「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

The treatment of the cooking oil with the treating agent comprises immersion of the treating agent in a cooking oil and heat treatment of the mixture.例文帳に追加

前記処理剤による食用油の処理は、食用油に前記処理剤を浸漬処理し、及び／又は浸漬して加熱処理することを含む。 - 特許庁

The system includes an imaging lens system 130, a substrate stage 120, an immersion fluid retaining module 140, a particle monitor module 160, and, in addition, a tank 168 connected to an outlet 144 to receive an immersion fluid 150, a liquid particle counter 170 connected to the tank 168 to monitor a particle in the received immersion fluid 150, and a gas inlet connected to the tank 168 to supply a gas to the tank 168.例文帳に追加

当該システムは、結像レンズシステム１３０，基板ステージ１２０，液浸流体保持用モジュール１４０，粒子監視モジュール１６０の他に、液浸流体１５０を受け入れるために、出口１４４に連結されるタンク１６８と、受け入れた液浸流体１５０内の粒子を監視するために、タンク１６８に連結される液体粒子カウンタ１７０と、タンク１６８にガスを供給するために、当該タンク１６８に連結されるガス入口と、を備える。 - 特許庁

The process for producing liquid immersion exposure liquid for use in a liquid immersion exposure device or method performing exposure through liquid filling a space between the lens of a projection optical system and a substrate comprises a step for containing a hydrocarbon compound becoming the material of the liquid immersion exposure liquid in a container, a step performing sulfuric acid treatment of the hydrocarbon compound, and a step performing distillation refining following to the sulfuric acid treatment step.例文帳に追加

投影光学系のレンズと基板との間に満たされた液体を介して露光する液浸露光装置または液浸露光方法に用いられる液浸露光用液体の製造方法であって、該液浸露光用液体の原料となる炭化水素化合物を容器内に収容する工程と、該炭化水素化合物を硫酸洗浄する工程とを含み、上記硫酸洗浄する工程後に蒸留精製する工程とを含む。 - 特許庁

To provide an oil immersion exposure device which can be operated without generating any exposure treatment mistake by preventing permeation to non-liquid corresponding section.例文帳に追加

非液体対応部への浸入を防ぐことができ、露光処理ミスを発生させることなく運用することができる液浸露光装置を提供すること。 - 特許庁

An optical element is used in an immersion objective optical system, and comprises one optical surface which can be in contact with liquid, and the other optical surface which is in contact with gas.例文帳に追加

液浸対物光学系に用いられて、液体に接触可能な一方の光学面と、気体に接する他方の光学面とを有する光学素子。 - 特許庁

To provide an aligner that can smoothly perform immersion exposure on a plurality of substrates, each of which is provided with a plurality of kinds of photoresist layers.例文帳に追加

複数種類のフォトレジスト層がそれぞれ設けられた複数の基板に対して、液浸露光を円滑に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of suppressing defects in exposure and exposing a substrate excellently in an immersion exposure that exposes the substrate through a liquid.例文帳に追加

液体を介して基板を露光する液浸露光において、露光不良の発生を抑制し、基板を良好に露光することができる露光方法を提供する。 - 特許庁

This magnetic head device includes a condensing optical system 4 having a hemispherical or super-spherical SIL (solid immersion lens) 2, and a thin-film magnetic head 5 buried in the SIL 2.例文帳に追加

半球型又は超半球型のＳＩＬ（ソリッドイマージョンレンズ）２を備える集光光学系４と、ＳＩＬ２に埋め込まれる薄膜磁気ヘッド５と、を有する。 - 特許庁

The immersion exposure apparatus 100 includes a projection optical system 2 configured to project a pattern of an original 10 onto the substrate 44 via a liquid 42 to expose the substrate 44 to light.例文帳に追加

液浸露光装置１００は、原版１０のパターンを投影光学系２および液体４２を介して基板４４に投影して基板４４を露光する。 - 特許庁

A device and a method of measuring height of an optical element connected to the liquid between the projection system and the substrate table of the immersion lithographic apparatus are included.例文帳に追加

また、浸漬式リソグラフィ装置の投影系と基板テーブルとの間の液体に接続された光学素子の高さを測定する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new protective film forming composition for forming a protective film which can be stripped with an alkali developing solution in a method of forming a pattern by liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光によるパターン形成方法においてアルカリ現像液で剥離可能な保護膜を形成できる新規な保護膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle with which the sticking of alumina on the inner surface of the nozzle is prevented and development of surface defect is prevented, and a continuous casting method.例文帳に追加

ノズル内面にアルミナが付着するのを防止し、製品の表面欠陥の発生を防止する浸漬ノズルおよび連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

The air filter is obtained by carrying out a coating or immersion treatment of a support for the air filter by the use of the slurry composition and drying the resultant body.例文帳に追加

該スラリー組成物を用いて、エアフィルタ用担体に塗布処理又は浸漬処理を行い、次いで、乾燥させて得られることを特徴とするエアフィルタ。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle with which suction of the air from a gap between the lower surface of a lower plate in a slide gate and the upper surface of a head, can be surely prevented when the casting is performed.例文帳に追加

鋳造時にスライドゲートのロアプレートの下面とヘッドの上面の間からの大気の吸い込みを確実に阻止できる浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

The immersion nozzle 1e for the continuous casting is made of a refractory having electroconductivity and equipped on the inner face with a rectifier 12b provided with an electrode 3b.例文帳に追加

電気伝導性を有する耐火物からなり電極１３ｂが設けられた整流部１２ｂを内面に備える連続鋳造用浸漬ノズル１ｅ。 - 特許庁

In a water immersion process, an invertor 14 raises temperature slowly by feeding a high frequency current to a coil 26, and a charging circuit 16 charges a storage battery 15.例文帳に追加

ひたし期間では、インバータ１４はコイル２６に高周波電流を流して温度を緩やかに上昇させ、充電回路１６は蓄電池１５を充電する。 - 特許庁

The immersion tank is filled with a fire retardant aqueous solution prepared by dissolving a phosphoric acid compound and a boric acid compound in water to be 20 wt.% in concentration.例文帳に追加

浸漬漕には，リン酸化合物及びホウ酸化合物を重量比で２０％の濃度に水で調整した難燃剤混合水溶液を満たした。 - 特許庁

On the side wall of the immersion nozzle 6 for supplying the molten steel 11 into a mold 1, a slit 7 is arranged, and the casting is performed by making the inner part of the slit as the inert gas atmosphere.例文帳に追加

鋳型１内に溶鋼１１を供給する浸漬ノズル６の側壁にスリット７を設け、スリット内を不活性ガス雰囲気として鋳造する。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having a proper shape, by preventing an acid generator contained in a resist from leaching in a liquid, in immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにおいて、レジストに含まれる酸発生剤の液体への溶出を防止して良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

Furthermore, the method includes steps of: baking the resist film; forming a resist protection film 16; carrying out the immersion exposure of the resist film; and then developing the resist film so as to form the resist pattern.例文帳に追加

上記レジスト膜をベークし、レジスト保護膜１６を形成し、このレジスト膜を液浸露光した後、上記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To form a fine pattern having a favorable profile while preventing decrease in solubility of a chemically amplified resist film in immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにおいて、化学増幅型レジスト膜の溶解性の低下を防止して、良好な形状を有する微細パターン形成できるようにする。 - 特許庁

To provide an immersion objective where a liquid supply/recovery mechanism is arranged while its peripheral structure is simplified, and a microscopic observation device.例文帳に追加

対物レンズの周辺の構造を簡素化しつつ液体の供給／回収機構を配置できる液浸対物レンズおよび顕微鏡観察装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a resist film having a high refractive index and suitable for liquid immersion lithography.例文帳に追加

形成したレジスト膜を形成したときに、高屈折率であり、液浸露光に適したレジスト膜を得ることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an escalator device capable of securing a longer time in which a water level in the escalator device reaches a level at which lower pit devices are flooded after water immersion therein is detected.例文帳に追加

浸水検出から下部ピット機器が冠水するレベルに水位が達するまでの時間をより長く確保することのできるエスカレータ装置の提供。 - 特許庁

To provide a suspension wire in which the reduction of tensile strength after soldering immersion and the reduction of wire diameter due to soldering erosion are less and which can be manufactured at low cost.例文帳に追加

半田浸漬後の引張強さの減少および半田食われによる線径の減少が小さく且つ低コストに製造できるサスペンションワイヤを提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device that can prevent degradation of exposure accuracy due to contamination of an element (optical element), and can prevent a liquid immersion region from becoming enormous.例文帳に追加

エレメント（光学素子）の汚染に起因する露光精度の劣化を防止でき、液浸領域の巨大化を抑制できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The film 3 can be provided either by immersion molding or application or by covering the needle body with a film temporarily formed into a contracting tube, and then causing thermal contraction of the film.例文帳に追加

この膜３は、浸漬成形、塗布、又は一度収縮チューブに形成したものを針体に被せ、これを加熱収縮すること等で設けることができる。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for production of ultrapure water for an immersion exposure system which prevent the occurrence of nano-size bubbles and roughness on a resist.例文帳に追加

レジスト上にナノサイズのバブル（気泡）や凹凸を発生させることのない液浸露光装置用超純水の製造方法及び製造装置を提供すること。 - 特許庁

For example, a closing member is used to receive liquid in a liquid confinement structure while the substrate is replaced on a substrate table in an immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置で、例えば基板が基板テーブル上で交換中に流体閉じ込め構造内に流体を収容するために閉鎖部材が使用される。 - 特許庁

To provide a microscopic observation device removing liquid supplied to the observing point of a substrate without leaving it in the case of using an immersion objective.例文帳に追加

液浸系の対物レンズを用いた場合に、基板の観察点に供給された液体を取り残すこと無く除去できる顕微鏡観察装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device for generating virtual reality enabling an observer to always experience feeling of immersion reality by perfectly covering observer's sight with a video image.例文帳に追加

観察者の視界を映像で完全に覆い、没入感や臨場感を常時体験することができる仮想現実感生成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device where the degradation of measurement precision using a measuring part in a liquid immersion exposure device is suppressed and a substrate can sufficiently be exposed.例文帳に追加

液浸露光装置における計測部を用いた計測精度の劣化を抑え、基板を良好に露光することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing regenerated aggregate for concrete which can manufacture coarse aggregate without requiring heat treatment and water immersion treatment.例文帳に追加

加熱処理、及び浸水処理を要することなく粗骨材を製造することができるコンクリート用再生骨材製造方法及び装置の提供。 - 特許庁

The apparatus includes an indicator for indicating whether the portion of the immersion system should be cleaned or not, and a cleaning liquid supply system for supplying a cleaner to the portion of the lithographic apparatus.例文帳に追加

装置は、液浸システムの部分を洗浄すべきかを示すインジケータ、及びクリーナをリソグラフィ装置の部分に供給する洗浄液供給システムも含む。 - 特許庁

A mutual interaction parameter representing mutual interaction between the immersion liquid (202) and at least one first material (210) in the substrate (212) can be determined by the latter.例文帳に追加

後者により、浸漬液（２０２）と基板（２１２）中の少なくとも１つの第１材料（２１０）との間の相互作用を表す相互作用パラメータを決定できる。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for maintaining immersion fluid 212 in a gap adjacent to a projection lens 16 during exchange of a work piece 208 in a lithography machine.例文帳に追加

リソグラフィマシンのワークピース２０８の交換中に、投影レンズ１６に隣接するギャップに液浸流体２１２を維持するための装置及び方法が開示される。 - 特許庁

To provide a particle removal technique wherein in an immersion type substrate processing apparatus the working load of an operator is light and an apparatus operation rate is not lowered.例文帳に追加

浸漬型の基板処理装置において、オペレータの作業負担が軽く、装置稼動率を低下させることもないパーティクル除去技術を提供する。 - 特許庁

In immersion lithography, after the exposure of the substrate is completed, a detector is used to detect the residual liquid that remains on the substrate and/or substrate table.例文帳に追加

液侵式リソグラフィにおいて、基板の露光完了後に、前記基板および／または基板テーブルに残った残留液体を検出するために検出器を用いる。 - 特許庁

After exposure, a treatment process is used to neutralize the effect of undesirable elements that are diffused into the resist layer 14 during immersion exposure.例文帳に追加

露光の後で、液浸露光中にレジスト層１４中に拡散した望ましくない成分による影響を中和するのに、処理ステップが使用される。 - 特許庁

To provide a dip flux unit capable of detecting film thickness at an immersion point without disturbing the movement of a suction nozzle.例文帳に追加

吸着ノズルの移動を妨げることなく、浸漬ポイントにおける膜厚を検出することが可能なディップフラックスユニットを提供することを課題とする。 - 特許庁

A first handle 51 is used to advance a cylinder member 20 to a tip side to immerse a tip part 21 and an immersion part 22 in the generated liquid SL.例文帳に追加

第１ハンドル５１を利用してシリンダ部材２０を先端側に前進させて、先端部２１及び浸漬部２２を発生液ＳＬ中に浸漬する。 - 特許庁

To provide a substrate for liquid immersion lithography, which can suppress the enlargement of a region where liquid comes into contact with the backside of the substrate or a substrate holding section.例文帳に追加

液体と基板の裏面又は基板保持部とが接触する領域が拡大することを抑制できる液浸露光用の基板を提供する。 - 特許庁

In one embodiment, an interference sensor for preliminarily correcting the aberrations, according to the variation of the operational characteristics related to the liquid immersion fluid, is included.例文帳に追加

一実施形態において、収差制御システムは、液浸流体に関連する動作特性の変化に基づいて収差を事前較正する干渉計センサを含む。 - 特許庁

To provide an immersion method for a pile and its device capable of making an amount of earth moving to the ground into almost zero without using a special pile having a fluid supply pipe in the thickness of a concrete pile.例文帳に追加

コンクリート杭の肉厚内に流体供給管を設けた特殊な杭を用いることなく、地上に排出する排土量をほぼ零にする。 - 特許庁

To provide a refined pattern of excellent shape by eliminating residual matter (imperfect melting) in developing a positive type resist by immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィ法によるポジ型レジストの現像時の残渣物（溶け残り）を解消して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。 - 特許庁