「radiation solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Since a heat insulating grip 4 is mounted to the outer periphery of the container body 2, the medical solution is prevented from volatilization caused by heat transfer (conduction and radiation) of a body temperature from the user's fingers, thereby preventing excessive dripping not intended by the user.例文帳に追加

容器本体２の外周には断熱性グリップ４が取り付けられているので、ユーザの手指からの体温の伝熱（伝導、輻射）による薬液の揮発を防止してユーザの意図しない過剰な滴下を防止することができる。 - 特許庁

A hard-coated layer is formed by irradiating an amorphous polyolefin resin base with active energy radiation after treating the surface of the base to make it hydrophilic and applying a hard coat solution containing (A) a polyfunctional acrylate, (B) an aminosilane and (C) colloidal silica.例文帳に追加

非晶質ポリオレフィン樹脂基材の表面を親水化処理し、次いで（Ａ）多官能アクリレート、（Ｂ）アミノシランおよび（Ｃ）コロイダルシリカを含有するハードコート液を塗布した後、活性エネルギー線を照射してハードコート層を形成させる。 - 特許庁

Each of the radiation sensitive resist compositions contains a resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent, a solvent and a specified alicyclic or aromatic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が変化する樹脂、光酸発生剤、溶剤、及び、特定の脂環式又は芳香環式化合物を含有してなることを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a silicon-containing positive photoresist which has high resolution with respect to a radiation of ≤300 nm, particularly KrF (248 nm) or ArF (193 nm), exhibits excellent dry etching resistance and can be developed with an aqueous alkali solution.例文帳に追加

３００ｎｍ以下、特にＫｒＦ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（１９３ｎｍ）などの放射線に対して高分解能で優れたドライエッチング耐性を示し、アルカリ水溶液で現像することのできるシリコン含有ポジ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and an N,N-dialkylcarboxylic acid amide.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及びＮ，Ｎ−ジアルキルカルボン酸アミドを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The porous material having its inside pore surface coated with a transition metal is prepared as follows: the pores of a porous material are impregnated with a solution containing a transition metal compound; then, the material is dried, irradiated with a radiation, and heated.例文帳に追加

多孔質材料の細孔中に、遷移金属化合物を含む溶液を含浸し、乾燥後、当該多孔質材料に放射線を照射し、次いで加熱処理を行った細孔内表面を遷移金属でコートした多孔質材料。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition solution having ≤1×10-3 milliequivalent/g acid component content and suitable for use as a minute pattern forming resist.例文帳に追加

本発明のネガ型感放射線性樹脂組成物溶液は、組成物溶液中の酸成分の含有量が１×１０^-3ミリ当量／ｇ以下の範囲に調整されており、微細パターン形成用のレジストとして好適に使用される。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and an acetylene alcohol derivative.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及びアセチレンアルコール誘導体を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The artificial nail composition for forming an artificial nail by hardening with ultraviolet radiation contains an ionic monomer polymerizable with ultraviolet radiation, especially a specific acid-reactive monomer (e.g. 2-dimethylaminoethyl methacrylate or 3-dimethylaminopropyl acrylamide), and thereby is made to be removable with an acidic solution having a pH of ≤3.5.例文帳に追加

紫外線照射により硬化して人工爪を形成するために用いられる人工爪組成物において、該組成物中に紫外線の照射により重合可能なイオン性モノマー、特には特定の酸応答性モノマー（例えば、２−ジメチルアミノエチルメタクリレート、３−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド等）を含有することで、ｐＨ３．５以下の酸性溶液による除去を可能とした。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive resin composition contains at least (a) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution, (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (c) an organic carboxylic acid compound, (d) a basic compound and (e) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、（ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）有機カルボン酸化合物、（ｄ）塩基性化合物、及び（ｅ）溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The invention relates to a 5-aminolevulinic acid ester (E-ALA) solution for producing a pharmaceutical preparation useful for diagnosing and/or treating tissue pathologies and/or cell pathologies by local radiation exposure using radiation emitted by a light source energy followed, in the case diagnosis, by detection of fluorescent protoporphyrin IX (PpIX).例文帳に追加

診断時には、プロトポルフィリンＩＸ（ＰｐＩＸ）から放射された蛍光の検知が次いで行われる、光エネルギ源から放射された放射線の局部的照射による、組織病変部および／または細胞病変部の診断および／または治療に使用できる調剤薬を調製するための、５−アミノレブリン酸エステル（Ｅ−ＡＬＡ）溶液に関する。 - 特許庁

The composition contains: (A) a fluorine atom-containing resin which has a fluorine atom and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility to an alkali developing solution; (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation; (C) an ammonium salt which does not decompose by irradiation with active rays or radiation; and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素原子含有樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により分解しないアンモニウム塩及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved under heat to separate two or more components including a radical species and/or an ionic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び熱により結合が開裂して、ラジカル種及び／又はイオン性化合物を含む２成分以上に分離する化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates a strong acid when irradiated with active light or radiation, (B) resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound which generates a carboxylic acid having a steroid structure when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）活性光線または放射線の照射により強酸を発生する化合物 （Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂 （Ｃ）活性光線または放射線の照射によりステロイド構造を有するカルボン酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This radiation measuring device 18 is equipped with: an ionization chamber 24 having a cylindrical internal electrode 28 storing inside a stock solution vial 16 for storing radioactive liquid, and a cylindrical external electrode 30 enclosing the internal electrode 28 and having open upper and lower ends; and a support base 26 for supporting the stock solution vial 16 in the internal electrode 28.例文帳に追加

放射線測定装置１８は、放射性液体を貯留する原液バイアル１６を内部に収容可能な筒型の内電極２８、及び内電極２８を取り囲む筒型の外電極３０を有し、上端及び下端が開放された電離箱２４と、内電極２８内で原液バイアル１６を支持する支持台２６と、を備える。 - 特許庁

The positive resist composition is characterized in that it contains (a) a polymer which has a silicon atom in a side chain, is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and has a specified phenacylsulfonium structure.例文帳に追加

(ａ) 側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリ水溶液に不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるポリマー、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のフェナシルスルホニウム構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

Thus, slurrying of the circulating electrolyte solution by the solid object and the occurrence of various problems generated due to the slurry (for example, failure due to overheating of the system by deterioration of heat radiation and deterioration or the like of oxygen supply by an oxygen supply means) can be suppressed for a long time without carrying out exchange of the electrolyte solution.例文帳に追加

よって、固形物によって循環される電解液がスラリー化し、それによって発生する種々の問題（例えば、放熱性の悪化によるシステムの過熱に伴う不具合や、酸素供給手段による酸素供給性の悪化など）の発生を、電解質液の交換を行うことなく、長時間に亘って抑制することができる。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin insoluble or hardly soluble with an alkali developing solution and changed into soluble with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (C) a compound having at least one cyclic ether group and at least one alicyclic group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基と、少なくとも１つの脂環基とを有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which is insoluble or hardly soluble in an alkali developer solution and becomes soluble in an alkali developer solution by the action of an acid; and (C) a basic compound having at least one cyclic ether group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation measuring device 18 includes an ionization chamber 24 having a cylindrical internal electrode 28 storing inside a stock solution vial 16 for storing a radioactive liquid and a cylindrical external electrode 30 enclosing the internal electrode 28 and having open upper and lower ends, and a support base 26 for supporting the stock solution vial 16 in the internal electrode 28.例文帳に追加

放射線測定装置１８は、放射性液体を貯留する原液バイアル１６を内部に収容可能な筒型の内電極２８、及び内電極２８を取り囲む筒型の外電極３０を有し、上端及び下端が開放された電離箱２４と、内電極２８内で原液バイアル１６を支持する支持台２６と、を備える。 - 特許庁

The biodegradable plant supplement is composed of a gel water- holding body produced by allowing a radiation-crosslinked body of γ- polyglutamic acid or a γ-polyglutamic acid salt to hold water or an aqueous solution of a plant supplement.例文帳に追加

本発明に係る生分解性植物補給剤は、γ—ポリグルタミン酸又はγ—ポリグルタミン酸塩の放射線架橋体に水分又は植物補給物質の水溶液を保水させたゲル状保水体から構成されることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a coating agent for a resist pattern, which is excellent in performance (curing performance) of insolubilizing and curing a resist pattern, and allows an insoluble resist pattern which is sufficiently stable against a subsequent exposure process, a developing solution and a positive radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

レジストパターンを不溶化して硬化させる性能（硬化性能）に優れ、その後の露光処理、現像液、及びポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なレジストパターンコーティング剤を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which comprises a combination of specified repeating units and increases the solubility with an alkali developer solution by the effect of an acid; and a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を組み合わせた、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a solvent and has 2-7 cP viscosity at 25°C.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有し、２５℃での粘度が２〜７センチポアズであるポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin having a specified alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when the resin is decomposed by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、特定の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (a) a resin having a specified structural unit and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition under the action of an acid and (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（ａ）特定の構造単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

When producing the hollow fiber membrane type module, a hollow fiber membrane of the hollow fiber membrane module constituted by filling a container with hollow fiber membranes, is sterilized by radiation while being humidified with the aqueous solution containing at least a polyvalent metal ion.例文帳に追加

中空糸膜が容器に充填されてなる中空糸膜モジュールの中空糸膜が、少なくとも多価金属イオンを含む水溶液で湿潤された状態で放射線滅菌することを特徴とする中空糸膜型モジュールの製造方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution increases by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has three kinds of specified repeating units and which increases the dissolution rate with an alkali developer solution by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by applying active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）３種の特定の繰り返し単位を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which contains three kinds of specified repeating units and which increases the dissolution rate with an alkali developer solution by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by applying active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）３種の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin which has a specified repeating unit and of which the solubility in an alkaline developing solution increases in the presence of an acid; and a compound which generates an acid by the action of active rays or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を含有する、酸によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ｂ） 活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having a chemical structure transparent to ArF excimer laser beams having a wavelength of 193 nm and high in resistance to dry etching, and a method for forming a negative pattern free from swelling and high in resolution and superior in developability by using an aqueous developing solution of widely used tetramethylammonium hydroxide.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmに透明かつドライエッチング耐性が高い化学構造を持ち、汎用のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液による現像で膨潤のない、解像性に優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye capable of preventing dye aggregation in a solution, making dendrimer formation easy, capable of absorbing or emitting radiation of longer than 800 nm, having desirable optical physical properties and imparted with tissue specific targeting ability.例文帳に追加

溶液における染料凝集を阻止し得、デンドリマーを形成しやすくさせ、８００ｎｍを越えて吸収または放射し得、望ましい光学物理特性を有し、組織特異的ターゲッティング能力が賦与されている染料を提供すること。 - 特許庁

To provide Pu (plutonium) quantitative analysis method capable of quantitatively analyzing Pu by using radiation measurement such as α-ray spectrometry even in an analysis target sample solution containing much impurity elements such as Ca interrupting α-ray measurement.例文帳に追加

Ｃａ等のα線計測を妨害する夾雑元素を多く含む分析対象試料溶液であっても、α線スペクトロメトリー等の放射線計測を用いてＰｕを定量分析することが可能なＰｕ定量分析方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a highly reliable nonaqueous electrolyte solution secondary battery in a structure with different kinds of separators at an inner periphery side and an outside sandwiching a cathode plate, with heat radiation restrained inside the battery at short circuit due to contact between electrode plates caused by heating or the like.例文帳に追加

正極板を挟んだ内周側と外側で、異種のセパレータを有する構成とし、加熱などが原因で生じる極板間接触による短絡時に、電池内部での発熱を抑制し、高信頼性の非水電解液二次電池を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter which causes neither chipping nor peeling on a pattern even when the discharge pressure of a developing solution is increased and can prevent the occurrence of residue and surface stain on a substrate in an unexposed area and on a light shielding layer.例文帳に追加

現像液の吐出圧を上げても、パターンに欠けおよび剥がれを生じることがなく、未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れが発生するのを防止しうるカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

The adhesive sheets for the vibration-damping material are obtained by forming the urethane polymer from a polyol and a polyisocyanate in a solution containing the acrylic monomer as an essential component, applying it to a temporary adhesion support or a substrate and curing it through radiation exposure.例文帳に追加

また、制振材用粘着シート類は、アクリル系単量体を主成分として含有する溶液中で、ポリオールとポリイソシアネートからウレタンポリマーを形成した後、仮着担持体または基材に塗布し、放射線を照射して硬化させて成る。 - 特許庁

This water absorbing polymer is obtained by applying electromagnetic or particulate ionized radiation to an aqueous solution of polyvinyl alcohol having anionic or cationic groups at an enough dosage to generate gel.例文帳に追加

ゲル生成用水溶液であるアニオン基又はカチオン基を有するポリビニルアルコールの水溶液に対し、ゲル生成に十分な線量となる電磁性又は粒子性のイオン化放射線を当てることにより得られることを特徴とする吸水性ポリマー。 - 特許庁

The active light sensitive or the radiation sensitive resin composition contains (A) a resin that has a repeating unit including structure represented by general formula (1) and a repeating unit including structure represented by general formula (I) and increases solubility in an alkali developing solution by the action of an acid, and (B) a compound that produces an acid by active light or radiation irradiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（１）で表される構造を含む繰り返し単位及び下記一般式（Ｉ）で表される構造を含む繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition comprises: a low molecular weight compound (1) having a molecular weight of 500 to 5,000 containing an acid-decomposable group (G) that is decomposed by an action of an acid to accelerate the dissolution in an alkali developing solution; and a compound (2) capable of generating an acid of 305 Å^3 or more in volume upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を促進させる酸分解性基（Ｇ）を有する分子量５００〜５０００の低分子化合物（１）および、活性光線又は放射線の照射により体積３０５Å^３以上の酸を発生する化合物（２）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with ionizing radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved by the acid to generate ionic compounds, at least one of which contains a compound nonreactive with a proton donative compound in the composition.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、電離放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び酸により結合が開裂してイオン性化合物を発生し、該イオン性化合物のうち少なくとも１つが組成物中のプロトン供与性化合物と反応しない化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a polymer which is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of the acid and (C) a nitrogen-containing compound which is decomposed by the action of the acid and generates a carboxyl group in its molecule.例文帳に追加

（１）（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ水溶液に不溶性又は難溶性であり、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となる性質を有するポリマー、及び、（Ｃ）酸の作用により分解して、分子内にカルボキシル基を発生する含窒素化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which contains a specified repeating unit, which is insoluble or hardly soluble with an alkali developing solution and changed into soluble with an alkali developing solution by the effect of an acid; and a compound which generates sulfonic acid by irradiation of active rays or radiation by 5 to 20 mass% with respect to the whole solid content of the positive resist composition.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液には不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物を、ポジ型レジスト組成物の全固形分を基準として、５〜２０質量％含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁