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「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索
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Immersionを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 3841



例文

Accordingly, when exposure (pattern transfer on the substrate) is performed in this state, an immersion method is applied and a pattern is transferred with good precision onto the substrate.例文帳に追加

従って、この状態で露光(パターンの基板上への転写)を行うことにより、液浸法が適用されて精度良く基板上にパターンが転写される。 - 特許庁

The substrate for liquid immersion lithography includes: a backside held by the substrate holding section; and a front side exposed to exposure light while being held by the substrate holding section.例文帳に追加

液浸露光用の基板は、基板保持部に保持される裏面と、基板保持部に保持された状態で露光光で露光される表面とを有する。 - 特許庁

Disclosed is a method with which a molten steel fed from the immersion nozzle 3 having a pair of discharge holes 3a at the side walls is subjected to electromagnetic stirring so as to continuously cast a steel.例文帳に追加

1対の吐出孔3aを側壁に有する浸漬ノズル3から供給した溶鋼に電磁攪拌を施して鋼を連続鋳造する方法。 - 特許庁

To provide an immersion lithography projection apparatus in which a liquid removal system surrounds a liquid supply system that supplies a liquid to a space between a projection system and a substrate.例文帳に追加

液体除去システムが投影システムと基板の間の空間に液体を提供する液体供給システムを囲む、液浸リソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a lithography apparatus that employs an immersion aligner and is capable of suppressing variations in temperature of a wafer associated with transfer of the wafer in equipment.例文帳に追加

装置内でのウエハの搬送に伴うウエハの温度の変動を抑制できる、液浸型の露光装置を用いたリソグラフィー装置を提供すること。 - 特許庁


例文

To provide an exposure device and method capable of reducing the oxygen concentration in the liquid for use in immersion lithography.例文帳に追加

本発明は、液浸露光に用いられる液体の酸素濃度を低減させることができる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a repairing structure capable of preventing water immersion and corrosion after repairing and carrying out repair for good appearance.例文帳に追加

樹木の損傷空洞部の補修において、補修後の浸水と腐食が防止でき、且つ外観の整った補修を成すことのできる補修構造の提供。 - 特許庁

The side part discharging holes are arranged in the range ofto 25° angle downward to the center of the immersion nozzle, and the bottom part discharging hole 3 is formed as a circle shape or an elliptic shape.例文帳に追加

側部吐出口が浸漬ノズルの中心に対し、下向き5度から25度の範囲に設け、底部吐出口3は、円、または楕円形状にする。 - 特許庁

To ensure exposure having an original refractive index of liquid by suppressing the occurrence of the turbulence of the liquid due to the movement of a stage in a liquid-immersion type aligner.例文帳に追加

液侵式の露光装置において、ステージの移動による液体の乱流発生を抑制して液体本来の屈折率を得た露光を可能にすること。 - 特許庁

例文

Rectifying projections 5 are respectively provided at the positions being the inner circumferential face 4 of an immersion nozzle 1 and also at the positions held between a pair of discharge holes 2 viewed from above.例文帳に追加

浸漬ノズル1の内周面4であって、平面視で一対の吐出孔2の間に挟まれる位置に、整流突起5が夫々設けられる。 - 特許庁

例文

A method for immersion of a user into virtual reality consisting in that a closed shell limiting a real closed space is formed and the shell is arranged on a support means with the possibility of rotation about its center.例文帳に追加

現実の閉鎖空間を限定する閉鎖外殻が形成され、外殻は中心軸を中心に回転自在に支持手段に取り付けられる。 - 特許庁

To provide a new resist pattern forming method capable of reducing defects in immersion exposure, and a surface modifying material suitable for use in this method.例文帳に追加

液浸露光におけるディフェクトを低減できる新規なレジストパターン形成方法、および該方法に好適に用いられる表面改質材料を提供する。 - 特許庁

Oxygen gas is fed with an oxygen lance 15 inserted from the first opening hole part 3 and powdery material can be injected with an immersion lance 17 inserted from the second opening hole part 4.例文帳に追加

第1の開口部3から挿入した酸素ランス15で送酸し、第2の開口部から挿入した浸漬ランス17で粉体吹き込みできる。 - 特許庁

In the immersion type exposure device 100, the substrate holding means 112 has a substrate tool 40 for surrounding the outer periphery of the substrate 111.例文帳に追加

この液浸型露光装置100は、基板保持手段112が、基板111の外周を囲う基板治具40を有するところに特徴がある。 - 特許庁

Friction cutters 7, 19 are formed at least at respective lower ends of the immersion body 1, and a water-swelling coat 14 is formed on an outer peripheral surface above the friction cutters.例文帳に追加

沈設体1の少なくとも下端部分にフリクションカッタ7、19を形成し、フリクションカッタの上方の外周面に水膨潤性の塗膜14を形成する。 - 特許庁

The apparatus can be configured so as to rinse the immersion space 10 substantially and continuously until the patterned radiation beam is projected onto the substrate.例文帳に追加

基板に対してパターンの付いた放射ビームを投影するまで実質的に継続して液浸スペース10をリンスするよう構成することができる。 - 特許庁

To provide a multilayered flexible film or sheet having flexibility and excellent moisture permeability, reduced in dimensional change ratio at the time of immersion in water and excellent in water impermeability.例文帳に追加

柔軟性を有し透湿性に優れると共に、浸水時の寸法変化率が小さく耐浸水性に優れた多層柔軟フィルム又はシートを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid supplying and discharging device for an immersion objective lens which do not exert adverse influence on aiming accuracy, whose reliability is high and whose maintainability is good.例文帳に追加

照準精度に悪影響を及ぼすことがなく、信頼性が高く、保守性の良い、液浸対物レンズの排液装置及び給排液装置を提供する。 - 特許庁

To realize a high density recording by keeping the distance (gap) between the end face of an SIL(solid immersion lens) and an optical disk constant regardless of the rotation speed of the optical disk.例文帳に追加

光ディスクの回転速度にかかわらず、SIL端面と光ディスク間の距離(ギャップ)を一定に保持し、高密度の記録を可能とする。 - 特許庁

OPTICAL DETECTION METHOD, SOLID IMMERSION LENS, CONDENSER LENS, OPTICAL PICKUP APPARATUS AND ITS CONTROL METHOD, OPTICAL RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS, AND OPTICAL RECORDING AND REPRODUCING METHOD例文帳に追加

光学的検出方法、ソリッドイマージョンレンズ、集光レンズ、光ピックアップ装置とその制御方法、光記録再生装置及び光記録再生方法 - 特許庁

In immersion lithography, after the exposure of a substrate is completed, a detector is used for detecting residual liquid that remains on the substrate and/or substrate table.例文帳に追加

液侵式リソグラフィにおいて、基板の露光完了後に、前記基板および/または基板テーブルに残った残留液体を検出するために検出器を用いる。 - 特許庁

Desirably, the metallic tube is subjected to oil lubrication treatment, is then cold-rolled, is subjected to degreasing by alkali immersion and degreasing with warm water, and is thereafter heat-treated so as to form the oxide film.例文帳に追加

油潤滑処理を行って冷間加工し、アルカリ浸漬および温水にて脱脂した後、熱処理し酸化被膜を形成することが望ましい。 - 特許庁

To provide immersion lithography equipment where a low surface tension liquid of nonpolarity can be limited to a space between a projection system and a substrate or the like.例文帳に追加

非極性の低表面張力液体を例えば投影システムと基板の間のスペースに局限することができる浸漬リソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁

By this operation, the heating of the joining portion 3a, which is to be carried out by the friction contact just after the immersion of the joining tool, can be replaced by the heating with the laser beam.例文帳に追加

これによってツール没入直後の摩擦接触によってする被接合部分3aの加熱を、レーザ光による加熱で置き換えることができる。 - 特許庁

In the treating method, the immersion time is preferably 4-12 hr and the SMC material after curing is preferably crushed so as to have ≤50 mm average particle diameter.例文帳に追加

浸漬は4〜12時間であることが好ましく、また、硬化後のSMC材料を、更に平均粒径50mm以下に破砕することが好ましい。 - 特許庁

1) An ion implantation method, 2) a clad method, 3) coating by an immersion method, 4) accumulation of the coating layer, and 5) electroplating or the like may be used for the formation of the composite layer.例文帳に追加

複合層の形成には1)イオン注入法、2)クラッド法、3)浸漬法による被覆、4)被覆層の堆積、5)電気メッキ法等を使用すると良い。 - 特許庁

To provide an immersion system microscopic objective lens which has high magnification and high numerical aperture, where aberration is excellently compensated over wide visual field and which has good image-forming performance.例文帳に追加

高倍率および高開口数を有し、広視野に亘って諸収差が良好に補正され、優れた結像性能を有する液浸系顕微鏡対物レンズ。 - 特許庁

The inner face 15a of the lens barrel 15 is conically shaped and, the solid immersion lens 12 is fixed with the spherical surface part 12a kept in contact with the conical surface.例文帳に追加

鏡胴15の内面15aは円錐形状からなり、固浸レンズ12はその球面部12aが円錐面に接した状態で固定されている。 - 特許庁

The liquid immersion lithography exposure apparatus uses fluid 26 during the exposure process, and can eliminate not all of the fluid 26 but a part of it after exposure.例文帳に追加

液浸リソグラフィ露光装置は、露光プロセス中に流体26を利用し、露光後に、流体26の全部ではないが、その一部を除去可能である。 - 特許庁

To provide a hot dip zinc coating method for effectively preventing the adhesion of dross to the surfaces of a steel strip and immersion rolls (a sink roll and a support roll).例文帳に追加

鋼帯および浸漬ロール(シンクロール、サポートロール)表面へのドロスの付着を有効に防止することができる溶融亜鉛めっき方法を提案する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion microscope apparatus capable of precisely setting a working distance by reducing the effect of the error of attaching an adaptor to an objective lens.例文帳に追加

対物レンズに対するアダプタの取り付け誤差の影響を低減してワーキングディスタンスを精度よく設定できる液浸顕微鏡装置の提供。 - 特許庁

To provide a steel pipe erection jig for extremely efficiently performing erection and immersion work of a steel pipe arranged in the ground as a pile or a sheet pile.例文帳に追加

杭または矢板として地中に設置される鋼管の建込みと沈設施工をきわめて効率的に行えるようにした鋼管建込み用治具を提供する。 - 特許庁

The substrate processor 10a for performing immersion processing of the substrate is equipped with six supply pipes 2a-2f for supplying a process liquid into a processing reservoir 1.例文帳に追加

基板の浸漬処理を行う基板処理装置10aでは、処理槽1の内部に処理液を供給する6つの供給管2a〜2fが設けられている。 - 特許庁

To provide an immersion microscope objective lens that has long operation distance and has sufficiently corrected aberrations in a wide wavelength region (substantially h-line to t-line).例文帳に追加

作動距離が長く、広波長域(おおよそh線〜t線)にわたり諸収差が良好に補正された、液浸系顕微鏡対物レンズを提供する。 - 特許庁

An apparatus for immersion optical lithography has a lens capable of relative movement in synchronization with horizontal motion of a semiconductor wafer in a liquid environment.例文帳に追加

液浸光リソグラフィのための装置は、液体環境において半導体ウエハの水平移動と同期した相対移動が可能であるレンズを有する。 - 特許庁

To provide an interferometer capable of precise measurement of the wave aberration of a lens to be inspected (especially, a projection lens used in an immersion exposure apparatus).例文帳に追加

被検レンズ(特に液浸露光装置に用いられる投影レンズ)の波面収差を高精度に測定することが可能な干渉計を提供すること。 - 特許庁

To prevent or reduce the occurrence of residual liquid on the substrate and/or substrate table after the exposure of a substrate, in an immersion type lithographic apparatus.例文帳に追加

浸漬式リソグラフィ装置内で基板を露光した後、例えば基板および/または基板テーブル上の残留液体の発生を防止するか、減少させる。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle for continuously casting a steel which has excellent sticking suppression of alumina inclusions in molten steel and also has excellent erosion resistance and spalling resistance.例文帳に追加

溶鋼中のアルミナ介在物の付着抑制に優れ、かつ、耐溶損性および耐スポーリング性に優れた鋼の連続鋳造用浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

To improve focus latitude and/or stabilize contrast control by an immersion lithography apparatus changing focus positions in accelerating a substrate table during exposure.例文帳に追加

露光中に基板テーブルを加速する際、焦点位置が変化する液浸リソグラフィ装置で、焦点寛容度を向上させ、且つ又はコントラスト制御を安定化する。 - 特許庁

To realize an air bubble supplying device exhibiting compactness and profitability which are characteristic of a tubular filtration membrane module for an immersion type membrane filtration system.例文帳に追加

浸漬型膜ろ過用管状ろ過膜モジュールの特徴であるコンパクト性と経済性とを発揮させることができる空気泡供給装置を実現する。 - 特許庁

The inspection method of the resin sheet is constituted by immersing a sheet from a resin in hot water for a definite time and inspecting the shrinkage factor of the sheet after immersion.例文帳に追加

樹脂を主成分とするシートを一定時間温水中に浸漬して、浸漬後における収縮率を検査する樹脂シートの検査方法である。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of smoothly performing liquid immersion exposure on a plurality of substrates each provided with a plurality of types of photoresist layers.例文帳に追加

複数種類のフォトレジスト層がそれぞれ設けられた複数の基板に対して、液浸露光を円滑に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

Further, the centering tool 6 is formed from zinc or a zinc alloy and hence the immersion of the centering tool 6 in the molten zinc bath causes the tool to melt and vanish.例文帳に追加

また、芯出し用治具6は亜鉛または亜鉛合金によって形成されているから、溶融亜鉛浴中に浸漬されると、溶融して消失する。 - 特許庁

The spacer 9 is swollen by immersion of lubricating oil or lubricant such as grease, and incorporated in the circumferential passage 8 when the swelling is stable.例文帳に追加

間座9は、潤滑油またはグリース等の潤滑剤の浸漬により膨潤させ、膨潤が安定した状態で上記周回経路8に組み込む。 - 特許庁

To provide a sensor which measures influence at a substrate level by using radiation having a high numerical aperture, particularly in an immersion lithography apparatus.例文帳に追加

特に液浸リソグラフィ装置において、高い開口数を有する放射線を用いて基板レベルでの影響を測定することが可能なセンサを提供すること。 - 特許庁

To provide an immersion type flat membrane-used filtration apparatus in which air can uniformly be diffused efficiently toward a plurality of flat membranes immersed/arranged in a row.例文帳に追加

並列して浸漬設置された複数の平膜エレメントに対して散気を均等かつ効率よく行なうことができる浸漬平膜濾過装置を提供する。 - 特許庁

Concretely, the photocatalyst-functioning material is applied by spray, immersion or the like in a process between dewatering and drying or in a drying process.例文帳に追加

具体的には、脱水工程と乾燥工程の間や、乾燥工程中に、光触媒機能体を噴霧、又は、漬け込み等の方法で行うものである。 - 特許庁

To provide an evaluating method and an evaluating apparatus with which a refractory-made structure such as an immersion nozzle, a long nozzle, can simply and accurately be evaluated.例文帳に追加

浸漬ノズルやロングノズルなどの耐火物製の構造体を簡便且つ正確に評価することができる評価方法及び評価装置を提供する。 - 特許庁

In this method, formation of the degenerated layer is suppressed by irradiation of UV rays or immersion in an alkali solution as a pretreatment, and this makes stripping of the resist easy.例文帳に追加

本発明では、前処理として紫外線照射またはアルカリ溶液浸漬を行うことにより、変質層の形成を抑制し、レジスト除去を容易にする。 - 特許庁

例文

The polysulfone based hollow thread film subjected to the immersion treatment by this method can stably impart an effective hollow thread film as a hydrophilic ultrafiltration membrane.例文帳に追加

この方法により浸漬処理されたポリスルホン系中空糸膜は、親水性限外ロ過膜として有効な中空糸膜を安定して与えることができる。 - 特許庁




  
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