposition rate and sufficient coverage properties to a step on a base material, and a low-cost film deposition system with a simple system constitution.例文帳に追加

高い成膜速度と基材上の段差に対して十分なカバレッジ性を有する成膜方法及び装置構成が簡素で低コストな成膜装置を提供する。 - 特許庁

That is, a deposition toner image is formed on the photoreceptor by controlling an electrification bias (toner deposition electrification potential) and a developing bias (toner deposition developing potential).例文帳に追加

すなわち、帯電バイアス（トナー堆積用帯電電位）と現像バイアス（トナー堆積用現像電位）とを制御することで感光体上に堆積用トナー像を形成する。 - 特許庁

The silica deposition layer or the alumina deposition layer is formed by vapor deposition of silica or alumina on a base material that is used for forming the insulator layer.例文帳に追加

シリカ蒸着層又はアルミナ蒸着層は、絶縁体層の形成に用いられる基材上に、シリカもしくはアルミナを蒸着させることにより形成される。 - 特許庁

Thus, the deposition material is selectively heated by using the powder deposition material mainly for instance and the deposition processing is quickly and efficiently performed.例文帳に追加

これにより、例えば主として粉体の成膜材料を用いることによって成膜材料を選択的に加熱し、迅速に且つ効率的に成膜処理を行う。 - 特許庁

To provide a deposition film forming method by a microwave plasma CVD method capable of forming a deposition film at a high speed and capable of reducing unevenness in the film thickness and characteristics of the deposition film.例文帳に追加

高速で堆積膜を形成でき、堆積膜の膜厚や特性のムラを低減できるマイクロ波プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a component for a vacuum deposition system, a target and a backing plate, wherein the a film deposition material stuck during a film deposition stage is stably and effectively prevented from being peeled off.例文帳に追加

真空成膜装置用部品、ターゲットおよびバッキングプレートにおいて、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止する。 - 特許庁

To provide a film deposition method using an AD (Aerosol Deposition) method capable of forming a structure having a uniform film quality by controlling an aerosol speed, and to provide a film deposition apparatus.例文帳に追加

エアロゾル速度を制御することにより、均一な膜質を有する構造物を形成することができるＡＤ法による成膜方法、及び、成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a deposition mask and an inspection device of the deposition mask, capable of detecting highly accurately a foreign substance adhering to the deposition mask.例文帳に追加

蒸着マスクに付着した異物を高精度で検知することが可能な蒸着マスクの検査方法及び蒸着マスクの検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Based on the detected evaporation speed, speed control of the linear movement of each deposition source is individually executed to set the deposition speed of the deposition film to the substrate constant.例文帳に追加

そして検知された蒸発速度に基いて、基板への蒸着膜の堆積速度が一定になるように各蒸着源の直線移動の速度制御を個別に行う。 - 特許庁

To provide a film deposition method which can make foreign matter stuck or precipitated to the surfaces of film materials during film deposition easy to be dropped off, and to provide film materials and a film deposition system.例文帳に追加

成膜中に膜材料の表面に付着または析出した異物を落下し易くできる成膜方法、膜材料、および成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a DLC (Diamond Like Carbon) film deposition method and a DLC film deposition apparatus, capable of reducing the film deposition cost of a DLC by using inexpensive raw material gas.例文帳に追加

安価な原料ガスを用いることにより、ＤＬＣの成膜コストを下げることができるＤＬＣ成膜方法およびＤＬＣ成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrode member which makes stable deposition possible by suppressing the reaction with a material for vapor deposition composed of a zinc oxide as a principal component and a deposition system equipped therewith.例文帳に追加

酸化亜鉛を主成分とする蒸着材料との反応を抑制し、安定した成膜を可能とする電極部材、及びこれを備えた成膜装置を提供する。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION FILM STRONG IN ADHESION HAVING ANTISTATIC CAPACITY例文帳に追加

帯電防止性能を有する強密着蒸着フィルム - 特許庁

WAFER HEATING FILM DEPOSITION DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING WAFER TEMPRATURE例文帳に追加

ウエハ加熱成膜装置、及びウエハ温度制御方法 - 特許庁

METHOD FOR DIMINISHING GAS RELEASED FROM MATERIAL FOR VACUUM DEPOSITION例文帳に追加

真空蒸着用材料の放出ガス低減方法 - 特許庁

OXIDE FILM AND DEPOSITION METHOD AND REPAIR METHOD THEREFOR例文帳に追加

酸化膜並びにその成膜方法および補修方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION SYSTEM AND METHOD BY PLASMA CVD例文帳に追加

プラズマＣＶＤによる堆積膜形成装置および方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置及びこれを用いた成膜方法 - 特許庁

To provide a deposition mask having good workability without damaging a deposition film or other constituent members in attaching and detaching the deposition mask, when the deposition mask is installed on a board in a form adjoining the board while keeping a certain distance in mask deposition.例文帳に追加

マスク蒸着において、蒸着マスクを基板に対して一定の間隔を保持しながら近接させた状態で設置するにあたって、作業性が良好で、蒸着マスクの着脱時に蒸着膜や他の構成部材に損傷を与えないこと等の蒸着マスクを提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

有機発光素子の製造方法及び蒸着装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ORGANIC EL ELEMENT, AND MASK FOR FILM DEPOSITION例文帳に追加

有機ＥＬ素子の製造方法および成膜用マスク - 特許庁

MASKING JIG FOR VACUUM FILM DEPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

真空成膜用マスク治具およびその製造方法 - 特許庁

VACUUM DEPOSITION DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

蒸着装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

VAPORIZER, FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITING METHOD, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

気化装置、成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 - 特許庁

EVAPORATION SOURCE ASSEMBLY AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

蒸発源アセンブリ及びそれを用いた蒸着装置 - 特許庁

COMPOSITE APPARATUS OF HEAT TREATMENT APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

熱処理装置と蒸着処理装置の複合装置 - 特許庁

To provide an inline-type vapor deposition apparatus which can control a film thickness with high accuracy and also requires only few sheets of masks for vapor deposition even when continuously conducting the vapor deposition onto articles each having a different vapor deposition pattern; a vapor deposition method using a mask; and a method for manufacturing an organic-electroluminescence device.例文帳に追加

膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

INORGANIC VAPOR DEPOSITION SOURCE AND METHOD FOR CONTROLLING HEAT SOURCE THEREFOR例文帳に追加

無機蒸着源及びこれの加熱源制御方法 - 特許庁