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「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索
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Immersionを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 3841



例文

To provide a system and method controlling the flow (a flow rate) and pressure of a fluid for obtaining the stable conditions of an immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィの安定条件を得るための、流体のフロー(流量)及び圧力を制御するシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

On the upper surface 120 of the bottom part 12 in the degassing vessel 10, plural opening parts 123, 124 communicated with the immersion tubes 21, 22 are arranged.例文帳に追加

脱ガス槽10の底部12の上面120には,浸漬管21,22に連通する複数の開口部123,124が設けられている。 - 特許庁

The powder has an alkali immersion potential in the range from 50 mV to 450 mV vs. a Hg/HgO electrode.例文帳に追加

そして、前記粉末は、アルカリ浸漬電位がHg/HgO電極に対して50mVから450mVの範囲にあることを特徴とする。 - 特許庁

In a slider 10, a hemispherical solid immersion lens 13 is buried and at its nearly center plane part, a mesa part 13a is provided.例文帳に追加

スライダ10内には半球状の固体イマージョンレンズ13が埋込まれ、その平面略中央部にはメサ部13aが設けられている。 - 特許庁

例文

To provide an immersion type membrane separation apparatus backwashing method and its apparatus capable of washing separation membranes safely even using ozone.例文帳に追加

オゾンを使用しながらも安全に分離膜を洗浄できる浸漬型膜分離装置の逆洗方法およびその装置を提供する。 - 特許庁


例文

To prevent or reduce occurrence of residual liquid on a substrate and/or a substrate table, after exposure of the substrate in immersion lithography.例文帳に追加

浸漬式リソグラフィにおいて、基板の露光後に、基板および/または基板テーブル上の残留液体の発生を防止または減少させる。 - 特許庁

Thus, minute and excellent photoresist patterns can be formed by using the liquid immersion exposure process regardless of kinds of the photoresist film.例文帳に追加

このため、ホトレジスト膜の種類に関係なく、液浸露光プロセスを用いて微細で良好なホトレジストパターンを形成することができる。 - 特許庁

The work immersion treatment equipment is used for carrying out treatment for immersing the work W in a treatment liquid 17 in the treatment tank 15.例文帳に追加

本発明のワーク浸漬処理設備は、ワークWを処理槽15内の処理液17に浸漬する処理を行うための設備である。 - 特許庁

An immersion conveyer prevents the food from being floated in cooking oil flowing in from the upper side over an oil inlet wall into the fry cooking instrument.例文帳に追加

浸漬コンベヤが、油入口堰を通って上からフライ料理器具に入った料理用油中に食品が浮くのを防止する。 - 特許庁

例文

To prevent failure of a resist pattern in using a barrier film containing nano-particles consisting of an inorganic oxide for liquid immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィに無機酸化物からなるナノ粒子を含む液体を用いる際のレジストパターンのパターン不良を防止できるようにする。 - 特許庁

例文

To provide a trans-decahydronaphthalene effective for further reducing the absorbance of decalin suitable as a liquid for immersion exposure having excellent light transmittance at 193 nm wavelength.例文帳に追加

193nmにおける透過性に優れる液浸露光用液体として好適なデカリンの吸光度をより低下させることができる。 - 特許庁

To provide a top coating composition for photoresist which is usable in the immersion lithography and to provide a method for forming photoresist patterns using the same.例文帳に追加

液浸リソグラフィに使用可能なフォトレジスト用のトップコーティング組成物及びそれを用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent failure of a resist pattern in using a barrier film containing nano-particles consisting of an inorganic oxide for a liquid immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィに無機酸化物からなるナノ粒子を含むバリア膜を用いる際のレジストパターンのパターン不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To improve the waterproofing ability by definitely preventing water immersion to the inner portion of the excavator main body even during the widening of the width in the tunnel excavator.例文帳に追加

トンネル掘削機において、拡幅時でも掘削機本体の内部への浸水を確実に防止して防水性の向上を図る。 - 特許庁

The semiconductor substrate 1 is irradiated with focused ion beams 5 to form a convex part 2 acting as a solid immersion lens on a main surface 3a.例文帳に追加

半導体基板1に集束イオンビーム5を照射して、その主面3aに固浸レンズとして作用する凸部2を形成する。 - 特許庁

METHOD FOR SIMULATION OF AIR ORBIT IN IMMERSION TREATMENT OF OBJECT MATTER AND COMPUTER-READABLE PROGRAM FOR PERFORMING SIMULATION METHOD THEREOF BY COMPUTER例文帳に追加

被浸漬処理物における空気軌道のシミュレーション方法およびこのシミュレーション方法を実行するコンピュータが実行可能なプログラム - 特許庁

In the immersion nozzle, refractories obtained by forming zirconium carbide on the surfaces of zirconium oxide raw material grains are applied to powder line parts 2.例文帳に追加

酸化ジルコニウム原料粒子表面に炭化ジルコニウムを生成させた耐火物を浸漬ノズルのパウダーライン部2に適用した浸漬ノズル。 - 特許庁

An immersion lithographic apparatus is disclosed that includes a fluid confinement system configured to confine fluid to a space between a projection system and a substrate.例文帳に追加

投影システムと基板との間の空間に流体を閉じ込める流体閉じ込めシステムを含む液浸リソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

Afterwards, this photocatalyst film (4) is immersed into an immersion solution containing photo-sensitized dyes, and the dyes are adsorbed onto the surface of the photocatalyst film.例文帳に追加

その後、この光触媒膜(4)に、光増感色素を含む浸漬液に浸して光触媒膜の表面に同色素を吸着させた。 - 特許庁

To enable further reducing the absorbance of bicyclohexyl suitable as a liquid for liquid-immersion exposure with high light transmittance at 193 nm wavelength.例文帳に追加

193nmにおける透過性に優れる液浸露光用液体として好適なビシクロヘキシルの吸光度をより低下させることができる。 - 特許庁

A pipe-like waterproofing cover 12 for preventing water immersion into a braking device 2 is arranged around the braking device 2 of the winding machine.例文帳に追加

巻上機のブレーキ装置2の周囲には、ブレーキ装置2内への浸水を防止するために管状の防水カバー12が配置されている。 - 特許庁

A guide roller 12, an immersion roller 13, squeezing rollers 14 and 15 and squeezing rollers 16 and 17 are arranged at the upper part of a sizing tank 11.例文帳に追加

糊付け槽11の上方にはガイドローラ12、浸漬ローラ13、絞りローラ14,15及び絞りローラ16,17が配設されている。 - 特許庁

To provide an immersion lithography apparatus for projecting an image pattern to a target surface of a workpiece through liquid on the target surface.例文帳に追加

ワークピースの目標面上の液体を通してこの目標面上に像パターンを投影させる液浸リソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having a proper profile, by preventing liquid used in immersion lithography from affecting a resist pattern.例文帳に追加

液浸リソグラフィに用いる液体によるレジスト膜への影響を防止して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle for continuous casting, with which the clogging of the nozzle can be prevented over a long term without executing the blowing of inert gas.例文帳に追加

不活性ガスの吹き込みを行うことなく、ノズル閉塞を長期に亘って防止し得る連続鋳造用浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate carrying device capable of preventing the liquid from adhering to a substrate before an exposure processing based on an immersion method.例文帳に追加

液浸法に基づく露光処理の前に、基板に液体が付着するのを防止することができる基板搬送装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, only surface refining treatment having favorable reproducibility is employed to control the surface tension, whereby required surface tension is readily obtained, and it is not necessary to regulate the surface tension after completing the formation of the liquid immersion status afterward, whereby the oil immersion exposure process can be finished simply.例文帳に追加

しかも、表面張力を制御するために再現性のよい表面改質処理しか使用しないため、所望の表面張力が得られやすいと共に、液浸状態の完成後において表面張力を事後的に調整する必要がないため、液浸露光工程が簡単で済む。 - 特許庁

The immersion lithography fluid control system includes an exposure region 40 in a gap between an optical member 4, such as a lens, and a workpiece (W) arranged in opposition to the optical member and a fluid control device that holds an immersion fluid in a region in the vicinity of the exposure region.例文帳に追加

液浸リソグラフィ用の流体制御システムは、レンズのような光学素子4と、光学部材に対向して配置されるワークピース(W)との間のギャップ内の露光領域40おびその近傍の領域に液浸流体を保持しておく流体制御デバイスを備えている。 - 特許庁

Preferably in this case, induction heating is performed by the induction coil disposed near the inner and outer surfaces of the immersion nozzle, and the immersion nozzle has a gas blowing section composed of porous body refractories including carbon, and the other nozzle body surface exclusive of the gas blowing section is covered with an antioxidant.例文帳に追加

この場合、浸漬ノズルの内外面に近接配置した誘導コイルにより誘導加熱を行うこと、および、浸漬ノズルは、カーボンを含む多孔体耐火物からなるガス吹き込み部を有すると共に、該ガス吹き込み部を除く他のノズル本体表面を酸化防止剤で被覆することが好ましい。 - 特許庁

To provide an immersion oil for a microscope, that can keep its inherent low fluorescency over a long period of time, has good chracteristics such as refractive index, Abbe number, viscosity, resolving power, etc., requiered for an immersion oil for microscope, and is especially suitable for a fluorescent microscope.例文帳に追加

それ自体の低蛍光性を長期間に亘って維持することができ、屈折率、アッベ数、粘度、解像力など顕微鏡用液浸油に要求される諸性質も良好であり、特に蛍光顕微鏡用として好適な顕微鏡用液浸油を提供すること。 - 特許庁

To provide a water immersion detecting device for an underwater motor, which can prevent defects in the insulation of a motor coil in advance, by securely detecting water immersion of only several % when the stop time of the underwater motor is short and during the operation of the underwater motor which could not be detected precociously.例文帳に追加

検出不可能であった水中モータの停止時間が短い場合のほか、水中モータの運転中における僅か数%の水の浸入でも確実に検出し、モータコイルの絶縁不良等を未然に防止することができる水中モータの浸水検知装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a high refractive index liquid for liquid immersion exposure capable of forming a pattern having more excellent resolution by preventing elusion and dissolution of a photoresist film or its overlying film component and suppressing deterioration of a pattern shape and capable of being reused and purified, and to provide a liquid immersion exposure method employing the liquid.例文帳に追加

液浸露光方法において、屈折率が大きく、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分の溶出や溶解を防ぎ、パターン形状の劣化を抑え、より解像度の優れたパターンを形成できるとともに、液体の再利用および精製が容易である。 - 特許庁

The adhesive for the immersion nozzle is for adhering the ceramic fiber sheet onto the outer periphery of the immersion nozzle and comprises a mixture paste containing 40-80 wt.% colloidal silica and 60-20 wt.% powdery bulk fiber comprising at least one chosen from alumina, silica, mullite and zirconia.例文帳に追加

浸漬ノズルの外周にシート状セラミックファイバーを接着する浸漬ノズル用接着剤であって、コロイダルシリカ40〜80wt%と、アルミナ、シリカ、ムライト及びジルコニアの少なくとも一種以上からなる粉末状バルクファイバー60〜20wt%とのペースト状の混合物から構成されている。 - 特許庁

In the local immersion-type ultrasonic probe, a through-hole 1 is formed in the central part of a membrane 6, which is arranged in a part coming into contact with the surface of a material 3, to be flaw-sensed, at a cylinder 5 which ensures local immersion, and a water supply passage 9 which supplies liquid into the cylinder 5 is formed.例文帳に追加

局部的な水浸を確保する筒体5の被探傷材3表面と接触する部分に配置した膜体6の中央部に、貫通孔10を設けるとともに、前記筒体5内に液体を供給する水供給通路9を設けた局部水浸型超音波探触子1。 - 特許庁

The immersion sensor 1 includes a housing body 3 in which the optical fiber 2 for detection is drawn; a swelling material 4 provided for the inside of the housing body 3; and a movable piece 5 for bending the optical fiber 2 for detection by being displaced by the swelling of the swelling material 4 due to immersion into the housing body 3.例文帳に追加

検知用光ファイバ2が引き込まれる収容体3と、収容体3内に設けられた膨潤材4と、収容体3内への浸水による膨潤材4の膨潤によって変位して検知用光ファイバ2に曲げを与える可動片5と、を備えた浸水センサ1。 - 特許庁

The immersion nozzle for continuous casting is equipped with two spouting holes 2 opposite to each other at the position of side face 1b near a bottom part 1a of the cylindrical nozzle body 1, but does not have the circulating flow generating mechanism that gives circulating flow velocity in the circumferential direction to the down flow inside the immersion nozzle.例文帳に追加

円筒状のノズル本体1における底部1a近傍の側面1bの対向位置に2つの吐出孔2を有し、浸漬ノズル内下降流に円周方向の旋回流速を付与する旋回流付与機構を内部に有していない連続鋳造用浸漬ノズルである。 - 特許庁

To provide a treated copper foil which provides high peeling strength with an insulating resin substrate although it has a low roughness, and after moisture absorption treatment, has the small deterioration rate of the peeling strength after immersion in an activation processing liquid and the small penetration amount after immersion in the activation processing liquid, and which is excellent in etching property.例文帳に追加

低粗度でありながら絶縁性樹脂基材と強固な引きはがし強さが得られ、吸湿処理後、活性処理液浸漬後に引きはがし強さの劣化率が小さく、活性処理液浸漬後にしみ込み量が少なく、エッチング性に優れた処理銅箔を提供すること。 - 特許庁

There are provided a liquid supply device 7 and a liquid recovery device 8 for forming a liquid immersion space LS so that at least a part of an optical path of an exposure light is filled with a liquid, and a liquid immersion area is movable from one to the other between a substrate holding part P and a plate member T.例文帳に追加

露光光の光路の少なくとも一部が液体で満たされるように液浸空間LSを形成するために液体供給装置7及び液体回収装置8を備えるもので、基板保持部Pとプレート部材Tで一方から他方へ液浸領域が移動可能である。 - 特許庁

The liquid being used in liquid immersion exposure device or method performing exposure through a liquid filling the space between the lens of a projection optical system and a substrate is a chain-like saturated hydrocarbon compound which takes a liquid state in the operating temperature region of the liquid immersion exposure device.例文帳に追加

投影光学系のレンズと基板との間に満たされた液体を介して露光する液浸露光装置または液浸露光方法に用いられる液体であって、該液体は、液浸露光装置が作動する温度領域において液状であり、鎖状飽和炭化水素化合物である。 - 特許庁

To provide liquid for liquid immersion exposure exhibiting a large refractive index in the liquid immersion exposure, capable of preventing elution or dissolution of the components of a photoresist film or its overlying film, and suppressing defect at the time of forming a resist pattern.例文帳に追加

液浸露光方法において、屈折率が大きく、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分の溶出や溶解を防ぎ、レジストパターンの生成時の欠陥を抑えることができる液浸露光用液体およびその液体を用いた液浸露光方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The exposure device irradiates a resist film with exposure light through a mask 72 at an exposure section 20 while arranging immersion liquid 71 on the resist film formed on a wafer 70, and an immersion liquid supply section 30 supplies the liquid 71 to the pattern exposure section 20.例文帳に追加

露光装置は、露光部20において、ウェハ70上に形成されたレジスト膜の上に液浸用の液体71を配した状態で、レジスト膜にマスク72を介した露光光を照射し、液浸用液体供給部30は液体71をパターン露光部20に供給する。 - 特許庁

The waste water containing the formed insolubilized matter is introduced into the membrane immersion vessel 10 which has a settling section and a supernatant liquor section and is provided with an immersion membrane separating means 13 The waste water is thereby subjected to the solid-liquid separation to be separated into the treated water permeated through the membrane and the sludge settled and thickened in the settling section.例文帳に追加

生成する不溶化物を含む排水を、沈殿部と、上澄液部とを有し、上澄液部に浸漬膜分離手段13が設けられた膜浸漬槽10に導入し、膜を透過した処理水と、沈殿部に沈降して濃縮された汚泥とに固液分離する。 - 特許庁

The immersion cylinder 13, in which at least the inner surface of the lower end opening hole part in the immersion cylinder 13 is formed as non-circular horizontal sectional shape almost along the outer-edge shape in an area where the circulation flow 20 exists is used to apply the vacuum-refining of the molten steel 16.例文帳に追加

この際に、浸漬管13の少なくとも下端開口部の内面が、下端開口部において循環流20が存在する領域の外縁形状に略沿った非円形の水平断面形状を有する浸漬管13を用いて、溶鋼16の真空精錬を行う。 - 特許庁

The distance from the solder detachment position on a primary nozzle 12 side of a work W to a solder immersion starting position on a secondary nozzle 13 side is set to be not more than two times the distance from the solder immersion starting position on the primary nozzle 12 side of the work W to the solder detachment position on the primary nozzle 12 side.例文帳に追加

ワークWの一次ノズル12側のはんだ離脱位置から二次ノズル13側のはんだ浸漬開始位置までの距離を、ワークWの一次ノズル12側のはんだ浸漬開始位置から一次ノズル12側のはんだ離脱位置までの距離の2倍以下とする。 - 特許庁

An exposure apparatus using an immersion lithography method includes a projection lens 31 for projecting an exposure light which transmits through the mask 22 having a design pattern to a resist film, and a solution supply unit 40 for temporarily storing an immersion solution 21A disposed between the resist film and the lens.例文帳に追加

浸漬リソグラフィ法を用いる露光装置は、設計パターンを有するマスク22を透過した露光光をレジスト膜に投影する投影レンズ31と、レジスト膜とレンズとの間に配する浸漬溶液21Aを一時的に貯留する溶液供給部40とを含んでいる。 - 特許庁

The immersion detection module 8 leaks light from a gap 2 during immersion since the gap 2 connected to a vacant hole of a clad part on a bent part applied when performing installment of an optical fiber 1 to the optical fiber 1 having the vacant hole in the clad part or in the vicinity thereof.例文帳に追加

浸水検知モジュール8では、クラッド部に空孔を有した光ファイバ1に対して、当該光ファイバ1の設置を行う際に加えられる曲げ部分またはその近傍に、クラッド部の空孔につながる間隙2を持っているので、浸水時に間隙2から光が漏れる。 - 特許庁

To provide the shape of an immersion nozzle with which a steel having small quantity of non-metallic inclusion defect can stably be cast by floating up the non-metallic inclusion stored on the bottom surface of the immersion nozzle to the upper part without again entraining into molten steel, in a continuous casting of the steel.例文帳に追加

鋼の連続鋳造において浸漬ノズルの底面に溜まった非金属介在物を再び溶鋼に巻き込むことなく上部に浮上させることで、非金属介在物欠陥の少ない鋼を安定して鋳造可能とする浸漬ノズルの形状を提供する。 - 特許庁

In the step of backwashing by the addition of a chemical, a step of neutralizing or reducing chemical backwashing wastewater discharged from a chemical injection step and a step of immersion in a chemical are concurrently started so that the neutralization or reduction and wastewater discharge are finished within the time for immersion in the chemical.例文帳に追加

薬品添加逆洗工程において、薬品注入工程において排出された薬品洗浄排水を中和還元するための中和還元処理工程を、薬品浸漬工程と並行して開始するようにして、薬品浸漬時間内に中和還元処理および排水を完了する。 - 特許庁

In at least a part of exposure of a substrate, the substrate is moved below the liquid immersion member and the cleaning member, and in at least a part of the exposure of the substrate, the immersion space is formed between the emission surface and a surface of the substrate and between at least a part of the undersurface and the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の露光の少なくとも一部において、液浸部材及びクリーニング部材の下方で基板が移動され、基板の露光の少なくとも一部において、液浸空間は、射出面と基板の表面との間及び下面の少なくとも一部と基板の表面との間に形成される。 - 特許庁

例文

To obtain a liquid immersion microscope device which is used by filling space between a lens part in the objective lens barrel of a liquid immersion microscope and a sample with liquid, and which surely detects the existence of liquid supplied to a sample surface or liquid adhering to the sample surface.例文帳に追加

本発明は、液浸顕微鏡の対物レンズ鏡筒のレンズ部と試料との間を液体で満たして使用される液浸顕微鏡装置に関し、試料面に供給された液体あるいは試料面に付着した液体の有無を確実に検出することを目的とする。 - 特許庁




  
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