「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide immersion oil for a microscope whose fluorescence producing amount by the excitation of ultraviolet rays is small, which exerts an adverse influence on environment and the human body extremely little, which has other excellent characteristics required for the immersion oil for the microscope such as a refractive index, an Abbe number, viscosity and resolving power, and especially which is suitable for a fluorescence microscope.例文帳に追加

紫外線励起による蛍光発生量が小さく、また、環境や人体への悪影響が極めて少なく、しかも屈折率、アッベ数、粘度、解像力など顕微鏡用液浸油に要求される他の諸特性も良好であり、特に蛍光顕微鏡用として好適な顕微鏡用液浸油を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which is capable of stably forming a liquid immersion area, satisfactorily recovering the liquid, and avoiding outflow, scattering, and the like of the liquid to the surroundings to accurately perform an exposure process when the exposure process is performed in a state in which the liquid immersion area is formed between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which may suppress the elution of a photoacid generator to an immersion liquid and have an excellent immersion liquid follow-up property and further is excellent in roughness characteristics, and an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

光酸発生剤の液浸水への溶出の抑制と優れた液浸液追随性との両立を可能とし、さらにラフネス特性にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Cleaning liquid which contains (a) surfactant and (b) lactone solvent and whose content of (b) lactone solvent is not less than 60 wt.% is used as that for cleaning a liquid immersion exposure device filling a space between an optical lens part and an object of exposure, which is placed on a wafer stage, with a liquid immersion medium and performing exposure.例文帳に追加

光学レンズ部とウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光装置の洗浄に使用される洗浄液として、（ａ）界面活性剤、及び（ｂ）ラクトン系溶剤を含有し、（ｂ）ラクトン系溶剤の含有量が６０質量％以上である洗浄液を用いる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resist composition for forming a resist pattern that has remedied collapse of the resist pattern, line edge roughness and generation of scum and that has little degradation in the profile and good follow-up property to an immersion liquid during immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the photosensitive resist composition.例文帳に追加

レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感光性レジスト組成物、及び該感光性レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

An inclined part 3 or a projected part 2 having a step are formed on the objective side of the solid immersion lens 11 and the projected part 2 is formed in a shape to condense the incident light within a range at least from a light axis to incident an angle θi to the solid immersion lens 11 .例文帳に追加

ソリッドイマージョンレンズ１１の対物側に、その光軸ｃに沿う断面において傾斜部３または段差部を有する凸状部２を形成して、この凸状部２を、少なくとも光軸からソリッドイマージョンレンズ１１への入射角θｉまでの範囲の入射光を集光する形状として構成する。 - 特許庁

The continuous casting method for a cast slab in which molten metal is poured into a casting mold using the immersion nozzle for continuous casting is characterized in that an electrode is provided in the immersion nozzle for continuous casting, and casting is performed while electricity is turned on the molten metal through the spinel graphite refractory.例文帳に追加

前記連続鋳造用浸漬ノズルを用いて鋳型に溶融金属を注入する鋳片の連続鋳造方法であって、前記連続鋳造用浸漬ノズルに電極を設け、前記スピネルグラファイト耐火物を通じて溶融金属に通電しながら鋳造することを特徴とする連続鋳造方法。 - 特許庁

To provide a resist composition that forms a resist pattern improved in the collapse of the resist pattern, line edge roughness and the generation of scum, less liable to the deterioration of the profile, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure; and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Then, the central part of the laser beam LB is shielded by a polarizing plate 632, and only the beam of the outer peripheral part of the laser beam LB made incident on the bottom surface 634a of the solid immersion lens 634 at an angle larger than a critical angle arrives at the solid immersion lens 634 to generate the near field beam downward it.例文帳に追加

それにより、レーザー光ＬＢの中心部分は偏光板６３２により遮蔽され、臨界角より大きい角度で固浸レンズ６３４の底面６３４ａに入射するレーザー光ＬＢの外周部分の光のみが固浸レンズ６３４に至ってその下方に近接場光を発生させる。 - 特許庁

In addition, since concentration of phosphoric acid is within the range of 20-60wt%, it is easy to provide immersion conditions, and only the ruggedness on the surface is stably smoothed.例文帳に追加

また、燐酸の濃度が２０〜６０ｗｔ％の範囲内であるため、浸漬条件を出し易く、表面の凹凸面のみを安定的に滑らかにすることができる。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern that prevents poor resist pattern formation from being generated due to lack of hydrophobic property on a substrate surface during immersion lithography.例文帳に追加

液浸露光時における基板表面の疎水性不足に起因したレジストパターン形成不良の発生を抑制することができるレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A method for keeping an immersion length of a dip tube in a constant range, includes controlling elevation of the ladle or the vacuum vessel, based on the estimated minor diameter and pressure in the vacuum vessel.例文帳に追加

この推定した真空槽の内径と真空槽内の圧力に基づき、取鍋または真空槽を昇降制御して、浸漬管の浸漬長さを一定範囲に保つ。 - 特許庁

In the lithography projection equipment, a liquid supply system and an object W on a substrate table WT are arranged to prevent a high-speed immersion liquid from flowing onto a sensor S.例文帳に追加

液体供給系と基板テーブルＷＴ上の物体Ｗの配置が、センサＳ上に高速の浸漬液が流れるのを避けるように決められたリソグラフィー投影装置。 - 特許庁

To provide an immersion exposure device reducing occurrence of a defect caused by film separation from a cutout part of a substrate such as a notched part or the like formed on a wafer.例文帳に追加

ウエハに形成されたノッチ部等の基板の切り欠き部からの膜はがれに起因する欠陥発生の低減を図ることができる液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

To suppress liquid from spreading during exposure by an immersion method even if a liquid that easily fits with an object or a liquid that has no appropriate liquid-repellent coat is used.例文帳に追加

物体になじみ易い液体、又は適当な撥液性コートがない液体を用いた場合でも、液浸法で露光を行う際に液体の広がりを抑制する。 - 特許庁

In one embodiment, an elliptic projecting parts 24 are disposed in the inner hole part (molten steel flowing-through hole part) 22 in the immersion nozzle 20 with a single difference in step.例文帳に追加

］その一実施形態は、図５に示すように、単段差付浸漬ノズル２０の内孔部（溶鋼流通孔部）２２に楕円体状突起部２４を配設した浸漬ノズルである。 - 特許庁

Stress concentration on the haunch side generated by propulsive force is relaxed by forming internal corner sections in a curved-surface shape in each cylindrical immersion block.例文帳に追加

さらに、各筒状沈設ブロックにおいて内部角部を曲面形状とすることで、推進力により発生するハンチ際の応力集中を緩和するようにしている。 - 特許庁

Thus, a preliminary heating time can be shortened and the immersion in the protective paint 5 can be performed during a heating process, thereby attaining extremely easy temperature control and high painting quality.例文帳に追加

これにより予備加熱時間が短縮されるとともに、加熱しながら保護塗料５に浸漬できるため温度管理が非常に簡易で、塗装品質の向上も図れる。 - 特許庁

In the upper part of the turning table 10, a treatment device 90 for applying the secondary-refining to the molten steel while holding the immersion tube 20 at a prescribed height at the treating position P1, is arranged.例文帳に追加

ターンテーブル１０の上方には、処理位置Ｐ１において浸漬管２０を所定の高さで保持して、溶鋼の二次精錬を行う処理装置９０が設けられている。 - 特許庁

MATERIAL FOR FORMING RESIST-PROTECTING FILM FOR IMMERSION EXPOSURE PROCESS, RESIST-PROTECTING FILM MADE OF THE PROTECTING FILM FORMING MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE RESIST-PROTECTING FILM例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料、該保護膜形成材料からなるレジスト保護膜、および該レジスト保護膜を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a tip lens for a microscope immersion objective which can block harmful beams generating a flare without spoiling WD and is satisfactory for durability.例文帳に追加

ＷＤを損なうことなくフレアーを起こす有害光線を遮断でき、且つ耐性的にも問題のない顕微鏡用液浸対物レンズの先玉レンズを提供すること。 - 特許庁

When the article is moved for the immersion member, the exposure apparatus evaluates the surface state of the article based on the collection state of liquid from the second liquid collection opening.例文帳に追加

露光装置は、液浸部材に対して物体を移動したときに、第２液体回収口からの液体の回収状態に基づいて、物体の表面の状態を評価する。 - 特許庁

Consequently, a decrease in contact angle between immersion liquid and the liquid holding unit can be controlled to reduce or eliminate remaining droplets in the liquid holding unit.例文帳に追加

このような構成にすることで、液浸液と液体保持部の接触角の低下を制御でき、液体保持部の残存液滴を減少させたり無くすことができる。 - 特許庁

To effectively prevent the intrusion of a treatment solution into a holder in an apparatus wherein a wafer-shaped object to be treated is held by the holder, and surface treatment is performed by an immersion method.例文帳に追加

ウエハ状の被処理物を治具により保持して浸漬法により表面処理を行うものにあって、治具内への処理液の浸入を効果的に防止する。 - 特許庁

A water shut off device made of material having water immersion adhesive properties is attached to a tip part of a vehicle exhaust pipe and exhaust operation is done by engine exhaust pressure of the vehicle.例文帳に追加

車両排気管の先端部に水浸密着特性を有する素材の、水遮断機具を付設し車両のエンジン排気圧により排気作動を為す方法 - 特許庁

To provide an exposure method capable of forming a predetermined pattern by excellently exposing a substrate even in exposing the substrate using a liquid immersion method (for example, multiexposure).例文帳に追加

液浸法を用いて基板を露光（例えば、多重露光）する場合にも、基板を良好に露光して、所望のパターンを形成することができる露光方法を提供する。 - 特許庁

In the device, the heat treatment method comprises, at first, fixing the material to be treated after immersing it to around an aiming immersion position, and then adjusting the liquid level slightly by vertically moving the level control member.例文帳に追加

同装置において、まず、被処理物を目標とする浸漬位置近傍まで浸漬させて固定し、ついで、液位調節部材を上下動させて、液位を微調整する。 - 特許庁

The ceramic porous body 1 has a rectangular, planar shape, and one face among four side edge faces is provided with a part 1a having low gas permeability formed by the immersion of ceramic slurry.例文帳に追加

セラミック多孔体１は、方形の平板状であり、４つの側端面のうちの１面にセラミックスラリーの浸漬により形成された低通気性部分１ａが設けられている。 - 特許庁

To realize an optical recording medium and its manufacturing method, which prevent or suppress a lubricant from sticking or transferring to a light exit surface of a solid immersion lens.例文帳に追加

ソリッドイマージョンレンズの光射出面に潤滑剤が付着または移着することを防止または抑制した光記録媒体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

By the net 2 at the upper and bottom surfaces, water penetrating property during its immersion in water is maintained and by the sheet material 1 of the circumferential surface, it can be pulled up without being caught by a rock, etc.例文帳に追加

上面及び底面の網２により水漬時の通水性が確保され、周面のシート材３により、岩等に引っ掛かることなく、スムーズに引き上げることができる。 - 特許庁

An environmental system 26 is provided to supply and remove the immersion fluid 212 to and from the gap between the optical assembly 16 and the work piece 208 on the stage assembly 202.例文帳に追加

環境システム２６が設けられて、光学アセンブリ１６とステージアセンブリ２０２上のワークピース２０８の間のギャップに液浸流体２１２を供給し除去する。 - 特許庁

This immersion sensor 1 includes an optical fiber 2 for detection, a water-soluble fixing material 4, and an elastic member 5 put into an elastically deformed state by the water-soluble fixing material 4.例文帳に追加

検知用光ファイバ２と、水溶性固定材４と、水溶性固定材４によって弾性変形状態とされた弾性部材５とを備えた浸水センサ１。 - 特許庁

To provide a system and a method for further facilitating the maintenance of an optical element of an immersion lithography apparatus, thereby improving a service lifetime of the optical element.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置の光学素子の保守をより容易なものとし、それにより光学素子の耐用年限を向上させるためのシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide equipment and method of reducing the pollution of immersion fluid in the lithographic equipment when confining the liquid in a liquid supply system using a lock out surface.例文帳に追加

閉塞面を用いて液体を液体供給システムに閉じ込める際に、リソグラフィ装置内の浸漬液の汚染を低減させる装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus that prevents the occurrence of a trouble in an exposure apparatus during exposure treatment executed by an immersion method, a substrate treatment system, and an inspection/periphery exposure apparatus.例文帳に追加

液浸法による露光処理時に露光装置に不具合が生じることが防止された基板処理装置、基板処理システムおよび検査周辺露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sealing member that does not have a large couple of force or a time-related couple of force in particular between sections of an immersion lithography apparatus for forming a sealed gap.例文帳に追加

封止されたギャップを形成する液浸リソグラフィ装置の各部の間に大きな偶力、特に時間に関連する偶力を有さない封止部材を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion lithographic apparatus in which an imaging error and/or focusing error of the projection system, caused by movement of the meniscus, is reduced, if not eliminated.例文帳に追加

メニスカスの移動により引き起こされた投影システムの結像誤差及び／又は合焦誤差が、解消されないまでも軽減される液浸リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an immersion system condenser lens for a microscope whose spherical aberration is completely corrected even when NA is ≥1.4 so as to realize total reflection illumination.例文帳に追加

顕微鏡用液浸系コンデンサーレンズであって、全反射照明を可能にするために、ＮＡが１．４以上であっても十分に球面収差が補正されるようにする。 - 特許庁

MATERIAL FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS, RESIST FILM HAVING PROTECTIVE FILM MADE OF THE MATERIAL FOR FORMING PROTECTIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE PROTECTIVE FILM例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料、該保護膜形成材料による保護膜を有するレジスト膜、および該保護膜を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide an immersion method of a membrane element which does not cause rapid decrease in a filtering performance when a new membrane element is immersed in a treatment water tank filled with processed water.例文帳に追加

被処理水が充填された処理水槽に新しい膜エレメントを浸漬する際に、急激なろ過性能の低下を来たさない膜エレメントの浸漬方法を提供する。 - 特許庁

The immersion lithography exposure system 20 utilizes a fluid 26 during exposure and may be capable of removing some, but not all, of the fluid 26 after exposure.例文帳に追加

この液浸リソグラフィ露光システム２０は、露光中に流体２６を使用し、露光後、この流体２６の全てではないが、そのうちの幾らかを除去することができる。 - 特許庁

To provide a solid immersion lens holder allowing observation nearer to the periphery part of an observation object even when the observation object is arranged in the recessed part of a sample.例文帳に追加

観察対象物が試料の凹部内に配置されている場合でも観察対象物の周縁部のより近くまで観察可能な固浸レンズホルダを提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of excellently performing exposure processing, by suppressing the influence on devices/members around a substrate caused due to leakage of a liquid that forms an immersion region.例文帳に追加

液浸領域を形成する液体の漏洩により基板周辺の装置・部材が受ける影響を抑え、良好に露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion type membrane separator in which an elastic member supporting a membrane element does not shift with respect to a pressing member and incorporation work can be easily carried out.例文帳に追加

膜エレメントを支持する弾性部材が押圧部材に対してずれることがなく、組み込み作業も容易に行うことができる浸漬型膜分離装置を提供すること。 - 特許庁

The optical unit 3 has a correction board 5 and an SIL(Solid Immersion Lens) 6, and is arranged movable between a position under the object lens 2 and a position off that position under the object lens 2.例文帳に追加

光学ユニット３は補正板５およびＳＩＬ６を有し、対物レンズ２の下方の位置と対物レンズ２の下方から外れた位置との間で移動可能に設けられる。 - 特許庁