「solution composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a resist pattern capable of effectively preventing occurrence of halation and stationary waves at the time of forming, on a highly reflective film like a metallic film, a positive chemically amplifiable resist having a fundamental composition comprising an acid generating compound by irradiation with radiation and a resin to be increased in solubility in an aqueous alkaline solution by action of an acid.例文帳に追加

放射線照射により酸を発生する化合物及び酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分から成る基本組成を有するポジ型化学増幅型レジストを金属膜などの高反射性膜に施す際に、有効にハレーション及び定在波の発生を防止してレジストパターンを形成しうる方法を提供する。 - 特許庁

The positive type photosensitive resin composition is characterized by containing (A) a compound generating acid by irradiation of an active light ray or a radial ray, (B) a resin increasing its rate of solution for an alikali developer by the action of an acid having specified cycle units, and (C) a nitrogenous compound having a specific partial molecular structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｃ）特定の部分構造を分子内に有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition free of any safety problem, excellent in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a good development margin that a good pattern profile can be formed in a developing step even after the lapse of the optimum developing time, and to provide an interlayer dielectric and microlenses formed of the same.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること - 特許庁

The positive resist composition for liquid immersion exposure comprises: (A) a resin having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having the solubility with an alkali developing solution which increases by the effect of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; (C) a nitrogen-containing compound having no hydroxyl group; and (D) solvent.例文帳に追加

（Ａ）単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）水酸基を含有しない含窒素化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The etchant composition of a metal oxide film consists of a solution containing (A) 5-20 mass% of 2-hydroxy ethane sulfonic acid or its salt in terms of 2-hydroxy ethane sulfonic acid, and (B) 0.05-5 mass% of at least one kind of fluoride compound selected from hydrogen fluoride, ammonium fluoride, potassium fluoride, sodium fluoride and lithium fluoride.例文帳に追加

（Ａ）２−ヒドロキシエタンスルホン酸又はその塩を、２−ヒドロキシエタンスルホン酸換算で５〜２０質量％と、（Ｂ）フッ化水素、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム及びフッ化リチウムから選ばれる少なくとも１種類のフッ化化合物０．０５〜５質量％とを含む水溶液からなることを特徴とする金属酸化物被膜のエッチング液組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) an acid generator that generates an acid upon irradiation of an active ray or radiation, (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) at least two basic compounds different from each other in structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）構造の異なる少なくとも２種類の塩基性化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved under heat to separate two or more components including a radical species and/or an ionic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び熱により結合が開裂して、ラジカル種及び／又はイオン性化合物を含む２成分以上に分離する化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In a positive resist composition comprising (A) a resin component having solubility in an alkaline aqueous solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with a radiation, the component (B) is a mixture of (b_1) cyano-containing oximesulfonate compounds and (b_2) bissulfonyldiazomethanes and/or onium salts.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、上記（Ｂ）成分が、（ｂ_1）シアノ基含有オキシムスルホネート化合物類と、（ｂ_2）ビススルホニルジアゾメタン類又はオニウム塩類、あるいはその両方との混合物であるポジ型レジスト組成物とする。 - 特許庁

To provide a nutritious pregelatinized rice capable of simply cooked in a short time of a half or less of usual cooking time by only adding water without washing with water when cooking rice, having advantage of long preservability inherent to the nutritious pregelatinized rice, and comprising nutritive powder of animals and plants, vegetable nutrition solution or nutrient composition of plant oils.例文帳に追加

炊飯の際水で研ぐことなく単に水を加えるだけで簡単に通常の半分以下の短い時間で美味しいご飯となり、かつ長期保存もできるというα化加工米の長所を有しながら、しかも動植物の栄養粉末、植物性栄養液、植物油の栄養成分を含んだ高栄養価α化加工米を得る。 - 特許庁

To obtain the subject solution not causing bleedout even in compounding with a resin, having excellent mixing properties and handleability, not causing change in color in production, useful as a stabilizer composition for a fiber, by radically (co)polymerizing a radically polymerizable hindered amine compound in an organic solvent.例文帳に追加

樹脂に配合してもブリ−ドアウトせず樹脂への混合性や取り扱い性に優れて中でも繊維に適しており、且つ製造の際の変色や重合度及び反応率の低下などの問題がない安定化剤組成物としてのヒンダ−ドアミン溶液とその製造方法、及び該ヒンダ−ドアミン溶液を安定剤組成物として用いた繊維とその製造方法の提供。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates a strong acid when irradiated with active light or radiation, (B) resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound which generates a carboxylic acid having a steroid structure when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）活性光線または放射線の照射により強酸を発生する化合物 （Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂 （Ｃ）活性光線または放射線の照射によりステロイド構造を有するカルボン酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an unsaturated polyalkylene glycol type copolymer composition which is characterized by that in an aqueous unsaturated polyalkylene glycol copolymer solution of a water-soluble polymer having a low molecular weight and excellent in dispersibility, chelating ability, and antigelling property, an impurity content is small, an impurity does not precipitate during preservation at a low temperature, and further upgrading and storage stability can be attempted.例文帳に追加

分散能、キレート能および耐ゲル性に優れた低分子量の水溶性重合体である不飽和ポリアルキレングリコール系共重合体水溶液において、不純物量が少なく低温保持時の不純物析出もなく、より一層の性能向上および保存安定化が図られてなる不飽和ポリアルキレングリコール系共重合体組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for resist underlay film which is excellent in adhesiveness with a resist film, can improve the reproducibility of a resist pattern, has durability against an alkali solution used for development or the like and against oxygen ashing upon removing the resist, can form a resist underlay film less in permeation amount of a resist material, and is excellent in storage stability.例文帳に追加

レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a cationically polymerizable resin composition, in which the viscosity rise is smaller, the gel formation is smaller, and the temperature control of the contents is easier when compared with a conventional process for producing a cationically polymerizable resin by bulk polymerization and which is advantageous over a conventional solution polymerization process in respect of a reaction time, operability, and energy.例文帳に追加

従来のバルク重合によるカチオン重合性樹脂の製造方法と比べて、粘度上昇やゲル物の発生が少なく、また内容物の温度管理も行い易く、かつ従来の溶液重合と比べて時間面、操作面、エネルギー面の全てにおいて有利な、カチオン重合性樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

This absorption composition contains a finely granular water- insoluble inorganic powder and/or a polyamine compound with 5,000 or higher weight average molecular weight and has at least 25 g/g of dispersion/absorption magnification to 0.9 wt.% sodium chloride aqueous solution after 60 minutes from starting absorption under a load of 20 g/cm2 (1.96 kPa).例文帳に追加

吸収剤組成物は、微粒子状の水不溶性無機粉体、および／または、重量平均分子量５，０００以上のポリアミン化合物を含み、２０ｇ／ｃｍ^2 （１．９６ｋＰａ）の荷重下における、吸収開始から６０分経過後の０．９重量％塩化ナトリウム水溶液の拡散吸収倍率が２５ｇ／ｇ以上である。 - 特許庁

This method for producing a resin composition having little carboxy group content is characterized by contacting an ethylene-vinyl alcohol copolymer resin with an aqueous solution containing at least one additive selected from the group consisting of alkali metal salts (A) and boron compounds (B) and further containing carbon dioxide and then melting and kneading the treated ethylene-vinyl alcohol copolymer resin with a polyolefin resin (G).例文帳に追加

アルカリ金属塩（Ａ）及びホウ素化合物（Ｂ）からなる群から選択される少なくとも１種の添加剤を含有し、かつ炭酸ガスを含有する水溶液にエチレン−ビニルアルコール共重合体樹脂を接触させた後、ポリオレフィン樹脂（Ｇ）と溶融混練することによって、カルボン酸根の含有量の少ない樹脂組成物を得る。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains: (A) a polyimide precursor or a polybenzoxazole precursor; (B) a compound which generates an acid by irradiation of actinic rays; (C) a compound having an acid decomposable group which increases solubility with an alkali aqueous solution by acid catalytic reaction; (D) a compound having two or more alcoholic hydroxyl groups; and (E) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）ポリイミド前駆体又はポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ｂ）活性化学線照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物、（Ｄ）アルコール性水酸基を２価以上含む化合物及び（Ｅ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition for manufacture of an LCD comprises: (A) an alkali-soluble resin comprising a novolac resin having 100 to 400 nm/sec alkali solubility with a 2.38 mass% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide; (B) a compound which generates an acid by irradiation of radiation; and (C) a crosslinkable polyvinylether compound.例文帳に追加

（Ａ）２．３８質量％テトラメチルアンモニムヒドロキシド水溶液に対するアルカリ溶解性が１００〜４００ｎｍ／秒の範囲であるノボラック樹脂からなるアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）架橋性ポリビニルエーテル化合物を含有することを特徴とするＬＣＤ製造用のポジ型ホトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains a compound which generates a 2-4C fluorine substituted alkanesulfonic acid when irradiated with active light or radiation, a resin having a specified alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid, a basic compound and a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により炭素数２〜４のフッ素置換アルカンスルホン酸を発生する化合物と、特定の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂と、塩基性化合物と、フッ素及び／又はシリコン系界面活性剤とを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (a) a resin in which a group which is released by decomposition by the action of an acid contains at least one fluorine atom and a cyclic structure and which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an aqueous alkali solution, (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (c) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸の作用による分解で離脱する基が、少なくとも１つのフッ素原子と環状構造とを含有する、酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解性が向上する樹脂、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The water-base photo-solder resist composition contains (A) an aqueous solution obtained by neutralizing a linear or branched polyurethane resin containing a radical polymerizable group and a carboxyl group with a base, (B) an inorganic filler and (C) a photo-curable mixture comprising a polyfunctional acrylic monomer (c1), a compound (c2) having a cyclic ether group other than a glycidyl group and a photopolymerization initiator (c3).例文帳に追加

（Ａ）ラジカル重合性基とカルボキシル基とを含有する線状又は分岐ポリウレタン樹脂を塩基で中和して得られる水溶液、（Ｂ）無機フィラー、（Ｃ）多官能性アクリルモノマー（ｃ１）、グリシジル基以外の環状エーテル基を有する化合物（ｃ２）、および光重合開始剤（ｃ３）からなる光硬化性混合物を含む水性フォトソルダーレジスト組成物。 - 特許庁

This gel composition is obtained by the following procedure: a physiologically active substance is added to an aqueous solution containing a substance holding the ability to form a hydrogel to afford an emulsion or dispersion of the physiologically active substance followed by gelatinizing the emulsion or dispersion to form a hydrogel, which, in turn, is pulverized by mechanically crushing power.例文帳に追加

水ゲル形成能力保持物質含有水溶液に生理活性物質を添加して該生理活性物質の乳化液あるいは分散液を形成させ、該乳化液あるいは該分散液をゲル化させて水ゲルを形成させ、次いで得られる水ゲルを機械的破砕力により粉砕することを特徴とする生理活性物質含有ゲル組成物の製造方法。 - 特許庁

The release paper 10 is constituted by providing a releasable smoothing layer 2 on one surface of substrate paper and applying a coating solution of a resin composition, which is prepared by uniformly dispersing inorganic and/or organic fine particles in a releasable resin, thereto to form a release layer 3 having fine unevenness with an arithmetic average roughness (Ra) of 0.5-15 μm on its surface.例文帳に追加

離型紙10を、基材紙1 の一方の面に離型性平滑化層２を設け、その上に離型性樹脂に無機及び／又は有機の微粒子を均一に分散させた樹脂組成物の塗布液をコーティングする方法で表面の算術平均粗さ（Ｒa ）が０．５〜１５μｍの微細な凹凸を有する離型層３を形成して構成する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has a sufficient process margin, makes it possible to obtain a satisfactory spacer shape and film thickness with an exposure amount of ≤1,500 J/m^2, and forms spacers for a display panel having high flexibility under compressive load, excellent also in adhesion, rubbing resistance and heat resistance, and excellent in resistance to a stripping solution.例文帳に追加

十分なプロセスマージンを有し、１,５００Ｊ/ｍ^2以下の露光量で十分なスペーサー形状および膜厚を得ることを可能とし、圧縮荷重による高い柔軟性を持ち、密着性、ラビング耐性、耐熱性などにも優れ、剥離液耐性に優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a specified acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (C) a specified basic compound and (D) a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の塩基性化合物、及び（Ｄ）フッ素及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The alkali-developable photosetting/thermosetting resin composition comprises (A) a photosetting resin, having a (meth)acryloyl group and a carboxyl group within a molecule and soluble in a dilute aqueous alkali solution, (B) a thermosetting resin, (C) (c-1) a hydrophilic photopolymerizable compound and/or (c-2) a hydrophobic photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator and (E) a diluent.例文帳に追加

（Ａ）一分子中に（メタ）アクリロイル基とカルボキシル基を有する希アルカリ水溶液に可溶な光硬化性樹脂、（Ｂ）熱硬化性樹脂、（Ｃ）（ｃ−１）親水性光重合性化合物および／または（ｃ−２）疎水性光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、並びに（Ｅ）希釈剤を含有するアルカリ現像型の光硬化性・熱硬化性樹脂組成物である。 - 特許庁

The microcapsule water dispersion liquid includes microcapsules each having a resin composition (A) containing a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer (a) having a carbonyl group and an other ethylenically unsaturated monomer (b) copolymerizable with the monomer as the wall of the microcapsule and an aqueous solution (B) of a compound (c) having two or more hydrazide groups in one molecule.例文帳に追加

カルボニル基を有するエチレン性不飽和単量体（ａ）と該単量体と共重合可能なその他のエチレン性不飽和単量体（ｂ）との共重合体を含む樹脂組成物（Ａ）をマイクロカプセルの壁物質とするマイクロカプセルと、一分子中に２個以上のヒドラジド基を有する化合物（ｃ）の水溶液（Ｂ）とを含む、マイクロカプセル水分散液。 - 特許庁

The composition for treatment prior to electroless plating consists of an aqueous solution comprising at least one kind of high polymer compound selected from the group consisting of quaternarized polyvinyl imidazole and polydiallyammonium salt, and at least one kind of compound selected from the group consisting of nitrilotriacetic acid, nitrilotri propionic acid, glycine, sulphamic acid, aminomethyl sulfonic acid, taurine and their salts.例文帳に追加

四級化ポリビニルイミダゾール及びポリジアリルアンモニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の高分子化合物、並びにニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、グリシン、スルファミン酸、アミノメチルスルホン酸、タウリン及びこれらの塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物を含有する水溶液からなる無電解めっきの前処理用組成物。 - 特許庁

This copper based plain bearing material obtained by sintering and laminating a copper alloy to a steel back plate has a composition cintaiing >2 to 4% Ag and 1 to 10% Sn, and the balance substantially Cu, and at least on the surface side of the sintered layer, Ag and Sn lie in a state of being perfectly or substantially entered into solid solution in the Cu matrix.例文帳に追加

銅合金を鋼裏金に焼結・成層してなる銅系すべり軸受材料において、Ag:２％を超え４％以下、Sn：１〜１０％を含有し、残部が実質的にCuからなり，焼結層の少なくとも表面側でAg及びSnがCuマトリックス中に完全もしくは実質的に固溶した状態である銅系すべり軸受材料。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a specified sulfonium salt compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which contains repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility to an aqueous alkali solution.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を有する活性光線または放射線の照射により酸を発生するスルホニウム塩化合物、（Ｂ）主鎖に特定の構造の脂環式構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用により分解しアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive flame-retardant resin composition used as a soldering resist and an interlayer dielectric for a printed wiring board, a high density multilayer laminate, a semiconductor package, etc., excellent in suitability to development with a dilute aqueous alkali solution, giving a coating film excellent in heat resistance, chemical resistance, mechanical characteristics, etc., after curing and excellent in flame resistance without using a halide.例文帳に追加

プリント配線板，高密度多層積層板，半導体パッケージ等のソルダーレジストや層間絶縁材料に使用する、希アルカリ水溶液での現像性に優れ、且つ、硬化後の塗膜は、耐熱性，耐薬品性，機械的特性等に優れ、更にハロゲン化物を使用せずに難燃性に優れた感光性難燃樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for easily producing a polyisocyanurate foam having initial adhesive strength on expansion and permanent adhesive strength, high dimensional stability and good flame retardancy by using water as the foaming agent in particular, without varying reaction balance and reaction product composition through improving both the miscibility and flowability of a stock solution during expansion reaction.例文帳に追加

特に発泡剤に水を用いてポリイソシアヌレートフォームを製造する際に、反応バランスや反応生成物の組成を変えることなく簡便に、発泡反応時の原液の混合性及び流れ性を向上させ、フォーム発泡時の初期及び恒久的な接着強さを有する寸法安定性、燃焼性の良好なポリイソシアヌレートフォームの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for a resist underlayer film having excellent storage stability, forming a resist underlayer film with low infiltration of a resist material, having excellent adhesion to a resist film, improving reproducibility of a resist pattern, and having resistance to an alkali solution used for development and to oxygen ashing in resist removal.例文帳に追加

レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a vinyl ester resin which can easily be dried on preliminary heat drying to exhibit an improvement on tack-freeness, excels in developability with an alkali aqueous solution, and excels in the physical properties of a material after curing such as electrical properties, mechanical properties, heat resistance, solvent resistance, adhesion, and flexibility, a vinyl ester resin composition, and its cured product.例文帳に追加

予備加熱乾燥時に容易に乾燥できタックフリー性の向上を示し、アルカリ水溶液による現像性に優れ、かつ硬化後の材料の電気特性、機械特性、耐熱性、耐溶剤性、密着性、可撓性等の物理性状に優れたビニルエステル樹脂およびビニルエステル樹脂組成物、ならびにその硬化物を提供すること。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing repeating structural units with norbornene and repeating structural units containing a specified alicyclic hydrocarbon structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）ノルボルネンを有する繰り返し構造単位、特定の脂環式炭化水素構造を含む繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition contains a resin (A) soluble in an alkaline aqueous solution, a crosslinking agent (B), a photopolymerization initiator (C) and a curing agent (D), wherein the curing agent (D) is an epoxy resin varnish obtained by adding an organic solvent to a glyoxal-phenol condensate after glycidyl-etherification with an epihalohydrin.例文帳に追加

アルカリ水溶液可溶性樹脂（Ａ）、架橋剤（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び硬化剤（Ｄ）を含有する感光性樹脂組成物において、該硬化剤（Ｄ）が、グリオキザールとフェノール類の縮合物をエピハロヒドリンによるグリシジルエーテル化後に有機溶剤を添加することによって得られるエポキシ樹脂ワニスであることを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an alkali detergent composition which is preferable for washing a metal having corrosion sensitivity in alkali solution, especially for washing a soft metal such as aluminum or its alloy, or a galvanized steel such as a zinc-coated steel, and which can wash the inside surface that is difficult to be reached without additional mechanical treatment.例文帳に追加

アルカリ液中において腐食感受性である金属の洗浄に対して、特に、アルミニウムもしくはその合金のような軟質金属、または亜鉛めっき鋼のようなガルバナイズドスチールの洗浄に対して好適で、また追加の機械的処理を必要とせずに到達することが困難な内側の表面の洗浄を可能にするアルカリ洗浄組成物を提供する。 - 特許庁

This method for producing the thermoplastic resin composition containing inorganic fine particles in a thermoplastic resin is characterized by comprising a process for mixing the inorganic fine particles, an organic solvent and the thermoplastic resin in the presence of high pressure carbon dioxide and a process for removing the organic solvent from the mixture solution.例文帳に追加

熱可塑性樹脂に無機微粒子を含有する熱可塑性樹脂組成物の製造方法において、無機微粒子と有機溶媒と熱可塑性樹脂を高圧の二酸化炭素の存在下で混合を行った後に、混合溶液における前記有機溶媒を除去する工程を含有することを特徴とする熱可塑性樹脂組成物の製造方法。 - 特許庁

To provide a composition to be used by dispersing/dissolving, preferably before using, in an aqueous vehicle such as water which is excellent in the dispersion/dissolution properties in the aqueous vehicle and stability after the dispersion/dissolution and the dispersion/solution of which in the aqueous vehicle is favorable in appearance, taste, flavor and texture such as coarseness as a food or a drug.例文帳に追加

水をはじめとする水性媒体に、好ましくは用時に、分散・溶解して用いられる組成物であって、水性媒体への分散・溶解性および分散・溶解後の安定性に優れ、さらに水性媒体に分散・溶解されたものが、食品または医薬品として、外観、味、風味、さらにざらつきなどの食感においても好ましい組成物の提供。 - 特許庁

The composition for forming a PZT thin film is a colloidal solution containing organic metallic compounds containing metals constituting the lead zirconate titanate (PZT) thin film and contains a multidentate ligand compound of Ti as an organic metallic compound containing Ti and an alkoxide of Zr as an organic metallic compound containing Zr.例文帳に追加

チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）薄膜を構成する金属を含む有機金属化合物を含有するコロイド溶液であり、Ｔｉを含む有機金属化合物としてＴｉの多座配位子化合物を含有すると共に、Ｚｒを含む有機金属化合物としてＺｒのアルコキシドを含有するＰＺＴ薄膜形成用組成物とする。 - 特許庁

The composition consists of a hydrophilic polyurethane resin having a hydrophilic segment, a polysiloxane segment and a hydrolyzable silyl group, and a fine particulate alumina, wherein the fine particulate alumina is stably dispersed in the hydrophilic polyurethane resin solution.例文帳に追加

親水性セグメントとポリシロキサンセグメントと加水分解性シリル基とを有する親水性ポリウレタン系樹脂と微粒子アルミナとからなる組成物であって、その溶液においては、微粒子アルミナが上記の親水性ポリウレタン系樹脂溶液に安定して分散していることを特徴とするアルミナ分散親水性ポリウレタン系樹脂組成物及びその製造方法。 - 特許庁

The positive-type photoresist composition contains (A) a resin, containing repeating structural units with a specified bridged alicyclic structure and repeating units with a specified lactone structure and having rate of dissolution in an alkali developing solution increased due to the action of an acid and (B) a compound which generates the acid, when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a cleanser composition for circulation type bathtubs, bath heaters and cooling water system equipments, which has excellent cleansing forces, can safely and simply cleanse, has excellent storage stability, has low corrosiveness to various metals, when used as aqueous solutions, and does not produce irritative odors even in a high concentration aqueous solution.例文帳に追加

本発明は、洗浄力に優れ、安全かつ、簡単に洗浄することのできるとともに、保存安定性に優れ、水溶液にして使用した場合に各種金属に対する腐食性が低く、しかも高濃度水溶液にしても刺激臭を発生しない、循環式浴槽、風呂釜及び冷却水系設備用洗浄剤組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The additive composition for a color development processing liquid of a silver halide color photosensitive material added to a color developing solution used for the image formation of a silver halide color photosensitive material contains a compound expressed by general formula (1).例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料の画像形成に用いる発色現像処理液に添加するハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物であって、下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物。 - 特許庁

An aqueous solution or suspension containing elements required for the composition of a desired phosphor is dispersed in a nonaqueous medium to prepare a W/O emulsion, which is then dehydrated to prepare a powder composed of a spherical particle as a phosphor precursor, and subsequently the powder is calcined in an oxidizing atmosphere or calcined and then reduced.例文帳に追加

目的とする蛍光体の組成比にて所要の元素を含む水溶液又は水懸濁液を非水媒体中に分散させて、Ｗ／Ｏ型エマルジョンとした後、このエマルジョンを脱水して、球状粒子からなる粉体を蛍光体前駆体として得、次いで、この粉体を酸化性雰囲気中で焼成し、又は焼成した後、還元する。 - 特許庁