「radiation solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active rays or radiation, a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a specified mixed solvent.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び特定の混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains: a blend of two or more resins each having a specified lactone monomer unit and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂の２種以上のブレンドと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains: a resin having a plurality of specified lactone monomer units as constitutional units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位の複数種を構成単位として有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (a) a specified alkali-insoluble or slightly alkali-soluble polymer which has a silicon atom and a lactone structure in a side chain and is made soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a compound which generates the acid when irradiated with an active light or a radiation.例文帳に追加

(ａ）側鎖にシリコン原子及びラクトン構造を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となる特定のポリマー、及び（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive radiation-sensitive composition contains (A) at least one compound having a specified structure which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線の照射により酸を発生する特定の構造の化合物少なくとも１種、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has at least one kind of a recursive unit having at least one radical of a particular structure, and has solubility to an alkaline developing solution increased by the action of acid and (B) a compound that generates acid by the action of active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の基を少なくとも１つ有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has two kinds of repeating units each with a specified structure by at least one each and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の２種類の繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a norbornene-based repeating unit having a specified norbornane structure in the side chain and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に特定のノルボルナン構造をもったノルボルネン系繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having repeating structural units with a specified structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound having a specified structure and generating the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し構造単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound of a specified structure which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A pattern having a water-repellent/oil-repellent portion is formed using a radiation-sensitive resin composition, and a high refractive index resin solution using a solvent having a low wetting property to the water-repellent/oil-repellent portion is applied thereon to form two areas different from each other in refractive index.例文帳に追加

撥水・撥油性部位を持つパターンを感放射線性樹脂組成物を用いて形成し、その上に、撥水・撥油性部位に対し濡れ性が小さい溶剤を用いた高屈折率の樹脂溶液を塗布することにより、屈折率の異なる二つの領域を形成する方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit, specified molecular weight and a protection rate and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、特定の分子量・保護率を持つ、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The chemically amplified resist composition contains: (A) a resin which has a specified structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase its solubility with an alkaline developing solution; (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) a component having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する成分、を含有する化学増幅型レジスト組成物により達成される。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates and acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a polymer which has repeating units having specific two kinds of acetal structures and undergoes an increase in solubility in an alkaline developing solution by being decomposed under the action of an acid, a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation and a solvent.例文帳に追加

特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によって分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、および溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A positive resist composition is provided which comprises (A) a specified compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin having a specified repeating unit and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resist composition contains a silicon (Si)-containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent, a solvent and a basic compound having ≥5 repeating units with a specified structure as an average number (n) of repeating units.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加するケイ素（Ｓｉ）を含有する樹脂と、光酸発生剤と、溶剤と、特定構造の繰り返し単位を平均繰り返し単位数（ｎ）で５個以上有する塩基性化合物とを含有してなる感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resist composition contains (A) a resin containing Si atoms and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a photo-acid generating agent, (C) a solvent and (D) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する、シリコン原子を含有する樹脂、(Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a pattern forming technique capable of efficiently forming a high resolution pattern for use in microfabrication using a radiation sensitive composition as a photoresist which can be developed with an aqueous alkali solution, has high sensitivity characteristics and is reversed from negative type to positive type in accordance with dose.例文帳に追加

アルカリ水溶液によって現像可能であり、高感度な特性を有し、照射量によってネガ型からポジ型に反転する感放射線組成物をホトレジストに用いて、微細加工に用いる高解像度なパターンを効率よく形成することのできるパターン形成技術を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin containing a fluorine atom and having a group which is decomposed by the effect of a specified acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and a compound (B) which generates an acid by irradiation with active rays or radiation.例文帳に追加

特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を増大させる基を有し、フッ素原子を含有する樹脂（Ａ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) resin containing repeating units represented by a specified structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of acid and (B) a compound which generates acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin containing a specified repeating unit having a cyano group in a backbone and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

主鎖にシアノ基を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates a perfluoroalkanesulfonic acid when irradiated with active rays or radiation and a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射によりパーフルオロアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a polymer having repeating units with specified two acetal structures and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition under the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a solvent.例文帳に追加

特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This fabric sheet containing the water absorbing polymer is obtained by applying electromagnetic or particulate ionized radiation to a fabric substrate impregnated with an aqueous solution of polyvinyl alcohol having anionic or cationic groups at an enough dosage to generate gel.例文帳に追加

また、上記ゲル生成用水溶液であるアニオン基又はカチオン基を有するポリビニルアルコールの水溶液を含浸した繊維基体に対し、ゲル生成に十分な線量となる電磁性又は粒子性のイオン化放射線を当てることにより得られることを特徴とする吸水性ポリマーを含む繊維シート体。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates a sulfonic acid having a naphthalene structure when irradiated with active light or radiation of ≤220 nm wavelength and a resin whose solubility to an alkali developing solution is increased by the action of the acid.例文帳に追加

２２０ｎｍ以下の波長の活性光線または放射線の照射によりナフタレン構造を有するスルホン酸を発生する化合物と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition developable with an alkali developing solution having a normal concentration, capable of forming a resist pattern having high resolution and a rectangular cross-sectional shape as an ordinary line-and-space pattern and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液を適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で断面形状が矩形であるレジストパターンを形成することができ、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin containing repeating structural units each having a specified acid decomposable group and having the velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の酸分解性基を有する繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has a specific repeating unit having a norbornene structure at its side chain and is increased in solubility in an alkaline developing solution by the effect of an acid and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖にノルボルネン構造を有する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises: a resin (A) containing two specified repeating units having an alicyclic group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound (B) which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂環基を有する特定の繰り返し単位を２種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a compound which generates an acid upon exposure to actinic rays or radiation, (B) a resin of which solution rate in an alkali developer increases by an action of acid, and (C) a hydrophobic resin which contains a repeating unit derived from a monomer represented by the following general formula (1).例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin which is decomposed by the action of acids and increases its solubility in an alkali developing solution, a compound having an oxime sulfonate structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation and at least one selected from the group comprising compounds each represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、特定の構造で表されるオキシムスルホネート構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の構造で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の群から選択される少なくとも１種、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: (B) a resin containing a repeating unit having an arylcarbonyl group, represented by a specified structural formula, the resin which decomposes by the action of an acid to increase solubility with an aqueous alkali solution; and (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

特定の構造式で表される、アリールカルボニル基をもつ繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂（Ｂ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polymer composition having high radiation sensitivity and useful for forming a patterned polymer film obtained by development with an aqueous alkali solution and having high transparency, a low dielectric constant, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance and excellent adhesion to a substrate.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた重合体膜の形成に有用なポジ型感光性重合体組成物を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which has an aliphatic cyclic hydrocarbon group in the side chain and specified two repeating units and which increases the solubility rate with an alkali developer solution by the effect of an acid; and a specified trialkylsulfonium compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、特定の２つの繰り返し単位をもつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のトリアルキルスルホニウム化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) a nitrogen-containing compound containing at least one fluorine atom.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）少なくとも一つのフッ素原子を含有する含窒素化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound expressed by a specified formula.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに（Ｃ）特定の化学式で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a structure having a repeating unit expressed by formula (a) and the solubility of which with an alkali developing solution is increased by the effect of an acid; and (B) an acid generating agent which generates an acid by irradiation with active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記式（ａ）で表される繰り返し単位を有する構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基を有する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The concentrated developing solution for the radiation-sensitive composition is made of (A) an alkaline metal carbonate, (B) an alkaline metal hydrogen carbonate, (C) a surface active agent component made of at least one of a polyalkylene oxide adduct of cumylphenol and a polyalkylene oxide adduct of phenylethyl group substitution phenol, (D) a specific solubilizing agent component, and (E) water.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ金属炭酸塩、（Ｂ）アルカリ金属炭酸水素塩、（Ｃ）クミルフェノールのポリアルキレンオキサイド付加物又はフェニルエチル基置換フェノールのポリアルキレンオキサイド付加物の少なくとも１種からなる界面活性剤成分、（Ｄ）特定の可溶化剤成分及び（Ｅ）水からなる感放射線性組成物用濃縮現像液。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates a specified aromatic sulfonic acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has repeating units containing a specified group and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の芳香族スルホン酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の基を含有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition has (A) a recurring unit derived from specific vinyl ether and a recurring unit derived from specific acrylamide, a resin which is increased in solubility in an alkaline developing solution by the effect of an acid and (B) a compound which generates the acid by irradiation of the resin with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定のビニルエーテルに由来する繰り返し単位と特定のアクリルアミドに由来する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution and a compound which generates an aliphatic or aromatic carboxylic acid substituted by at least one fluorine atom when irradiated with active light or radiation ray.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: resin (A) capable of increasing the solubility with an alkali developing solution by an action of an acid; and resin (C) having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing repeating unit (c) having at least two polarity conversion groups.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、及び、少なくとも２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位（ｃ）を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（Ｃ）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and at least one acetal compound represented by a specified structure.例文帳に追加

脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の構造で表されるアセタール化合物のうち少なくとも１種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁