「radiation solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition contains: (a) a resin which contains a repeating unit having a phenyl group or a cyclohexyl group in the side chain and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkali developer solution; (b) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; and (c) a solvent.例文帳に追加

（ａ）側鎖にフェニル基又はシクロヘキシル基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び（ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（１）（Ａ）イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type silicon-containing photosensitive composition contains (a) a polysiloxane or polysilsesquioxane having a group decomposable by a carboxylic acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid, (b) a compound which generates the carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸により分解しうる基を有し、かつアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、（ｄ）溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing specified repeating units such as repeating units each with a norbornene structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with an active light or radiation.例文帳に追加

ノルボルネン構造を有する繰り返し単位等の特定の繰り返し単位等を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has a repeating unit of a specified norbornane structure having a hetero atom in the side chain and of which the solubility to an alkaline developing solution increases by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖にヘテロ原子を有する特定のノルボルナン構造をもった繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound of a specified formula.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに（Ｃ）特定の化学式で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is characterised by containing: (A) a resin which has at least one kind of repeating unit having at least two groups of specified structures and which increases the solubility with an alkaline developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の基を少なくとも２つ有する繰り返し単位を少なくとも１種類有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The organic gel is easily synthesized inside pores of a spherical inorganic porous particle by impregnating the spherical inorganic porous particle with a solution containing a monomer and a crosslinking agent and effecting polymerization by heat, radiation or the like from the outside.例文帳に追加

これらの課題を解決するために鋭意検討を行った結果、球形無機多孔質粒子に単量体と架橋剤を含む溶液を含浸し、外部からの熱、放射線等で重合することで容易に球形無機多孔質粒子の細孔内部に有機ゲルを合成することを見いだし、本発明に至った。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having an organic group of a specified structure and having the solubility to an alkali developer solution increased by the effect of an acid; (B) a compound generating a fluorine-substituted alkane sulfonic acid having 2 or 3 carbon atoms upon irradiation with active rays or radiation; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の有機基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によりフッ素置換された炭素数２または３のアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: (A) a resin having an alicyclic structure and showing changes in a dissolving rate with a developing solution by an action of an acid; (B) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a compound expressed by general formula (EA).例文帳に追加

本発明に係るレジスト組成物は、（Ａ）脂環構造を備え且つ酸の作用により現像液に対する溶解速度が変化する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物と、（Ｃ）下記一般式（ＥＡ）により表される化合物とを含有したレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a vaporizer securing a long route of a reaction tube and further stirring carrier gases resulting from diffusing a raw material solution in a direction crossing a passing direction with a centrifugal force that is generated when passing the inside, to promote uniform vaporization using radiation heat from a heater.例文帳に追加

反応管の経路を長く確保することができるうえ、その内部を通過する際に発生する遠心力により原料溶液を分散したキャリアガスが通過方向と交差する方向に攪拌されることにより満遍なくヒータからの輻射熱による気化を促進することができる気化器を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which has at least one repeating unit selected from units expressed by general formulae (I) to (III) and increases the solubility with an alkaline developing solution by the effect of an acid; and a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記の一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）から選択される少なくとも１つの繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, (B) a resin showing an increase in dissolution rate with an alkali developing solution by an action of an acid, and (C) a hydrophobic resin.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The method for producing far-infrared emitters comprises a process for applying a silane coupling agent solution in which far-infrared ray-emitting fine particles are dispersed onto the surface of the substrate and a process for irradiating radiation onto the surface of the substrate applied with the silane coupling agent in which the fine particles are dispersed, and the silane compound is chemically bonded onto the surface of the substrate by radiation graft polymerization.例文帳に追加

遠赤外線を放射する微粒子が、基体の表面上に、シラン化合物の基体表面への化学結合により結合されてなる遠赤外線放射体の製造方法であって、基体表面に遠赤外線を放射する微粒子を分散したシランカップリング剤溶液を塗布する工程と、微粒子を分散したシランカップリング剤溶液が塗布された基体表面に放射線を照射する工程とを含み、シラン化合物の基体表面への化学結合が放射線グラフト重合であることを特徴とする。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (B) a resin comprising a repeating unit having a partial structure represented by formula (X) on a side chain and a repeating unit having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記の一般式（Ｘ）で表される部分構造を側鎖に有する繰り返し単位及び特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A multilayer laminate having at least one layer obtained by molding a raw material resin containing the ultra-high molecular weight polyolefin having a limiting viscosity measured by a decalin solution of 135°C of at least 5 dl/g is irradiated with radiation under conditions to make the gel fraction of the layer 50-95 mass% to be coated on the adherend.例文帳に追加

１３５℃のデカリン溶液で測定した極限粘度が５dl／g以上の超高分子量ポリオレフィンを含有した原料樹脂を成形加工してなる層を少なくとも一層有する多層積層体に、該層のゲル分率が５０質量％〜９５質量％になるような条件で放射線を照射し、被着体に被覆する。 - 特許庁

The positive-acting photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an onium salt compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and at least one of a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生するオニウム塩化合物及びフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that can give a resist coating showing a high dynamic contact angle during exposure in an immersion exposure process, thereby showing excellent draining capability on the surface of the resist coating as well as high solubility with an alkali developing solution and with a rinsing liquid, and suppressing occurrence of a development defect.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A method for producing a functional article comprises forming a primer layer on a substrate and bonding a functional thin film using silanol groups formed on the surface of the primer layer, wherein after the formation of the primer layer, the primer layer is subjected to a treatment selected from the group consisting of contact with an acidic solution having a pH of 0-4, corona discharge, and ultraviolet radiation.例文帳に追加

機能性物品の製法は、基材上にプライマー層を形成し、プライマー層表面に形成されるシラノール基で機能性薄膜との結合を行うもので、プライマー層形成後に、プライマー層に対してｐＨ０乃至４の酸性溶液の接触、コロナ放電、紫外線照射の群から選ばれるいずれかの処理を行うこと。 - 特許庁

To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape.例文帳に追加

高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。 - 特許庁

In the cellulose acylate film produced by a solution film casting method, the cellulose acylate film is produced by processes comprising a film casting process for casting a cellulose acylate composition containing a cellulose acylate, a polymerizable group-containing monomer (A), a photothermal converting agent (IR) and a thermal polymerization initiator (I) and an infrared ray radiation process.例文帳に追加

溶液流延方法により形成されるセルロースアシレートフィルムにおいて、セルロースアシレート、重合性基含有のモノマー（Ａ）、光熱変換剤（ＩＲ）、及び熱重合開始剤（Ｉ）を含有するセルロースアシレート組成物を流延する流延工程と近赤外線照射の工程とを含む工程により作製されたことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing repeating structural units each having a specified bridged alicyclic structure and repeating structural units each having a specified acetal structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のアセタール構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which has a cationic moiety having at least one phenolic hydroxyl group and a specified anionic moiety and which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）フェノール性ヒドロキシ基を少なくともひとつ有するカチオン部と特定のアニオン部とを有する活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, (C) a basic compound of formula (I) and (D) an organic solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される塩基性化合物、及び（Ｄ）有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin which has a partial structure having a hydroxyl group replaced with a hydrocarbon group, has 120 to 180°C glass transition temperature, is decomposed by an acid and has its dissolution rate in an alkaline developing solution increased, (B) a compound which generates an acid by irradiation with an active ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）水酸基が脂肪族環状炭化水素基に置換した部分構造を有し、ガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃である、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a specified repeating unit expressed by general formula (I) and a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｃ）溶済を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

A method for producing an amine type anion exchange fiber comprises graft-polymerization of a base material of a non-woven fabric or a mono filament-shape made of a polyolefin fiber or a polyethylene-coated polypropylene fiber with N-vinyl formamide by a radiation graft-polymerization method, and then treatment of a formamide group to be its graft-side chain with a NaOH solution to convert into an amino group.例文帳に追加

放射線グラフト重合法により、ポリオレフィン系繊維又はポリエチレン被覆ポリプロピレン繊維から成る不織布又は単繊維形状の基材に、Ｎ−ビニルホルムアミドをグラフト重合した後に、そのグラフト側鎖であるホルムアミド基をＮａＯＨ溶液で処理してアミノ基に変換したアミン型陰イオン交換繊維の製造方法。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、主査に特定の脂環式構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which is insoluble or hardly soluble with an alkali developer solution and becomes soluble with an alkali developer liquid by the effect of an acid; and (C) a compound having a group which reacts with an acid group to bond by the effect of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）酸の作用により酸基と反応して結合し得る基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin having repeating units with a specified alicyclic lactone structure, further having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and at least two specified compounds which generate acids when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び他に脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、特定の構造の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を少なくとも２種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and (C) a compound represented by a specified structure and containing a sulfonimide structure in its molecule.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の構造で表される分子内にスルホンイミド構造を含む化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having a specified repeating unit having a norbornane lactone structure and having the solubility with an alkaline developing solution increased by the effect of an acid; (B) a compound which generates specified sulfonic acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) solvent.例文帳に追加

（Ａ）ノルボルナンラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono-or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure in the principal chain or in a side chain, is decomposed by the action of the acid and increases its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound represented by a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を、主鎖または側鎖に有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains (A) a specified acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (C) a specified basic compound and (D) a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の塩基性化合物、及び（Ｄ）フッ素及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern capable of effectively preventing occurrence of halation and stationary waves at the time of forming, on a highly reflective film like a metallic film, a positive chemically amplifiable resist having a fundamental composition comprising an acid generating compound by irradiation with radiation and a resin to be increased in solubility in an aqueous alkaline solution by action of an acid.例文帳に追加

放射線照射により酸を発生する化合物及び酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分から成る基本組成を有するポジ型化学増幅型レジストを金属膜などの高反射性膜に施す際に、有効にハレーション及び定在波の発生を防止してレジストパターンを形成しうる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition free of any safety problem, excellent in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a good development margin that a good pattern profile can be formed in a developing step even after the lapse of the optimum developing time, and to provide an interlayer dielectric and microlenses formed of the same.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること - 特許庁

The positive resist composition for liquid immersion exposure comprises: (A) a resin having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having the solubility with an alkali developing solution which increases by the effect of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; (C) a nitrogen-containing compound having no hydroxyl group; and (D) solvent.例文帳に追加

（Ａ）単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）水酸基を含有しない含窒素化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) an acid generator that generates an acid upon irradiation of an active ray or radiation, (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) at least two basic compounds different from each other in structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）構造の異なる少なくとも２種類の塩基性化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

In a positive resist composition comprising (A) a resin component having solubility in an alkaline aqueous solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with a radiation, the component (B) is a mixture of (b_1) cyano-containing oximesulfonate compounds and (b_2) bissulfonyldiazomethanes and/or onium salts.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、上記（Ｂ）成分が、（ｂ_1）シアノ基含有オキシムスルホネート化合物類と、（ｂ_2）ビススルホニルジアゾメタン類又はオニウム塩類、あるいはその両方との混合物であるポジ型レジスト組成物とする。 - 特許庁

The method for producing the particulate molding comprising protein comprises mixing a raw material containing powdery protein with water or a buffer solution to concentration of 0.00025-0.1 wt.% to prepare a raw material mixture and irradiating the prepared raw material mixture with an ionizing radiation at a dose of 100 Gy to below 200 kGy.例文帳に追加

タンパク質からなる粒子状成形体の製造方法は、粉末状のタンパク質を含む原料と水又は緩衝液とを０．０００２５〜０．１重量％になるように混合することにより原料混合液を調製し、調製した原料混合液に電離性放射線を１００Ｇｙ以上２００ｋＧｙ未満の照射線量で照射する。 - 特許庁

The microplate characterized in that it is provided with a substrate, a well storing the solution to be inspected formed on the surface at one side of the substrate, an optical waveguide layer formed at a part or all of the bottom of the well, and an optical incident member and optical radiation member individually formed on a surface nearby both ends in the longitudinal direction of the optical waveguide layer.例文帳に追加

基板と、前記基板の一方の面に形成された被検体溶液を収容するためのウエルと、前記ウエル底部の一部または全てに形成された光導波路層と、前記光導波路層の長手方向の両端部付近表面にそれぞれ形成された光入射部材および光放射部材とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

The positive photoresist composition for manufacture of an LCD comprises: (A) an alkali-soluble resin comprising a novolac resin having 100 to 400 nm/sec alkali solubility with a 2.38 mass% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide; (B) a compound which generates an acid by irradiation of radiation; and (C) a crosslinkable polyvinylether compound.例文帳に追加

（Ａ）２．３８質量％テトラメチルアンモニムヒドロキシド水溶液に対するアルカリ溶解性が１００〜４００ｎｍ／秒の範囲であるノボラック樹脂からなるアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）架橋性ポリビニルエーテル化合物を含有することを特徴とするＬＣＤ製造用のポジ型ホトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains a compound which generates a 2-4C fluorine substituted alkanesulfonic acid when irradiated with active light or radiation, a resin having a specified alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid, a basic compound and a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により炭素数２〜４のフッ素置換アルカンスルホン酸を発生する化合物と、特定の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂と、塩基性化合物と、フッ素及び／又はシリコン系界面活性剤とを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (a) a resin in which a group which is released by decomposition by the action of an acid contains at least one fluorine atom and a cyclic structure and which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an aqueous alkali solution, (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (c) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸の作用による分解で離脱する基が、少なくとも１つのフッ素原子と環状構造とを含有する、酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解性が向上する樹脂、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁