「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

This lithography device includes: a projection system PS; and a liquid confinement structure for at least partially confining an immersion liquid in an immersion space demarcated by the projection system, a liquid confinement structure 12, and also a substrate and/or a substrate table.例文帳に追加

投影システムと、該投影システム、液体閉じ込め構造、並びに基板及び／又は基板テーブルによって画定された液浸空間に少なくとも部分的に液浸液を閉じ込める液体閉じ込め構造とを含むリソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method appropriate for immersion exposure by eliminating a resist pattern fall and the deterioration of profile, resolution, focal depth and exposure tolerance in the case of pattern formation using the immersion exposure of a resist composition particularly with far-ultraviolet ray light as a light source.例文帳に追加

特に遠紫外線光を光源とした、レジスト組成物の液浸露光によるパターン形成において、レジストパターンの倒れ、プロフィル、解像力、焦点深度、露光余裕度の劣化が無く、液浸露光に好適なレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Solutions are described for adoption of immersion lithography technique into the optical maskless lithography, and in particular, the present invention provides one or more solutions to reduce time when a liquid for liquid immersion exposure is in contact with prescribed part of a top surface of the substrate during imaging.例文帳に追加

マスクレス光リソグラフィに液浸リソグラフィ技術を採用する場合の解決法を説明し、特に、像形成中に液浸露光用の液体が基板上面の所定部分に接触する時間を減少させる１つ以上の解決法を提供する。 - 特許庁

To provide an outlet plug of a cable for vehicle charging, simultaneously satisfying functions of preventing water immersion from a peripheral part of an outlet connection face and preventing water immersion from an insertion detector, regardless of a waterproof mechanism of a complicated structure.例文帳に追加

複雑な構造の防水機構によらず、コンセント接続面の周縁部からの浸水を防止する機能と、差込検出部からの浸水を防止する機能とを、同時に満足した車両充電用ケーブルのコンセントプラグを提供すること。 - 特許庁

To provide an application/developing device for removing particles stuck to a peripheral edge part of a semiconductor wafer (including removal of a water-repellent protection film used for repelling liquid at the time of liquid immersion exposure) with a simple structure after liquid immersion exposure and before development.例文帳に追加

液浸露光後、現像前において、半導体ウエハの周縁部に付着したパーティクルの除去（液浸露光時の液体を弾くために使用された撥水性の保護膜の除去を含む）を簡易な構造で行う塗布、現像装置を提供すること。 - 特許庁

The fluid heat regulation module determines an actuator command for aberration correction of the optical element in the liquid immersion lithography system, based on the one or a plurality of change or changes in the amount of the fluid of a liquid immersion liquid, an exposure dose, and a reticule pattern image.例文帳に追加

流体加熱調整モジュールは、液浸液の流量、露光ドーズ、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数の変化に基づいて、液浸リソグラフィシステム内の光学素子に収差調整を行うためのアクチュエータコマンドを決定する。 - 特許庁

Immersion water 411b is accumulated so as to bury a second guide roller 46 and a third guide roller 47 inside the immersion tub 411 of the tape material washing device 1 and thus a tape material 100 under conveyance is immersed.例文帳に追加

テープ材洗浄装置１の浸漬槽４１１内には、第２のガイドローラー４６と第３のガイドローラー４７とが埋没するように浸漬水４１１ｂが溜められており、これによって搬送中のテープ材１００が浸漬されるように構成されている。 - 特許庁

To provide a protective film material for liquid immersion lithography which allows good liquid immersion lithography, can be removed during development of a photoresist layer at the same time, and has excellent process applicability, and a pattern forming method using such a material.例文帳に追加

良好な液浸リソグラフィーを可能とし、しかもフォトレジスト層の現像時に同時に除することができて、優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用の保護膜材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

As a result, the immersion width of a pair of the inclined energizing sections 82 into the electrolyte L can be increased or decreased and therefore the immersion width D of the electrolytic electrode 22 into the electrolyte L can be regulated according to the width of the aluminum web 12 conveyed into the electrolytic cell 18.例文帳に追加

これにより、一対の傾斜通電部８２の電解液Ｌ中への浸漬幅を増減できるので、電解槽１８内に搬送されるアルミウエブ１２の幅に応じて電解電極２２の電解液Ｌ中への浸漬幅Ｄを調整できる。 - 特許庁

In water immersion, a high voltage is discharged through a discharge circuit (81) produced by water immersion even when the high voltage is generated by igniting motion, thus the ignition of a fuel gas (G) on an injection side and its ignition means side is inhibited, and the ignition of the fuel gas is prevented.例文帳に追加

浸水時、着火動作により高電圧を発生させても、浸水により生成される放電回路（８１）を通して放電させ、燃料ガス（Ｇ）の噴射側、その点火手段側での点火を阻止し、燃料ガスの着火を防止する。 - 特許庁

To provide equipment for packing and storing a last optical element prepared for replacing the projection optical system of immersion exposure apparatus or for protecting a surface touching immersion liquid against contamination at the time of replacement.例文帳に追加

液浸露光装置の投影光学系の交換用として準備される最終光学素子を梱包、保管し、あるいは、交換する際に、液浸液と接触する表面の汚染を防止する最終光学素子の梱包保管装置を提供する。 - 特許庁

To provide a control method of an immersion depth of a molten metal measuring probe capable of surely performing measurements, for example, a molten temperature, a solidification temperature, and sample properties by precisely controlling the immersion depth in a molten metal layer.例文帳に追加

溶融金属層への浸漬深さをより正確に制御することで、例えば溶鋼温度や凝固温度、サンプル性状などの測定をより確実に行うことができる溶融金属測定用プローブの浸漬深さ制御方法を提供せんとする。 - 特許庁

An inert gas atmosphere or a reducing gas atmosphere having oxygen concentration less than 2,000 ppm in the mold is prepared at the initial stage of the casting from the starting time of the casting to the immersion of an immersion nozzle for supplying molten metal into a mold below the surface of the molten metal.例文帳に追加

鋳造開始時から鋳型内に溶湯を供給する浸漬ノズル孔が溶湯表面下に浸漬するまでの鋳造初期に、鋳型内の酸素濃度を２０００ｐｐｍ未満の不活性ガス雰囲気若しくは還元性ガス雰囲気とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for liquid immersion exposure and improved in such problems as collapse of a resist pattern due to post exposure delay between steps of exposure and PEB (post exposure bake), deterioration in the profile and production of scum during liquid immersion exposure, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化、スカムの発生が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This solid immersion lens is constituted so that a convex-shaped section 2 is formed in an objective side of the solid immersion lens 11, an objective surface 3 is provided at a tip of the convex-shaped section 2, and a magnetic coil 9 for magnetooptical recording is embedded in a periphery of a condensing section 4 of the objective surface 3.例文帳に追加

ソリッドイマージョンレンズ１１の対物側に凸状部２が形成され、凸状部２の先端に対物面３が設けられて成り、対物面３の、集光部４の周辺に、光磁気記録用の磁気コイル９を埋め込む構成とする。 - 特許庁

To prevent adhesion of impurities contained in a horizontal liquid flow in an endless channel type aeration tank to an immersion film by preventing insufficient cleaning of the immersion film caused by the horizontal liquid flow in the aeration tank.例文帳に追加

無終端水路式曝気槽内の水平方向の液流が原因で浸漬膜が十分に洗浄されなくなるのを抑制し、無終端水路式曝気槽内の水平方向の液流に含まれる夾雑物が浸漬膜にからみつくのを抑制する。 - 特許庁

To realize an air bubble supply device for an immersion type membrane filter system capable of efficiently developing compactness and economical efficiency being features of a tubular filter membrane module for the immersion type membrane filter system and capable of stably supplying air bubbles.例文帳に追加

浸漬型膜ろ過方式用管状ろ過膜モジュールの特徴であるコンパクト性と経済性とを効果的に発揮させることができ、しかも空気泡を安定に供給することができる浸漬型膜ろ過方式用の空気泡供給装置を実現する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is improved in developability and enables to form a pattern having good conformability to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

現像性が改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好なパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming an upper film, which provides an immersion upper film which reduces remaining water even in high scan speed at 700 mm/s, for instance, and prevents bubbles in an interface between an immersion liquid and the upper film.例文帳に追加

スキャンスピードが高速（例えば、７００ｍｍ／ｓ）であっても水残りを抑制でき、さらに液浸液と上層膜との界面におけるバブルの発生をも抑制することのできる液浸上層膜を形成できる上層膜形成用組成物の提供。 - 特許庁

The manufacturing method of the conductive film includes: a metal nanowire-containing film manufacturing process in which the nanowire-containing film containing the metal nanowire and a dispersant is manufactured; and an immersion process in which the metal nanowire-containing film is immersed into an immersion liquid.例文帳に追加

金属ナノワイヤー及び分散剤を含有する金属ナノワイヤー含有膜を作製する金属ナノワイヤー含有膜作製工程と、前記金属ナノワイヤー含有膜を浸漬液中に浸漬する浸漬工程とを含む導電膜の製造方法である。 - 特許庁

To provide a wireless remote controller capable of preventing liquid immersion into a lithium battery against leakage from inside, and maintaining liquid immersion prevention to the battery with a simple structure even when the wireless remote controller is deformed by shock.例文帳に追加

内部からの液漏れに対して、リチウム電池への液体の浸入を防ぎ、衝撃によりワイヤレスリモコン装置が変形した場合であっても簡易な構造で電池への液体の浸入防止を維持することができるワイヤレスリモコン装置を提供する。 - 特許庁

In a plasma reaction tube furnace to generate the low temperature plasma, an immersion water tube which is coaxial with the plasma reaction tube furnace is disposed, and in the immersion water tube filled with water, the medical device having the long tube such as the endoscope or the like is arranged by hanging.例文帳に追加

低温プラズマを生成するプラズマ反応管炉の内部に、このプラズマ反応管炉と同軸の浸漬水管を配置し、この浸漬水管内に水を満たした状態で内視鏡等の長尺細管を有する医療器具を吊るして配置する。 - 特許庁

In the method for dephosphorizing the molten iron by injecting oxidizing agent together with carrier gas through an immersion lance into the molten iron held in a mixer car, plural immersion lances are used and the oxidizing agent is simultaneously injected into the different positions in the molten iron.例文帳に追加

混銑車内に保持された溶銑中に浸漬ランスを介して酸化剤をキャリア・ガスと共に吹き込む溶銑の脱燐方法において、前記浸漬ランスを複数本使用し、前記溶銑中の異なった位置に同時に酸化剤を吹き込む。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle with which in the case of applying a refractory for inner hole body containing dolomite clinker to the immersion nozzle, the stickiness of alumina can be restrained for long time by reducing the erosion of this refractory for inner hole body and the stickiness of the alumina.例文帳に追加

ドロマイトクリンカーを含有する内孔体用耐火物を浸漬ノズルに適用する場合に、この内孔体用耐火物の溶損やアルミナ付着を少なくして、長時間にわたってアルミナ付着を抑制可能な浸漬ノズルを提供すること。 - 特許庁

The lens holding part holds the solid immersion lens so that light outputted from the solid immersion lens to the base part side may pass the outside of the lens holding part toward the base part, and the base part has a light transmissive part 53 through which the light passes to the objective side.例文帳に追加

レンズ保持部は、固浸レンズからベース部側に出力される光がレンズ保持部の外側を通ってベース部に向かうように固浸レンズを保持しており、ベース部は、その光を対物レンズ側に通過させる透光部５３を有する。 - 特許庁

The liquid immersion lithographic apparatus may further include an actuator which laterally moves the target object in a hole of the substrate support table to reduce a gap between a peripheral end of the target object and an inner side of the hole when the target object is in contact with the immersion liquid.例文帳に追加

また、前記対象物の端部と前記支持テーブルの穴部の側部との間隙を、液体に接触しているときに縮小するために前記穴部において横方向に前記対象物を移動させるアクチュエータをさらに備えてもよい。 - 特許庁

To provide a material for forming a protective film that can simultaneously prevent alteration of a resist film during liquid immersion lithography and alteration of the liquid used for the liquid immersion lithography and that can result in formation of a resist pattern having a preferable profile without increasing the number of processes.例文帳に追加

液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成可能な保護膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion treatment apparatus generating no drying irregularity when a substrate is immersed in a treatment liquid to be drawn up therefrom, an immersion treatment method, a method for manufacturing an electrooptical device and the electrooptical device and an electronic instrument manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

基板を処理液に浸漬した後、処理液から引き上げる際、乾燥ムラの発生しない浸漬処理装置、浸漬処理方法、電気光学装置の製造方法、この製造方法によって製造された電気光学装置および電子機器を提供する。 - 特許庁

The oxidizer solution concentration, the organic acid solution concentration and a processing time in the oxidizer immersion bath and the organic acid immersion bath are determined by giving consideration so as to set an α value in α-ray dosage measurement to a predetermined value or less, and preferably to BG (5 cpm).例文帳に追加

なお、酸化剤浸槽，有機酸浸槽における酸化剤溶液濃度，有機酸溶液濃度ならびに処理時間はα線量測定におけるα値が所定値以下、好ましくはＢＧ（５ｃｐｍ）になるよう考慮して決める。 - 特許庁

To provide a solid immersion lens of which the utilization efficiency from a lens material body is high and easy in machining process and machining work a, and its manufacturing method, and also to provide a condensing lens utilizing this immersion lens, an optical pickup device and an optical recording/reproducing device.例文帳に追加

レンズ材料体からの利用効率が高く、加工工程及び加工作業の簡易なソリッドイマージョンレンズ及びその製造方法を提供し、これを利用した集光レンズ、光学ピックアップ装置及び光記録再生装置を提供する。 - 特許庁

In the rice washing method for washing the milled rice and supplying the required amount each thereof from the immersion tank 1 to a rice cooker 13, the milled rice is fed into the immersion tank 1 and the rice is cleansed by high-concentration oxygen bubble water 1c containing high- concentration oxygen bubble in the tank 1.例文帳に追加

精米を洗米し、浸漬槽１より所要量宛、炊飯釜１３に供給する洗米方法において、浸漬槽１に精米を投入し、該槽１内で高濃度酸素気泡を含有する高濃度酸素気泡水１ｃにより洗米する。 - 特許庁

To provide a method for desiliconizing molten pig iron by blowing an oxygen-containing gas into the molten pig iron in a torpedo car through an immersion lance with high reaction efficiency, in which the immersion lance has high durability and the molten pig iron is less spouted out from the aperture of the torpedo car.例文帳に追加

混銑車内の溶銑に浸漬ランスを介して酸素含有ガスを吹き込んで溶銑を脱珪処理するに際し、浸漬ランスの耐用性が高く、且つ、混銑車開口部からの溶銑の噴出が少なく、高い反応効率で溶銑を脱珪処理する。 - 特許庁

The anti-reflection film is a porous body of silica having a refractive index of 1.05-1.30, wherein the refractive index difference before immersion in 1N hydrochloric acid solution and after immersion in 1N hydrochloric acid solution for 24 hours is 0.15 or less for the wavelength of 650 nm.例文帳に追加

反射防止膜は、屈折率が１．０５〜１．３０であり、１規定の塩酸水溶液に浸漬する前と、１規定の塩酸水溶液に２４時間浸漬した後との波長６５０ｎｍでの屈折率差が０．１５以下であるシリカ多孔質体である。 - 特許庁

To provide an immersion method for a caisson capable of reducing weight of a large-sized caisson, at the same time, excavating the ground under the edge of a blade of the caisson to immerse the caisson without removing earth and sand in a cylinder of the caisson, facilitating the immersion work of the caisson and, at the same time, reducing an amount of earth to be removed.例文帳に追加

大型のケーソンの軽量化を図ると共に、ケーソンの刃先下の地盤を掘削して、ケーソンの円筒内の土砂を排出することなくケーソンを沈設し、沈下作業の容易化を図ると共に排土の減少を図る。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition from which a small amount of substance elutes into a liquid for immersion exposure kept in contact with the composition in immersion exposure, and which excels in sensitivity and resolution and can form a resist film giving a good pattern profile.例文帳に追加

液浸露光時に、接触した液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、感度及び解像度に優れ、得られるパターン形状が良好なレジスト膜を形成することが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a material for forming a resist protective film for immersion lithography, for forming a protective film that has high water repellency against water or an immersion medium essentially comprising water, is easily peeled by a developer solution and does not cause mixing with a photoresist layer.例文帳に追加

水又は水に対する液浸媒体に対して高い撥水性を有し、現像液によって容易に剥離し、かつフォトレジスト層とのミキシングを起こさない保護膜を形成するための液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料の提供。 - 特許庁

To easily hold an ultrasonic medium in a liquid or gelatinous form in order to execute immersion measurement (hereafter the immersion measurement) which interposes the ultrasonic medium between the front end of a probe of an axial length measurement instrument an the cornea and makes measurement by parting the cornea and the probe.例文帳に追加

眼軸長測定装置においてプローブ先端と角膜の間に液体やゲル状の超音波媒体を介在させて角膜とプローブを離して測定するイマージョン測定（以後イマージョン測定）を行う為に超音波媒体を簡単に保持する。 - 特許庁

The electronic component comprises: a conductor body 2 that includes a copper and/or a copper alloy-based material; an immersion gold plated film 3 directly formed on the conductor body 2; and an electroless gold plating film 4 formed on the immersion gold plated film 3.例文帳に追加

銅及び／又は銅合金系素材を含む導体部２と、上記導体部２上に直接形成された置換金めっき皮膜３と、上記置換金めっき皮膜３上に形成された無電解金めっき皮膜４と、を有する電子部品。 - 特許庁

To provide a tundish for continuous casting molten metal, a tundish that causes no drift inside the tundish nor an immersion nozzle thereby preventing alumina clogging in the hole in the immersion nozzle.例文帳に追加

本発明の目的は、溶融金属連続鋳造用タンディッシュ内や浸漬ノズル内で偏流を生ずることなく、それによって浸漬ノズル内孔部でのアルミナ閉塞を防止することができる溶融金属連続鋳造用タンディッシュを提供することにある。 - 特許庁

In the chromate coating film, the change of chromium deposition after immersion in boiling water for 30 minutes is within 2% of chromium deposition before immersion, and the L value indicating the color tone of the surface of the steel sheet is ≥55, and the difference between the maximum and minimum values of the L value is within 3.例文帳に追加

そして、クロメート皮膜は、沸騰水に30分間浸漬後のクロム付着量の変化が浸漬前のクロム付着量の２％以内であり、鋼板表面の色調を表すL値が５５以上、L値の最大値と最小値の差が３以内である。 - 特許庁

The cavitation generation device 30 is provided with a storage tank 32 for storing an immersion liquid L1 for immersing a molded product 13a of the impeller 13 (work) therein; and a spraying nozzle 134 provided with a delivery port 112 (spraying port) opened in the immersion liquid L1.例文帳に追加

キャビテーション発生装置３０は、インペラー１３の成形加工品１３ａ（ワーク）を浸漬するための浸漬液Ｌ１を貯留する貯留槽３２と、浸漬液Ｌ１中で開口した吐出口１１２（噴射口）が設けられた噴射ノズル３４とを備える。 - 特許庁

To provide an immersion lance for injecting powdery material with which the injected powdery material can be stayed for long time into molten pig iron or molten steel by deeply immersing spouting flow of gas from the immersion lance for injecting the powdery material into the molten pig iron or the molten steel.例文帳に追加

粉体吹込み用浸漬ランスからのガスの噴流を溶銑中或いは溶鋼中に深く侵入させ、吹き込んだ粉体を溶銑中或いは溶鋼中に長時間滞留させることのできる粉体吹込み用浸漬ランスを提供する。 - 特許庁

When immersion becomes difficult since the side wall 1 sticks to the ground by large adhesion of the surrounding earth in the middle of the immersion, water or oil is pressed in a plurality of through-holes 2 from the inside of the side wall 1 by a pump via a hose 4.例文帳に追加

その沈設の途上で、側壁１が、周囲の土の大きな粘着力で地盤に付着して沈設が困難になった場合には、側壁１の内側から複数の通孔２にホース４を介してポンプ等によって水または油を圧入する。 - 特許庁

The evaluation method of the resist composition, which is used in the resist pattern forming method including a process of immersion exposure, includes forming of a resist film, selectively exposing, performing a treatment in which the resist film is brought into contact with a immersion solvent used in the process of immersion exposure, baking after exposure (PEB), developing, and evaluating the obtained resist pattern formation performance.例文帳に追加

浸漬露光する工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物の評価方法であって、 レジスト膜を形成し、選択的露光し、前記レジスト膜に前記浸漬露光する工程に用いる浸漬溶媒を接触させる処理を行い、露光後加熱（ＰＥＢ）し、現像し、得られたレジストパターン形成性能を評価することを特徴とするレジスト組成物の評価方法。 - 特許庁

In the immersion lithography apparatus, there are assembled a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit which serves during an immersion lithography process to supply an immersion liquid into a gap defined between the optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁