「solution composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

This composition can be made into the form of a polymer film suitable for producing the pharmaceutical preparation by admixing, in a solution state, the caprylocaproyl macrogol-8-glyceride with the polymer used in oral agents or by mixing the caprylocaproyl macrogol-8-glyceride with the powdery polymer into the form of tablets or granules followed by heating to effect film formation.例文帳に追加

カプリロカプロイルマクロゴール−８グリセリドを経口剤に用いられているポリマーと溶液状態で混和するか、粉末状のポリマーと混合し、錠剤もしくは顆粒剤の形状とした後加熱成膜することにより医薬品の製造に適したポリマーフィルムとすることができる。 - 特許庁

This polymer electrolyte membrane is made of the polymer electrolyte composition, and can be provided by applying the mixed solution to a base material and drying it to form a coating, and thereafter subjecting the compound constituting the coating and containing the plurality of alcoholic hydroxide groups to a cross-linking reaction by heat.例文帳に追加

本発明の高分子電解質膜は前記高分子電解質組成物からなり、前記混合溶液を基材上に塗布し、乾燥して塗膜を形成した後、該塗膜を構成するアルコール性水酸基を複数含有する化合物を熱により架橋反応させることにより得られる。 - 特許庁

This composition developing a foaming phenomenon by mixing with water so as to be used for cleaning a body by pouring its aqueous solution on the body and also for tasting the beer-dousing feeling contains a beer like feeling-exhibiting component, foaming component and cleaning component.例文帳に追加

水との混合により発泡現象が起きて該水溶液を身体に掛けることによって身体を洗浄できるようにすると共にビール掛け感を味わえるようにする為の組成物であって、ビール状感奏呈成分と、発泡成分と、洗浄成分とを含有する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (a) a specified alkali-insoluble or slightly alkali-soluble polymer which has a silicon atom and a lactone structure in a side chain and is made soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a compound which generates the acid when irradiated with an active light or a radiation.例文帳に追加

(ａ）側鎖にシリコン原子及びラクトン構造を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となる特定のポリマー、及び（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative type resist composition for electron beams or X-rays contains a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, a resin soluble in an aqueous alkali solution, a compound which generates water under the action of the acid, a solvent, a surfactant and a basic compound.例文帳に追加

電子線又はＸ線の照射により、酸を発生する化合物、アルカリ水溶液に可溶な樹脂、酸の作用により水を発生する化合物、溶剤、界面活性剤、及び塩基性化合物を含有することを特徴とする電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

This dried composition is produced by the following processes: (a) dissolving both of a pharmacologically active component such as interferon and a hydrophobic stabilizer having a hydropathy index of 3.8 to 4.5 in water or in a mixed solvent of water with a lower alcohol; and (b) freeze-drying the resultant solution.例文帳に追加

本発明の乾燥組成物は、（ａ）インターフェロン等の薬理活性成分と、ヒドロパシーインデックスが３．８以上４．５以下の疎水性安定化剤とを、水又は水と低級アルコールとの混合溶剤中に溶解する工程、及び（ｂ）得られる溶液を凍結乾燥する工程により製造される。 - 特許庁

The positive radiation-sensitive composition contains (A) at least one compound having a specified structure which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線の照射により酸を発生する特定の構造の化合物少なくとも１種、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

This aerosol composition is composed of 92.0-99.4 wt.% of an aqueous stock solution containing water and a surfactant and 0.6-8.0 wt.% of a propellant containing a liquified gas and a compressed gas and forms foam having 0.08-0.3 g/cm3 foam density at 25°C.例文帳に追加

水および界面活性剤を含有する水性原液９２．０〜９９．４重量％と、液化ガスおよび圧縮ガスを含有する噴射剤０．６〜８．０重量％とからなり、２５℃での泡密度が０．０８〜０．３ｇ／ｃｍ^3であるフォームを形成することを特徴とするエアゾールフォーム組成物を得る。 - 特許庁

The ink set for inkjet recording includes: an ink composition containing dye; an organic acid whose first acid dissociation constant (25°C) is 1.5 to 4.5; and, characteristically, a reactive agent containing a solvent whose surface tension (25°C) is 40 mN/m or higher at 10 mass% in an aqueous solution.例文帳に追加

顔料を含むインク組成物と、第１酸解離定数（２５℃）が１．５〜４．５である有機酸及び１０質量％水溶液としたときの表面張力（２５℃）が４０ｍＮ／ｍ以上の溶剤を含む反応液とを有することを特徴とするインクジェット記録用インクセット。 - 特許庁

The negative type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, (B) a resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, (C) a crosslinker which causes crosslinking with the resin (B) under the action of the acid and (D) a compound which increases hole mobility.例文帳に追加

（Ａ）電子線又はＸ線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、（Ｃ）酸の作用により樹脂（Ｂ）と架橋を生じる架橋剤、及び（Ｄ）ホール移動度を増大させる化合物を含有する電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a positive-type resist composition which is usable for forming patterns by using a high-energy ray having a wave length of 300 nm or shorter or an electron beam and can solve a problem of the occurrence of pattern exfoliation or pattern falling-down due to the penetration of a developing solution into an interface between the resist film and a substrate.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用できるレジスト組成物であって、レジスト膜と基板との界面に現像液が入り込み、パターンはがれやパターン倒れが生じるという問題を解決する。 - 特許庁

The powder aerosol composition comprises 3-80 pts.mass of a stock solution containing a base composed of 10-94 mass% of an aliphatic lower alcohol, 1-30 mass% of powder and 5-60 mass% of a cyclic methylpolysiloxane and 20-97 pts.mass of a propellant.例文帳に追加

この粉末エアゾール組成物は、１０〜９４質量％の脂肪族低級アルコールよりなる基剤、１〜３０質量％の粉末および５〜６０質量％の環状メチルポリシロキサンを含有してなる原液３〜８０質量部と、噴射剤２０〜９７質量部とよりなる。 - 特許庁

The manufacturing method includes a stage of photoetching of a conductor by using an etching solution composition containing phosphoric acid of 65 to 75 wt.%, nitric acid of 0.5 to 15 wt.%, acetic acid of 2 to 15 wt.%, a potassium compound of 0.1 to 8.0 wt.% and water in the residual quantity.例文帳に追加

導電体を６５乃至７５重量％のリン酸、０．５乃至１５重量％の硝酸、２乃至１５重量％の酢酸、０．１乃至８．０重量％のカリウム化合物及び残量の水を含むエッチング液組成物を利用して写真エッチングする段階を含む。 - 特許庁

To provide a liquid detergent composition exhibiting excellent detergency to stain, especially the stain originated from excrements such as feces and urine, hardly providing greasy feeling and rough skin when an undiluted solution is attached to the hand, hardly making clothes starchy after cleaning, and having good appearance and excellent stability.例文帳に追加

シミ汚れ、特に便、尿といった排泄物に由来するシミ汚れに対して優れた洗浄力を示し、原液が手についたときのぬるつきや肌荒れが無く、洗浄後の衣料のごわつきが無く、外観がよく安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has at least one kind of a recursive unit having at least one radical of a particular structure, and has solubility to an alkaline developing solution increased by the action of acid and (B) a compound that generates acid by the action of active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の基を少なくとも１つ有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition favorably developable with a developer solution at a pH of 2.0 to 6.5, excellent in plate wear and contamination prevention, to which reproducibility of sensitivity in image formation is imparted, and to provide an image forming method and a planographic printing plate precursor from which a planographic printing plate can be produced.例文帳に追加

ｐＨ２．０〜６．５の現像液による良好な現像が可能であり、かつ、耐刷性、汚れ性に優れ、さらには、画像形成感度の再現性が付与された感光性組成物、画像形成方法ならびに平版印刷版を作製可能な平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has two kinds of repeating units each with a specified structure by at least one each and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の２種類の繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a norbornene-based repeating unit having a specified norbornane structure in the side chain and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に特定のノルボルナン構造をもったノルボルネン系繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This method for producing a coffee composition which contains 0.01-1 mass% of chlorogenic acid and hydroxyhydroquinone at <0.1 mass% of chlorogenic acid content comprises bringing a porous adsorbent into contact with coffee extracted solution in a pressure condition of 0.01-10 MPa.例文帳に追加

０．０１ＭＰａ以上１０ＭＰａ以下の圧力条件下にて多孔質吸着体とコーヒー抽出液を接触させる、クロロゲン酸類を０．０１〜１質量％含有しかつヒドロキシヒドロキノンの含量が該クロロゲン酸類量の０．１質量％未満であるコーヒー組成物の製造方法。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having repeating structural units with a specified structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound having a specified structure and generating the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し構造単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound of a specified structure which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for acquiring a desired compound, for example, each optical isomer of high purity with high recovery from a solution of a plurality of compounds which form a simple eutectic composition, for example, a racemic mixture of optical isomers using a small amount of a plurality of seed crystals different in particle size distribution or the like.例文帳に追加

単純共晶組成を形成する複数化合物、例えば光学異性体のラセミ混合物の溶液から、粒度分布等の異なる複数の種晶を少量用い、所望化合物、例えば各異性体を高純度で且つ高回収率で取得する方法を提供する。 - 特許庁

A pattern having a water-repellent/oil-repellent portion is formed using a radiation-sensitive resin composition, and a high refractive index resin solution using a solvent having a low wetting property to the water-repellent/oil-repellent portion is applied thereon to form two areas different from each other in refractive index.例文帳に追加

撥水・撥油性部位を持つパターンを感放射線性樹脂組成物を用いて形成し、その上に、撥水・撥油性部位に対し濡れ性が小さい溶剤を用いた高屈折率の樹脂溶液を塗布することにより、屈折率の異なる二つの領域を形成する方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit, specified molecular weight and a protection rate and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、特定の分子量・保護率を持つ、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The electrolytic corrosion protection method of a concrete comprises steps of coating a concrete surface with a surface treating material containing a lithium salt, and of setting an anode electrode on the coated surface, wherein as the surface treating material an aqueous solution of the lithium salt or a cement-based composition containing cement, the lithium salt and a resin is used.例文帳に追加

コンクリートの電気防食工法は、コンクリート表面にリチウム塩を含有する表面処理材を塗布し、当該塗布面に陽極電極を設置する工程を含み、前記表面被覆材はリチウム塩の水溶液、または、セメント、リチウム塩及び樹脂を含有するセメント系組成物を用いる - 特許庁

The repeelable primer composition comprises (A) an aqueous dispersion or an organic solvent solution containing a polymer having properties such that the tensile strength of the film formed after curing or drying is 1-28 MPa and the elongation is 100-2,000% and (B) thermally expansible fine particle hollow bodies.例文帳に追加

Ａ）硬化後または乾燥後の形成フィルムの抗張力が１〜２８ＭＰａ、伸び率１００〜２０００％の特性を有するポリマーを含有する水分散液または有機溶剤溶液、および、（Ｂ）熱膨張性微粒中空体からなることを特徴とする再剥離可能なプライマー組成物。 - 特許庁

To obtain the subject composition having excellent mechanical characteristics, a strong adhesive force, capable of being processed in the form of a solution, and having the characteristic of rubber elasticity by mixing a specific styrene-maleic acid polyethyleneoxy ester copolymer, a specific electrolytic salt, and an organic solvent.例文帳に追加

有機溶媒に対する溶解度が高く、ゴム弾性の特性に優れた共重合体、機械的特性に優れ、接着力が強く、常温において高いイオン伝導度を有し、かかる重合体と電解質塩を主成分とする組成物から製造されるイオン伝導度薄膜を提供する。 - 特許庁

As wetting agent, the sliding element contains preferably C_13C_15-oxoalcohol having a degree of ethoxidation of 10-30, C_16C_18-aliphatic alcohol, or C_13-oxoalcohol, and electric deposition is conducted using an electrolytic solution whose precipitation composition and precipitating speed are adjusted by adding an auxiliary of a large molecule.例文帳に追加

この滑動要素は、湿潤剤として好ましくは１０〜３０のエトキシ化度を有するＣ_13Ｃ_15−オキソアルコール、Ｃ_16Ｃ_18−脂肪族アルコールまたはＣ_13−オキソアルコールを含み、大きな分子の助剤の添加により析出組成および析出速度が調節される電解液を用いた電着よる。 - 特許庁

The method of recovering polymers having a vinylidene chloride polymer as the main component comprises dissolving the polymer composition having a vinylidene chloride polymer as the main component in a good solvent, adding a poor solvent in the resulting solution to precipitate a polymerized product having a vinylidene chloride polymer as the main component, and recovering the polymerized product by filtration as a powder which is easily recycled.例文帳に追加

塩化ビニリデン重合体を主成分とする重合体組成物を良溶剤に溶解させ、その溶液中に貧溶剤を加えることによって塩化ビニリデン重合体を主成分とする重合物を沈殿させ、ろ過によって粉末などの再利用しやすい形で回収する。 - 特許庁

The chemically amplified resist composition contains: (A) a resin which has a specified structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase its solubility with an alkaline developing solution; (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) a component having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する成分、を含有する化学増幅型レジスト組成物により達成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an entry sheet for drill boring for forming a resin layer by drying a water-soluble resin composition solution coated on a base material that can assure the excellent release of bubbles from the resin layer and accuracy in a position of a hole to which the resin layer is formed with the flat surface.例文帳に追加

水溶性樹脂組成物溶液を、基材に塗工・乾燥し、樹脂層を形成するドリル孔明け用エントリーシートの製造方法において、樹脂層からの泡抜けが良く、表面が平滑な樹脂層が形成される孔位置精度に優れるドリル孔明け用エントリーシートの製造方法の提供。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates and acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition solution contains an imidized tetracarboxylic acid with a specific structure, a diamine- and/or isocyanate-based compound, a photosensitive resin, and a photopolymerization initiator, contains no organic solvents, and has viscosity of 100 mPa s or less at 25°C.例文帳に追加

特定構造のイミド化したテトラカルボン酸と、ジアミン及び／又はイソシアネート系化合物、感光性樹脂、及び光重合開始剤を含有し、有機溶媒を含有せず、粘度が２５℃において１００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物溶液により、上記課題を解決する。 - 特許庁

The positive resist composition contains a polymer which has repeating units having specific two kinds of acetal structures and undergoes an increase in solubility in an alkaline developing solution by being decomposed under the action of an acid, a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation and a solvent.例文帳に追加

特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によって分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、および溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A positive resist composition is provided which comprises (A) a specified compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin having a specified repeating unit and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a composition for forming a metallic oxide thin film, which sufficiently inhibits a β-diketone metallic complex from decomposing when preserving it or evaporating it for vapor deposition, and forms little amount of evaporation residue and particles, and to provide a method for stabilizing a solution of the β-diketone metallic complex.例文帳に追加

保存時もしくは蒸着のための気化時においてβ−ジケトン金属錯体の分解を充分に抑制することができ、蒸発残渣やパーティクル量が少ない金属酸化物薄膜形成用組成物およびβ−ジケトン金属錯体溶液の安定化方法を提供する。 - 特許庁

The composition of the polishing solution for a semiconductor substrate contains dihydroxyethyl glycine, ceria particles, a disperser, and an aqueous medium, wherein the content of the ceria particles is 2 wt.% to 22 wt.% and the content of the disperser is 0.001 wt.% to 1.0 wt.%.例文帳に追加

ジヒドロキシエチルグリシン、セリア粒子、分散剤及び水系媒体を含有する半導体基板用研磨液組成物であって、該研磨液組成物中のセリア粒子の含有量が２〜２２重量％、分散剤の含有量が０．００１〜１．０重量％である半導体基板用研磨液組成物。 - 特許庁

To provide a photothermocurable resin composition developable in an aqueous alkaline solution and high in resolution and superior in resistance to heat and chemicals and moisture and PCT and superior in electric characteristics by incorporating a specified photosensitive prepolymer, a specified photopolymerization initiator, a reactive diluent, and an epoxy compound.例文帳に追加

露光時の光硬化深度が大きく高解像度が得られ、優れた耐熱性、耐薬品性、電気特性、耐吸湿性、ＰＣＴ耐性を有する硬化物を与え、かつ加熱を伴う諸工程においてミストを発生しないアルカリ現像型の光硬化性・熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This aerosol composition for spraying comprises 10-50 wt.% of a stock solution which has no flash point and comprises 5-40 wt.% of water, 40-90 wt.% of a polyhydric alcohol and 5-30 wt.% of an auxiliary solvent, and 90-50 wt.% of dimethyl ether, and forms a homogenous system.例文帳に追加

水５〜４０重量％、多価アルコール４０〜９０重量％および補助溶剤５〜３０重量％を含有し、かつ引火点を有さない原液１０〜５０重量％と、ジメチルエーテル９０〜５０重量％とからなり、均一系を形成する噴霧用エアゾール組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resist composition contains a silicon (Si)-containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent, a solvent and a basic compound having ≥5 repeating units with a specified structure as an average number (n) of repeating units.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加するケイ素（Ｓｉ）を含有する樹脂と、光酸発生剤と、溶剤と、特定構造の繰り返し単位を平均繰り返し単位数（ｎ）で５個以上有する塩基性化合物とを含有してなる感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

The polyester resin composition has 0.1-0.7 wt.% cyclic trimer content, 15-40 equivalent/ton carboxy terminal group amount and 0.55-0.80 intrinsic viscosity and 0.22-0.36 absorbance in 365 nm wavelength in a solution (0.8g/10 mL) using ortho chlorophenol as a solvent.例文帳に追加

環状三量体の含有量が０．１〜０．７重量％、カルボキシル末端基量が１５〜４０当量／トン、かつ固有粘度が０．５５〜０．８０の範囲であり、オルトクロロフェノールを溶媒とした溶液（０．８ｇ／１０ｍｌ）の３６５ｎｍにおける吸光度が０．２２〜０．３６であるポリエステル樹脂組成物とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that is developable with an aqueous alkaline solution, has high sensitivity and high resolution, is tackfree, has good heat resistance, etching resistance and storing stability, and is easy to be removed when used as an etching resist, and to provide an alkaline soluble resin as a constituent thereof.例文帳に追加

アルカリ水溶液を用いて現像可能な、高感度、高解像度を有し、さらに、タックフリーで、耐熱性、耐エッチング性、保存安定性も良好で、しかもエッチングレジストとして用いた場合に容易に除去できる感光性樹脂組成物及びその構成成分であるアルカリ可溶性樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a chitin decomposition product, capable of controlling the degree of low-molecular weight and degree of acetylation of the same easily, reducing the using amounts of solution of an acid and alkali, and of organic solvent, and also superior in the utilization efficiency of a chitin-containing composition or chitin used as a raw material.例文帳に追加

低分子化度や脱アセチル化度をコントロールすることが容易であり、酸・アルカリ溶液、有機溶剤の使用量を低減することができ、原料とされるキチン含有組成物又はキチンの利用効率にも優れたキチン分解物の製造方法を提供する。 - 特許庁

In order to suppress the peeling of the boundary of the electrode 1 and the polymer PTC composition 3 which is the factor of characteristic decline, paste for which the conductive powder is dispersed in a polymer solution or polymer emulsion is applied to the roughened surface of the electrode 1 and an intermediate layer 2 is formed.例文帳に追加

特性低下の要因である、電極１と高分子ＰＴＣ組成物３との界面の剥離を抑制するため、高分子溶液または高分子エマルションに導電性粉末を分散したペーストを、電極１の粗面化面に塗布して、中間層２を形成する。 - 特許庁