「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

This liquid immersion exposure device 1 contains an immersion liquid L between a wafer W with a photosensitizing agent applied and an exposure lens 10 and has a preprocessor 30 for immersing a surface of the wafer W in ozone water or exposing it to ozone irradiation or ultraviolet ray before containing the immersion liquid L between the wafer W and the exposure lens 10.例文帳に追加

本発明は、感光剤の塗布されたウェハＷと露光用のレンズ１０との間に液侵液Ｌを介在させて露光を行う液侵露光装置１において、ウェハＷとレンズ１０との間に液侵液Ｌを介在させる前に、ウェハＷの表面にオゾン水を浸す、もしくはオゾンを照射する、もしくは紫外線を照射する前処理部３０を備えているものである。 - 特許庁

The device has an immersion tank 2 for immersing and a wafer W in stored treatment solution, a reservoir tank 3 which collects overflown solution from the immersion tank 2 and stores it temporarily and a circulation flow path 30 which sucks solution stored in the tank 3 from a treatment solution outlet 4 of the collection tank 3 and supplies it to the immersion tank 2.例文帳に追加

貯留された処理液中に基板Ｗを浸漬して処理する浸漬槽２と、前記浸漬槽２からオーバーフローした処理液を回収して一時的に貯留する回収槽３と、前記回収槽３に貯留された処理液を前記回収槽３の処理液排出口４から吸い込んで前記浸漬槽２に供給する循環流路３０とを備える。 - 特許庁

To provide a refining device capable of efficiently removing impurities generated in the liquid for liquid immersion exposure by exposure and impurities flowing out of a resist film, stabilizing the optical properties of the liquid for liquid immersion exposure, and reusing the liquid for liquid immersion exposure without reducing efficiency in the production process of an electronic device using exposure.例文帳に追加

露光により液浸型露光用液体中に生成された不純物やレジスト膜から溶出した不純物を、効率よく除去し、液浸型露光用液体の光学的性質を安定させた上で、露光を用いる電子デバイスの生産過程にかかる効率を低下させることなく、液浸型露光用液体の再利用を、現に可能とする精製器を提供すること。 - 特許庁

Relating to the vacuum degassing apparatus for executing the degassing treatment by dipping the immersion tube 1 into molten steel in a ladle and sucking up the molten steel into a vacuum vessel through the immersion tube, a hollow part 3 is formed in a core metal 2 for supporting a refractory 10 of the immersion tube 1 and coolant is passed through the hollow part and the core metal 2 is allowed to be cooled.例文帳に追加

鍋内の溶鋼に浸漬管１を浸漬し、当該浸漬管を介して真空槽内に溶鋼を吸い上げて脱ガス処理を行う真空脱ガス装置において、上記浸漬管１の耐火物１０を支持する芯金２に中空部３を設け、該中空部内に冷却媒体を通し、当該芯金２を冷却可能としたことを特徴とする真空脱ガス装置。 - 特許庁

There is disclosed a new method useful for immersion lithography and of drying and/or wetting a surface such as a top surface of a substrate or the like.例文帳に追加

液浸リソグラフィに有用で、基板の上面などの表面を乾燥する、かつ／または濡らす新しい方法が開示される。 - 特許庁

Reduction in availability due to cleaning or replacement of the immersion member can be prevented by using the replacement system.例文帳に追加

交換システムを用いることで、液浸部材の洗浄または交換に起因する稼動率の低下などを抑制することができる。 - 特許庁

To provide an immersion-type washing device which can obtain a satisfactory filter life, and to provide a washing method using it.例文帳に追加

十分なフィルタ寿命を得ることができる浸漬型の洗浄装置およびそれを用いた洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the safety of the work and improve the washing effect in an immersion tank of a long strip washing apparatus.例文帳に追加

長尺帯状体洗浄装置の浸漬槽において、作業の安全性向上と、洗浄効果の向上を図っている。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle which can be preheated properly and has a long life without aggravation of work environment and living environment.例文帳に追加

予熱が適切に行なえて長寿命で、作業環境および生活環境を悪化させることがない浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

To provide substrate processing method capable of suppressing the generation of device defect, in a device manufacturing method comprising a liquid immersion exposure process.例文帳に追加

液浸露光工程を含むデバイス製造工程において、デバイス欠陥の発生を抑制できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The floating sludge of the floatation/separation tank 2, and separated sludge of the separation membrane immersion tank 3 are returned to the aerobic biological treatment tank 1.例文帳に追加

浮上分離槽２の浮上汚泥と分離膜浸漬槽３の分離汚泥を好気性生物処理槽１に返送する。 - 特許庁

A relation between the difference of the thicknesses 5, 6 at the right and the left sides of the immersion nozzle 1 for continuous casting and the channelling of molten steel is cleared.例文帳に追加

連続鋳造用浸漬ノズル１の左右の肉厚５、６の差とモールド内の溶鋼の偏流との関係を明確にした。 - 特許庁

The reading of the temperature sensor is used to control the magnitude of heat input to the immersion liquid using a heater and/or cooler.例文帳に追加

この温度センサの読み取り値を使用して、ヒーター及び／又はクーラーを使用した液浸液への入熱の大きさを制御する。 - 特許庁

To provide a polymer compound for a photoresist for immersion exposure, which is capable of forming a high-performance resist film excellent in water resistance.例文帳に追加

耐水性に優れ且つ高性能なレジスト膜を形成可能な液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物を提供する。 - 特許庁

To reduce image distortion by reducing sample dragging quantity by an SIL about an optical device using a solid immersion lens.例文帳に追加

ソリッドイマージョンレンズを使用した光学装置に関し、ＳＩＬによる試料引きずり量を低減して画像の歪みを低減する。 - 特許庁

To prevent a ground leakage accident, an electric shock accident and a fire accident by allowing electric leakage to be detected even in the case of minute liquid immersion in an electric heater.例文帳に追加

電気ヒータ内の微小な液体浸漬でも漏電検知を可能とし、漏電事故、感電事故、火災事故を防止する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of suppressing the generation of a watermark during immersion exposure, and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

液浸露光時にウォーターマークの発生を抑制しうるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To improve a projection exposure apparatus so that an imaging defect is reduced due to uneven refractive index in an immersion liquid.例文帳に追加

液浸液内部の屈折率の不均一から生じる結像欠陥が低減されるように、投影露光装置を改良すること。 - 特許庁

A new method is disclosed useful for immersion lithography, a new method for drying and/or wetting a surface, such as an upper surface of a substrate.例文帳に追加

液浸リソグラフィに有用で、基板の上面などの表面を乾燥する、かつ／または濡らす新しい方法が開示される。 - 特許庁

The apparatus is configured to rinse at least part of the immersion space 10 during a relatively long idle operation mode.例文帳に追加

この装置が比較的長いアイドル動作モードにある間、液浸スペース１０の少なくとも一部をリンスするよう構成されている。 - 特許庁

To achieve high exposure precision by suppressing malfunction such as generation of vibration when liquid is collected in a liquid immersion exposure device.例文帳に追加

液浸露光装置において、液体回収の際の振動発生のような不具合を抑制して、高い露光精度を実現する。 - 特許庁

To provide a polyolefin resin molded article showing excellent heat stability and yellowing resistance after immersion in hot water for a long time.例文帳に追加

長期間熱水に浸漬した後において、熱安定性、耐黄変性に優れたポリオレフィン系樹脂成形品を提供すること。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING SOLUTE MATERIAL WEIGHT CONCENTRATION, METHOD AND DEVICE FOR MEASURING HARDNESS OF WORKPIECE, AND IMMERSION WORKING DEVICE例文帳に追加

溶質物重量濃度の測定方法及び測定装置、被加工物固さの測定方法及び測定装置、浸漬加工装置 - 特許庁

A solid immersion lens 6 is embedded into the material body 4 at a light-focused position of a convergence light reflected from the reflecting plane 3.例文帳に追加

反射面３で反射された収束光の集光位置の高分子有機材料体４に、ソリッドイマージョンレンズ６を埋め込む。 - 特許庁

This solid immersion lens is semispherical and consists of a convex face 2, which is the light-incident side, and a plain face 7, which is the light-emitting side.例文帳に追加

光の入射側である凸面２と光の出射側である平面７とからなる半球形状の固浸レンズ。 - 特許庁

A transmission member 12 for a load in the case of a shaft immersion is interposed and disposed among the segments 21 and 22 having the double structures and the gate 6.例文帳に追加

立坑沈設時の荷重の伝達部材１２を、二重構造のセグメント２１、２２とゲート６との間に介在して配置する。 - 特許庁

To provide an immersion tube for a molten metal refining facility.例文帳に追加

芯金の変形を容易にすることで、耐火物の損傷を大幅に低減可能な溶融金属精錬設備用浸漬管を提供する。 - 特許庁

This sensor is provided with the immersion pipe 39, a float 36, the first coil 35b, the second coil 35a, and a control part 40.例文帳に追加

浸水用配管３９、浮き３６、第１コイル３５ｂ、第２コイル３５ａ及び制御部４０を具備する浸水センサを用いる。 - 特許庁

To provide an immersion type membrane separator and a water purifying system capable of efficiently purifying water by suppressing clogging of a separation membrane.例文帳に追加

分離膜の目詰まりを抑制し、効率的に浄水を行える浸漬型膜分離装置および浄水システムを提供する。 - 特許庁

To reduce or eliminate temperature variation in immersion liquid being supplied to or in a lithographic apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置に供給中の液浸液またはリソグラフィ装置内の液浸液における温度変化を低減または除去する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition that is used for double patterning and suitably used also for a liquid (such as water) immersion exposure process.例文帳に追加

ダブルパターンニングに用いられ、水等の液浸露光プロセスにも好適に用いられる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

Also, the height of an optical element connected to liquid between the projection system and the substrate table in the immersion lithographic apparatus is measured.例文帳に追加

また、浸漬式リソグラフィ装置の投影系と基板テーブルとの間の液体に接続された光学素子の高さを測定する。 - 特許庁

To provide a lithography device which is properly protected from a negative effect resulting for ultraviolet radiation and/or immersion liquid, for example.例文帳に追加

例えば紫外放射および／または浸液からの負の影響に対して適切に保護されたリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

The immersion lithographic device includes a pump and a buffer volume configured to remove residual liquid from a substrate.例文帳に追加

基板から残留液を除去するように構成されたポンプおよびバッファ・ボリュームを有する液浸リソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus which is easily and effectively cleaned, and to provide a cleaning method to effectively clean the liquid immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

容易かつ効果的に洗浄されるリソグラフィ装置、及び液浸リソグラフィ装置を効果的に洗浄する方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the surface of the convex part 2 becomes an accurate curved surface, and the performance of the convex part 2 as the solid immersion lens can be improved.例文帳に追加

これによって、凸部２の表面が精度の良い曲面となり、凸部２の固浸レンズとしての性能が向上する。 - 特許庁

To prevent the submergence of a vehicle even in case of immersion of an underground storage part in an elevator type multistory parking device.例文帳に追加

エレベータ方式立体駐車装置において、地下格納部に浸水したとしても車両の水没を未然に防止すること。 - 特許庁

To provide a microscope observation device capable of efficiently recovering supplied liquid when an immersion objective lens is used.例文帳に追加

液浸系の対物レンズを用いた場合に、供給された液体を効率よく回収できる顕微鏡観察装置を提供する。 - 特許庁

The diameter of the quartz glass substrate 2 is substantially equal to the diameter of a semiconductor substrate which is an object to be treated by the immersion exposure device.例文帳に追加

石英ガラス基板２の直径は、液浸露光装置の処理対象である半導体基板の直径と同程度である。 - 特許庁

To provide work immersion treatment equipment capable of avoiding increase in size of the equipment by shortening a treatment tank.例文帳に追加

処理槽を短縮することが可能なため設備の長大化を回避することができるワーク浸漬処理設備を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposing device capable of exposing a substrate efficiently and preferably in the case of applying an immersion method in the exposing device.例文帳に追加

露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く良好に露光できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device and/or a computer programmed product, for correcting exposure parameters of an immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

浸漬式リソグラフィ装置の露光パラメータを補正するための方法、装置及び／又はコンピュータ・プログラム製品を提供すること。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus which can be cleaned easily and effectively, and to provide a method of effectively cleaning an immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

容易かつ効果的に洗浄されるリソグラフィ装置、及び液浸リソグラフィ装置を効果的に洗浄する方法を提供する。 - 特許庁

To satisfactorily compensate various aberrations in a wide visual field and a wide wavelength region while using an immersion liquid having a large refractive index difference from glass.例文帳に追加

ガラスとの屈折率差が大きい浸液を用いつつも広視野、広波長域にわたって諸収差を良好に補正する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of accurately forming an image of a pattern on a substrate, when exposure processing is performed by a liquid immersion method.例文帳に追加

液浸法に基づいて露光処理する際、パターンの像を基板上に精度良く形成できる露光装置を提供する。 - 特許庁