「radiation solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive-type photoresist composition contains (A) a resin, containing repeating structural units with a specified bridged alicyclic structure and repeating units with a specified lactone structure and having rate of dissolution in an alkali developing solution increased due to the action of an acid and (B) a compound which generates the acid, when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide a method for forming an interlayer insulation film and microlenses from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition for a chemical amplification type negative type resist applicable to an alkali developing solution of ordinary concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern with respect to an ordinary line-and-space pattern, free of resist pattern defects (bridging and chipping) after development and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け）がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (C) a nitrogen-containing compound having at least one specified nitrogen-containing partial structure in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The surface of an oxide-base optical article is treated with a silane coupling agent containing a thiol group and a compound having an unsaturated bond and a hydrophilic group in one molecule is fixed on the treated surface by a ene-thiol reaction by photo graft polymerization, radiation graft polymerization, graft polymerization in an aqueous solution or another method to impart antifogging performance with excellent durability to the optical article.例文帳に追加

酸化物を主として含む光学物品の表面にチオール基を含むシランカップリング剤で処理した後、光グラフト重合法、放射線グラフト重合法、水溶液中でのグラフト重合法等により、分子中に不飽和結合及び親水性基を持つ化合物を、エン・チオール反応により表面に固定することによって耐久性に優れた防曇性能を光学物品に付与する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin having repeating units with a specified alicyclic lactone structure and repeating units with a specified di- or trihydroxyadamantane structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified nitrogen compound.例文帳に追加

特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び特定のジ又はトリヒドロキシアダマンタン構造を有する繰り返し単位を各々有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤と、特定の窒素化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive composition contains at least (a) a sulfonic ester derived from a 4-8C alkylsulfonyl halide having a fluorine atom as a characteristic group or a 4-8C alkoxyalkylsulfonyl halide having a fluorine atom as a characteristic group and (b) a medium having such reactivity as to vary its solubility to an aqueous alkali solution by an acid catalyzed reaction.例文帳に追加

（ａ）特性基としてフッ素原子を有する炭素数が４から８までのアルキルスルホニルハライド、または特性基としてフッ素原子を有する炭素数が４から８までのアルコキシアルキルスルホニルハライドから誘導されるスルホン酸エステルおよび（ｂ）酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を変化させる反応性を持った媒体を少なくとも含む感放射線組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) resin containing a specified cyclic structure in the principal chain, having ≤5% content of a monomer corresponding to repeating structural units constituting the resin based on the total pattern area by GPC and having velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の環構造を主鎖に有し、樹脂を構成する繰り返し構造単位に対応する単量体の含有量がＧＰＣの全パターン面積の５％以下である酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物が提供される。 - 特許庁

The positive resist composition is characterized by containing: (A) a resin which has specified two kinds of repeating units and an aliphatic cyclic hydrocarbon group in the side chain and which increases the solubility rate with an alkali developer solution by the effect of an acid; and (B) a specified sulfonium compound which generates an acid by irradiation of specified active rays or radiation and which has a naphthalene framework.例文帳に追加

（Ａ）特定の２種の繰り返し単位を含有し、脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生するナフタレン骨格を有する特定のスルホニウム化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a polymerizable compound while having a high reactivity capable of easily polymerizing by heat, ultraviolet light, radiation, etc., capable of forming a polymer having flexibility and softness and also since it has a high solubility to an aqueous alkaline solution, e.g. capable of being used suitably as an alkali-developing type resist material, and also a method for producing the polymerizable compound.例文帳に追加

熱、紫外線、放射線等により容易に重合し得る高い反応性を有しながら、可撓性及び柔軟性を有する重合体を形成することができ、かつ、アルカリ水溶液に対して高い溶解性を有するため、例えば、アルカリ現像型レジスト材料に好適に用いることができる重合性化合物、及び、該重合性化合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which contains specified two kinds of repeating units having an aliphatic cyclic hydrocarbon group in the side chain and which increases its solubility rate with an alkali developer solution by the effect of an acid; and (B) a specific sulfonium compound having a specific structure which produces an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、特定の２種の繰り返し単位を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の構造を有する特定のスルホニウム化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive-type silicone-containing photosensitive composition contains (a) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble polymer, having silicon atoms in a side chain and convertible into a polymer soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid, (b) a compound which generates acid, when irradiated with active light or radiation and (c) a nitrogen-containing compound having at least one specified partial structure in the molecule.例文帳に追加

（ａ）側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）特定の部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物、を含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a specified compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which contains at least one selected from repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility to an aqueous alkali solution and (C) a specified solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 （Ｂ）主鎖に特定の構造の脂環式構造を有する繰り返し単位より選択される少なくとも一種を含む、酸の作用により分解しアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する樹脂 （Ｃ）特定の溶剤 を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for forming an insulation film of an organic EL(electroluminescent) element capable of forming a through hole or a U-shaped recess, excellent in flattening performance and having high transparency and high resistance to a resist removing solution and to provide an insulation film of an organic EL element formed from the composition and an organic EL display element with the insulation film.例文帳に追加

スルーホールあるいはコの字型の窪みを形成できるとともに、平坦化性能に優れ、かつ高い透明性およびレジスト剥離液に対する高い耐性を持つ有機ＥＬ素子の絶縁膜を形成するための感放射線性樹脂組成物、それから形成された有機ＥＬ素子の絶縁膜、および該絶縁膜を有する有機ＥＬ表示素子を提供すること。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition for color filter contains a pigment (A), an alkali soluble resin (B), a polyfunctional monomer (C), a photopolymerization initiator (D) and a solvent (E) and is characterized by having the pigment (A) dispersed in a solution produced by dissolving a part or all of the alkali soluble resin (B) in a part or all of the solvent (E) in advance.例文帳に追加

カラーフィルタ用感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）顔料、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）光重合開始剤並びに（Ｅ）溶媒を含有するカラーフィルタ用感放射線性組成物であって、（Ａ）顔料が予め（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂の一部または全部を（Ｅ）溶媒の一部または全部に溶解してなる溶液中に分散されていることを特徴とする。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) at least one specified compound which generates sulfonic acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which contains at least one selected from repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility to an aqueous alkali solution.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造を有する活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物のうち少なくとも１種 （Ｂ）主鎖に特定の構造の脂環式構造を有する繰り返し単位より選択される少なくとも一種を含む、酸の作用により分解しアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The disc has a fixed polymer sequence, and the detection method comprises a step for fixing the polymer sequence, a step for touching a labeled specimen to the fixed polymer sequence, a step for interacting the fixed polymer sequence and a specimen solution, and a step for detecting a signal from a labeled material being traveled under exciting radiation light by rotating the disc.例文帳に追加

固定されたポリマー配列を有することを特徴とするディスクであり、また、少なくとも、ポリマー配列を固定する工程、該固定化ポリマー配列に標識化された検体を接触させる工程、固定化ポリマー配列と検体溶液を相互作用させる工程、ディスクを回転させ励起放射光の下を走行させて標識材料からの信号を検出する工程を含むことを特徴とする検出方法。 - 特許庁

The lithium polymer battery is composed of a polymer electrolyte, a separator and electrode material, and the polymer electrolyte is obtained by crosslinking a solution containing a solvent, an electrolyte salt, and a compound having a radical polymerizing functional group by applying active radiation rays and/or heating, and the separator is composed of a non-conductive porous material and electrically insulating particles.例文帳に追加

ポリマー電解質、セパレーター及び電極材料からなるリチウムポリマー電池であって、前記ポリマー電解質が、溶媒、電解質塩及びラジカル重合性官能基を有する化合物を含む溶液を、活性放射線の照射及び／又は加熱により架橋して得られたポリマー電解質であり、前記セパレーターが非導電性多孔質材料と電気絶縁性の粒子からなるセパレーターであるリチウムポリマー電池。 - 特許庁

The positive resist contains: (A) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which increases the solubility with an alkali developer solution by the effect of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation; and (C) alkoxy alcohol in which an alkoxy group and an alcoholic hydroxyl group are linked via at least three carbon atoms.例文帳に追加

（Ａ）単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶媒として、アルコキシ基とアルコール性ヒドロキシル基とが少なくとも３つの炭素原子を挟んで連結されるアルコキシアルコールを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の全パターン面積の５％以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a composite surface treatment method with less environmental load by which the primary and secondary treatments can be performed by one process as a whole, thereby enhancing working efficiency, and also slidability, hardness, wear resistance, heat radiation, heat resistance, heat conductivity and the like can be enhanced compared with heretofore and aluminum and aluminum alloy treated with a surface treated solution.例文帳に追加

一次処理および二次処理をまとめて１工程で処理でき、それにより作業効率を高めるとともに、表面部位の微細孔を直接封じる構成にすることで、摺動性、硬度、耐摩耗性、熱放射性、耐熱性、熱伝導性、等を従来に比して高めることが出来る環境負荷の少ない複合表面処理方法および表面処理液として、アルミニウムおよびアルミニウム合金を提供する。 - 特許庁

The titanium oxide photocatalyst functions in oxidation-reduction reaction like a generally known photocatalyst under ultraviolet radiation and can generate an active species of oxygen such as a superoxide anion from oxygen in the lattice of the titanium oxide itself under visible light having a wavelength of at least 470 nm, wherein oxygen in the lattice consumed by the reaction can easily be compensated by the air or by dissolved oxygen in a solution.例文帳に追加

紫外光に対しては一般的に知られる光触媒の酸化および還元反応を示し、少なくとも４７０nmの波長を有する可視光に対しては酸化チタン自身の格子中の酸素よりスーパーオキサイドアニオンなどの酸素の活性種を生成することができ、また反応により消費された格子中の酸素は大気中ないし溶液中の溶存酸素から容易に補われることができる。 - 特許庁

This method comprises the steps to form the coating film by applying a coating solution composed of a binder containing a hydrophilic polymeric compound having a main chain with a plurality of side chains and a polymerization degree of not less than 300 and the fine particle to the surface of a support and form a porous layer by giving rise to a crosslinkage between the side chains through irradiating the hydrophilic polymeric compound in the coating film with ionizing radiation.例文帳に追加

支持体上に、主鎖に複数の側鎖を有する重合度が３００以上の親水性高分子化合物を含むバインダー及び微粒子を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成し、前記塗布膜中の前記親水性高分子化合物に電離放射線を照射して側鎖間に架橋結合を生じさせ、多孔質層を形成することを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing acid decomposable alicyclic olefin repeating units with a specified structure, anhydride repeating units with a specified structure and acid decomposable acrylic repeating units with a specified structure and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a nitrogen-containing basic compound having no aromatic ring.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び芳香族基を有さない含窒素塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units including a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generated the acid when irradiated with active light or radiation, an organic solvent which dissolves the above components, an organic basic compound and at least one selected from a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定の構造を含有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、上記成分を溶解する有機溶剤、有機塩基性化合物、並びにフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The method of manufacturing temperature sensitive polymeric gel particles comprises dipping porous inorganic particles in a solution containing a monomer, a curing agent, a polymerization initiator and the like, polymerizing the monomer by external heat or light, radiation or the like to synthesize a polymer within the pores of the porous inorganic particles, and then dissolving and removing the inorganic particles with the use of hydrogen fluoride or the like to form porous polymeric particles.例文帳に追加

本発明者らは、これらの課題を解決するために鋭意検討を行った結果、多孔質無機粒子に単量体と架橋剤、重合開始剤等を含む溶液を含浸し、外部からの熱、光、放射線等で重合することで多孔質無機粒子の細孔内部に高分子を合成し、弗化水素等を用いて無機粒子を溶解除去することで多孔質高分子粒子を作成する方法を見いだし、本発明をするに至った。 - 特許庁

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive material superior in sensitivity, developability, etching endurance, heat resistance, and adhesion to a substrate and developable with an aqueous alkaline developing solution and usable for a positive resist for manufacturing the semiconductor integrated circuit and the like by using a copolymer composed essentially of repeating units derived from specified monomers.例文帳に追加

半導体集積回路、液晶表示素子用ＴＦＴ回路等の回路製造用のポジ型レジストとして、アルカリ水溶液からなる現像液によって現像でき、感度、現像性、残膜率、耐熱性、基板との密着性等に優れた感放射線性材料、さらに層間絶縁膜、カラーフィルター保護膜、回路保護膜等の永久膜として、耐熱性、基板との密着性、可視光領域における透明性、耐薬品性、寸法安定性等に優れた感放射線性材料を提供する。 - 特許庁