「radiation solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition contains: (A) a resin the solubility of which with an alkali developing solution is increased by an action of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation; and (F) a surfactant having a basic group.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｆ）塩基性基を有する界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates a specified sulfonimido compound when irradiated with active light or radiation and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線または放射線の照射により、特定のスルフォンイミド化合物を発生する化合物、及び、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

An image forming layer, containing infrared ray absorbing agent having at least one kind of surface orientating group in the molecule of the same and changing the solubility to alkaline water solution by the effect of radiation in a near infrared area, is provided on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、分子内に表面配向性基を少なくとも1種有する赤外線吸収剤を含有し、近赤外領域の放射線の作用により、アルカリ水溶液に対する可溶性が変化する画像形成層を有することを特徴とする。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains a specified photo-acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin which has an alicyclic hydrocarbon structure, is decomposed by the action of the acid and increases its solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の光酸発生剤、及び脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having a specified repeating unit and increasing the solubility with an alkali aqueous solution by the effect of an acid; (B) a compound generating an acid by the effect of active rays or radiation; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having a repeating unit of a specified structure and increasing the solubility with an alkali developer solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generated an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing repeating units each containing a group represented by a specified structure and increasing its rate of dissolution in an alkali developing solution under the action of the acid.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (a) a resin having an acid decomposable group with a specified structure and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition by the action of an acid and (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（ａ）特定構造の酸分解性基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble polymer which has a silicon atom in a side chain and is made soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with an active light or a radiation.例文帳に追加

側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー及び活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The method for producing a noble metal nanosheet comprises a stage where ultraviolet radiation is emitted to an aqueous solution in which the complex of a noble metal (such as chloroauric acid), a solubilizing agent for the noble metal (such as a halogen anion) and a protective polymer for the noble metal (such as polyvinyl pyrrolidone) are mixed and comprised.例文帳に追加

貴金属の錯体（例えば塩化金酸）、前記貴金属の可溶化剤（例えばハロゲンアニオン）、および前記貴金属の保護ポリマー（例えばポリビニルピロリドン）を混合、含有する水溶液に紫外光を照射する工程を含む貴金属ナノシートの製造方法。 - 特許庁

In the combustibility improving method, the combustibility improving composition is circulated around the engine by a radiator as the engine cooling aqueous solution, and fuel in an engine interior is irradiated by radiation emitted from the radioactive powdery substance.例文帳に追加

前記の燃焼性改善用組成物をエンジン冷却用水溶液としてラジエーターによってエンジンの周囲に循環させて放射性粉状物質が放出する放射線をエンジン内部の燃料に照射するようにした燃焼性改善方法とする。 - 特許庁

The metal oxide is deposited on the surface of the carbon fiber by immersing a carbon fiber having a diameter of 3-10 μm, a tensile load at break of ≥1.5 g and a tensile elongation of ≥0.5% in a solution of a metal oxide precursor and irradiating with microwave radiation.例文帳に追加

直径が３〜１０μｍ、引っ張り荷重が１．５ｇ以上、引っ張り伸度が０．５％以上の炭素繊維を金属酸化物の前駆体溶液に浸漬させてマイクロ波を照射することにより炭素繊維表面に金属酸化物を付着させる。 - 特許庁

The positive acting resist composition contains a resin which has specific repetitive units and increase in speed of solution in an alkali liquid developer through reaction of acid, (B) a compound producing acid by irraidation with an active light beam or radiation, (C) a solvent, and (D) a surface active agent.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤及び（Ｄ）界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive composition contains (A) a specified acid generator of formula (I) which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid and increases solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

(Ａ）活性光線の照射により酸を発生する（Ｉ）で示される特定の酸発生剤、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The method is one for producing hydrogen by reducing hydrogen ions from an aqueous solution in the presence of an oxide catalyst by using gamma rays and beta rays generated from a radiation source such as Cs-137 and Sr-90 recovered from high-level radioactive waste as heretofore unrecyclable waste.例文帳に追加

廃棄物として利用されていない高レベル放射性廃棄物から回収したCs-137、Sr-90等を放射線源として発生するガンマ線、ベータ線を用いて、酸化物を触媒として水溶液から水素イオンを還元して水素ガスを発生させる方法。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with specified active rays or radiation and a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive polymer composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and high resolution, and capable of forming a pattern form thin film that is superior in flatness, heat resistance, solvent resistance and transparency.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像でき、高感度、かつ高解像度の感放射線性重合体組成物であり、さらに平坦性、耐熱性、耐溶剤性、透明性に優れたパターン状薄膜を形成できるポジ型感放射線性重合体組成物を提供すること。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains an Si- containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent and a solvent and has ≤6.0 mPa.sec viscosity at 25°C.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する性質を有し、しかもＳｉ元素を含有している樹脂と、光酸発生剤と、溶剤とを含み、２５℃での粘度が６．０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive material having high sensitivity to high energy rays such as a far ultraviolet radiation, an electron beam, an X-ray, etc., capable of developing in an alkali aqueous solution, excellent in heat resistance, and useful for a chemical amplification positive type resist material which is suitable for micromachining technology, etc.例文帳に追加

遠紫外線、電子線、Ｘ線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、アルカリ水溶液で現像可能であり、耐熱性に優れかつ微細加工技術に適した化学増幅ポジ型レジスト材料等に有用な感光性材料を提供する。 - 特許庁

This method for producing the heavy metal-collecting ion exchange fiber, comprising subjecting a substrate fiber to a radiation-grafting polymerization, is characterized by comprising an irradiation process for irradiating the substrate fiber with radiations in an oxygen-removed state and a polymerization process for immersing the radiation-irradiated substrate fiber in a monomer solution having been used for the graft-polymerization to graft-polymerize.例文帳に追加

基材繊維を放射線グラフト重合させて重金属捕集イオン交換繊維を製造する方法であって、前記基材繊維に脱酸素状態で放射線を照射する照射工程と、放射線が照射された基材繊維を、既にグラフト重合に用いられたモノマー液に浸せきさせてグラフト重合させる重合工程とを備える、重金属捕集イオン交換繊維の製造方法。 - 特許庁

A hydrogen gas is produced in a high efficiency by a radiation-induced catalytic method comprising mixing an alcoholic addition aqueous sulfuric acid solution with a strong-acid-resistant oxide or a precursor hydrate thereof in the form of a powder, a solid and/or a fiber and accelerating the reduction reaction of hydrogen ions with reducing species formed when the oxide or the hydrate absorbs the energy of a radiation and transforms it into chemical energy.例文帳に追加

アルコール添加の硫酸水溶液に耐強酸性の酸化物又はその前駆体である水和物を粉体、固体及び／又はファイバーの形状で混ぜ、それら酸化物又は水和物が放射線のエネルギーを吸収し、化学反応エネルギーに変換することで生成する還元種により、水素イオンの還元反応を促進する放射線誘起触媒法で水素ガスを高効率で製造する。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin which is decomposed by the action of acids and increases its solubility in an alkali developing solution, a compound having an oxime sulfonate structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation and a compound having a diazodisulfone structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、特定の構造で表されるオキシムスルホネート構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の構造で表されるジアゾジスルホン構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A positive photoresist composition is provided which comprises (a) a resin which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (b) a compound which has a specified oxime sulfonate structure and generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and a compound which has a specified onium salt structure and generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、（ｂ）特定のオキシムスルホネート構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定のオニウム塩構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin-containing specified silicon-containing repeating units and having solubility with respect to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an acid generating agent which generates acid, when it is irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has repeating units with a specified structure and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist material includes a polymer that turns soluble in an alkaline solution after reaction with acid, a PAG that decomposes to form acid after absorption of radiation energy, and a quencher capable of neutralizing acid and having a reduced mobility, wherein the quencher has a concentration in the resist higher than 0.5 wt.%.例文帳に追加

レジスト材料は、酸と反応した後にアルカリ性溶液に溶解するポリマーと、照射エネルギーを吸収した後に、分解して酸を形成するＰＡＧと、酸を中和し、移動度が低いクエンチャーとを含み、クエンチャーは、レジスト内の濃度が０．５重量％よりも高い。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition for a thermal flow pattern forming system contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (b) a resin or a mixture which is decomposed by the action of the acid to increase it solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂又は混合物、を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has at least three repeating units with specified separate structures and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を少なくとも３種有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: resin which contains a repeating unit derived from an isosorbide (meth)acrylate and of which the dissolving rate to an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and a compound which has a naphthalene skeleton and generates an acid by being irradiated with active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、ナフタレン骨格を有する特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: resin which contains a repeating unit derived from an isosorbide (meth)acrylate and of which the dissolving rate to an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and a specified sulfonium compound having an enone structure which generates an acid by being irradiated with active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生するエノン構造を有する特定のスルホニウム化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The method of producing the radiation detector comprises dropping of solution in which the boron nano belts are dispersed on a substrate, drying it to form many nano belts, optionally selecting one of the multitude of nano belts, and then forming the fine electrodes and wiring on both ends of the boron nano belt.例文帳に追加

ボロンナノベルトが分散した溶液を基板上に滴下し、これを乾燥して多数のナノベルトを作成し、この多数のナノベルトの１本を任意に選択した後、ナノベルトの両端に微細な電極と配線を形成することを特徴とする放射線検出器の作製方法。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having a group which is decomposed by the action of an acid to increase the solubility in an alkali developing solution and a compound which generates an aromatic sulfonic acid replaced with a group containing at least one fluorine atom when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つフッ素原子を含有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin having a specified alicyclic structure in the principal chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の脂環式構造を主鎖に有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a specified repeating unit having a fluorine atom and a polycyclic structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し多環構造をもつ特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The medical material is obtained by immersing the base material in the aqueous solution which contains a cationic water-soluble polymer and a chemical compound, having destabilizing energy accompanying a radical production of 99.5 kcal/mol or less, at a concentration of 0.0008 mol/L or more and 0.008 mol/L or less and by performing radiation irradiation.例文帳に追加

基材をカチオン性水溶性ポリマーおよびラジカル生成に伴う不安定化エネルギーが９９．５ｋｃａｌ／ｍｏｌ以下の化合物を０．０００８ｍｏｌ／Ｌ以上、０．００８ｍｏｌ／Ｌ以下の濃度で含有する水溶液に、基材を浸漬して、放射線照射することで得られる医療用材料。 - 特許庁

The positive type silicone-containing photosensitive composition contains (a) a waterinsoluble polymer which has a silicon atom in a side chain and is made soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid, (b) a compound which generates a carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.例文帳に追加

（ａ）側鎖にシリコン原子を有し、かつ水不溶性で酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、（ｄ）溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコーン含有感光性組成物。 - 特許庁

The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.例文帳に追加

塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) two resins each having an alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂として２種類の樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin which has a specified repeating unit and which is alkali-soluble or improves its solubility with an alkali aqueous solution by the effect of an acid, a compound which produces an acid by the effect of active rays or radiation, and a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、アルカリ可溶性又は酸の作用により分解してアルカリ水溶液への溶解性が向上する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁