例文 (927件) |
antireflection layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 927件
A cured product obtained by curing the curable resin composition is used in an antireflection coating 10 as a low-refractive-index layer 18.例文帳に追加
この硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物は、低屈折率層18として反射防止膜10に用いられる。 - 特許庁
An antireflection layer 3b formed on a light-shielding film pattern 2a is made of the same material as the material of a transparent film 3.例文帳に追加
遮光膜パターン2a上に形成された反射防止層3bの材料が透明性膜3の材料と同一であること。 - 特許庁
An anti-reflective flame-retardant polymer member includes a polymer layer (B), a flame-retardant layer (A), and an antireflection layer (L) in this order, in which the flame-retardant layer (A) contains a layered inorganic compound (f) in the polymer.例文帳に追加
本発明の反射防止性難燃ポリマー部材は、ポリマー層(B)、難燃層(A)、反射防止層(L)をこの順に含む反射防止性難燃ポリマー部材であって、該難燃層(A)は、ポリマー中に層状無機系化合物(f)を含有する層である。 - 特許庁
The antireflection member is obtained by successively disposing at least a low reflection layer 5 and a stain-proofing layer 6 on one face of a transparent substrate 1, the low reflection layer 5 is composed of an inorganic compound and the stain-proofing layer 6 is composed of a silane compound of formula 1.例文帳に追加
透明基板1の一方の面に少なくとも低反射層5と防汚層6とが順に積層され、低反射層5が無機化合物からなり、防汚層6が一般式化1で示されるシラン化合物からなる。 - 特許庁
To provide an ARC(antireflection coating) layer which effects more improved CD(critical dimension) control, so as to lessen a resist layer in reflectivity in a lithographic process.例文帳に追加
従来技術における欠点を解消すべく、より改善されたCD(クリティカル・ディメンション;限界寸法)制御をもたらすARC(反射防止コーティング)層を提供すること。 - 特許庁
The multilayer antireflection layer includes a compound layer having at least two adjacent metal oxide layers which have a same metal element and different oxide concentration.例文帳に追加
前記多層反射防止膜は、金属元素が同一であり、かつ酸素含有量が異なる少なくとも2つの金属酸化物層を隣接して有する複合層を含む。 - 特許庁
The second surface is comprised of a surface of a low refractive index layer of an antireflection film 30 having at least the low refractive index layer or a surface having anti-glare irregularities 35.例文帳に追加
第2面は、少なくとも低屈折率層を有した反射防止膜30の前記低屈折率層の表面、あるいは、防眩性凹凸35を有した面からなる。 - 特許庁
To obtain a coating agent for a low-refractive index layer having excellent adhesivity to a lower layer and an antireflection film having excellent scratch resistance, using the same.例文帳に追加
本発明は、下層との密着性に優れた低屈折率層用塗工剤およびそれを用いた耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁
The antireflection film 2 consists of the optical multi-layered film formed by laminating low-refractive layers and high-refractive layers and the diamond like carbon layer constitutes one layer of the optical multi-layered film.例文帳に追加
反射防止膜2は、光学的に低屈折層と高屈折層を積層した光学多層膜からなり、ダイヤモンドライクカーボン層は光学多層膜の一層を構成する。 - 特許庁
The laminated polyester film for transferring an antireflection layer has the applied layer containing a release agent and an antistatic additive at least on one face of the polyester film.例文帳に追加
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型剤および帯電防止剤を含有する塗布層を有することを特徴とする反射防止層転写用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁
This optical element 1 includes an optical base material 11, an intermediate layer 12 laminated on the optical base material 11, and an antireflection film 13 laminated on the intermediate layer 12.例文帳に追加
光学素子1は、光学基材11と、光学基材11に積層された中間層12と、中間層12に積層された反射防止膜13とを備える。 - 特許庁
NEAR INFRARED ABSORBING ADHESIVE FILM, ANTIREFLECTION FILM WITH NEAR INFRARED ABSORBING ADHESIVE LAYER, ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELD FILM WITH NEAR INFRARED ABSORBING ADHESIVE LAYER, AND FILTER FOR PLASMA DISPLAY例文帳に追加
近赤外吸収粘着フィルム、近赤外吸収粘着層付き反射防止フィルム、近赤外吸収粘着層付き電磁波シールドフィルム、プラズマディスプレイ用フィルター - 特許庁
To provide an antireflection film having a low refractive index layer, having water repellency/oil repellency and scratch resistance on a plastic film base through or without through another layer.例文帳に追加
プラスチックフィルム基材上に、他の層を介して又は介さずに、撥水・撥油性で、且つ耐擦傷性を兼ね備えた、低屈折率層を形成した反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁
Both the high refractive index layer and low refractive index layer in each mutual stacked body composing the antireflection films 15, 16 are formed by an ion beam assisted deposition process.例文帳に追加
反射防止膜15,16を構成する交互積層体の高屈折率層及び低屈折率層のいずれもがイオンアシスト蒸着法により形成されている。 - 特許庁
The antireflection film is constituted by layering an easy adhesion layer 2, a hard coat layer 3, a transparent conductive layer 4, a light absorbing layer 5 and the low refractive index layer 6 in this order on transparent base material film 1 or by layering the hard coat layer, a conductive light absorbing layer and the low refractive index layer in this order on the transparent base material film.例文帳に追加
透明基材フィルム1上に、易接着層2、ハードコート層3、透明導電層4、光吸収層5及び低屈折率層6をこの順で積層してなる反射防止フィルム、或いは、透明基材フィルム上に、ハードコート層、導電性光吸収層及び低屈折率層をこの順で積層してなる反射防止フィルム。 - 特許庁
The antistatic layer and the antireflection layer are successfully formed on the light control layer 2 by satisfactorily dispersing the conductive oxide nanoparticles in the second ink having affinity to the first ink, and the yield in a manufacturing process of the optical filter is improved by suppressing the occurrence of cracks in the antistatic layer and the antireflection layer when hardening these layers by heat.例文帳に追加
第1のインクと親和性のある第2のインクに導電性酸化物ナノ粒子を良好に分散させることにより、調光層2上に良好に帯電防止層、反射防止層を形成でき、帯電防止層、反射防止層の熱硬化の際にこれら層に割れが生じることを抑えて光学フィルタの製造工程での歩留を改善することができる。 - 特許庁
To provide an antireflection film which includes a hard coat layer and an antireflection layer in order on a transparent base material, which has sufficient antireflection function and antistatic function and has high total light transmittance and is free from the occurrence of interference fringes and maintains the sufficient antistatic function even when applied with heat or the like.例文帳に追加
透明基材上にハードコート層、反射防止層を順に備える反射防止フィルムにあって、十分な反射防止機能と帯電防止機能を有し、全光線透過率が高く、干渉縞の発生の無い反射防止フィルムであって、さらに、熱等を加えても十分な帯電防止機能を維持できる反射防止フィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁
By subjecting them to thermal processing to diffuse dopants onto them, a high-concentration emitter layer 5 and a low-concentration emitter layer 6 are formed, and an antireflection film 7 with a low refractive index is formed on the high-concentration emitter layer 5 and an antireflection film 8 with a high refractive index is formed on the low-concentration emitter layer 6 by using metal compounds contained in the dispersant agents.例文帳に追加
熱処理を行って、ドーパントを拡散させ、高濃度エミッタ層5および低濃度エミッタ層6を形成するとともに、拡散剤に含まれる金属化合物により、高濃度エミッタ層5の上に低屈折率の反射防止膜7を形成し、低濃度エミッタ層6の上に高屈折率の反射防止膜8を形成する。 - 特許庁
The low reflection film is formed so that a hard coat layer and an antireflection layer are laminated in sequence on a fine uneven surface of the transparent substrate film, wherein the fine uneven surface has the surface roughness of 0.05 to 0.15 μm in the one surface and the refractive index of the hard coat layer is higher than that of the antireflection layer.例文帳に追加
一方の面に0.05〜0.15μmの範囲の表面粗さからなる微細凹凸面を有する透明基材フィルムの前記微細凹凸面にハードコート層と反射防止層とが順に積層され、前記ハードコート層の屈折率が前記反射防止層の屈折率よりも高く形成されていることを特徴とする低反射フィルム。 - 特許庁
The antireflection film comprises one or more antireflection layers 2 on a support 1 and having a hard coating layer 4 thereon, an adhesive layer 3 mainly containing a cationic polymerizable ultraviolet curable epoxy resin composition and provided on the layer 4 in such a manner that the support 1 is releasable from the layer 2.例文帳に追加
支持体1上に、1層又は2層以上からなる反射防止層2を有し、反射防止層2上にハードコート層4を有し、ハードコート層4上にカチオン重合性紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物から主として構成される接着剤層3を有し、支持体1は反射防止層2から剥離可能である転写用反射防止フィルム。 - 特許庁
The antiglare antireflection film is obtained by sequentially stacking an antiglare layer and an antireflection layer on a transparent substrate directly or across another layer, wherein the antiglare layer comprises inorganic fine particles having an average particle diameter of 0.001-0.2 μm, fine particles having an average particle diameter of 0.5-10 μm and an active energy ray curing resin.例文帳に追加
透明基材上に直接または他の層を介して防眩層、反射防止層が順次積層された防眩性反射防止フィルムであって、防眩層が平均粒径0.001〜0.2μmの無機微粒子および平均粒径0.5〜10μmの微粒子および活性エネルギー線硬化型樹脂を含むことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。 - 特許庁
The method for manufacturing the spectacle lens includes a process step of obtaining the lens cut to a spectacle frame shape provided with an antireflection film mainly composed of silicon dioxide on the outermost layer of a lens base material and a process step of forming a water repellent layer on the outer side of the antireflection film of the lens.例文帳に追加
レンズ基材上の最外層に主として二酸化ケイ素からなる反射防止膜を備えた眼鏡枠形状に切削されたレンズを得る工程と、該レンズの反射防止膜の外側に撥水層を施す工程を含む眼鏡レンズの製造方法である。 - 特許庁
In an antireflection article 10, fine irregularities 2 is provided on one surface of a transparent base material 1, and an antireflection film 3 which doesn't have fine irregularities like a dielectric multi-layered film and has a layer having a low refractive index and is constituted of a single layer or many layers is provided on the other surface.例文帳に追加
反射防止物品10は、透明基材1の表面に微細凹凸2を設け、別の面には、誘電体多層膜等の微細凹凸は持たず少なくとも低屈折率層を有し単層又は多層から構成される反射防止膜3を設ける。 - 特許庁
In the antireflection film 20, an antireflection layer 12 is formed on one surface of an organic film 11, and on the other surface thereof, an adhesive layer 13 capable of being reworked with respect to the display surface and of being completely peeled off after being stuck onto the display surface is formed.例文帳に追加
反射防止フィルム20は、有機フィルム11の一方の面に反射防止層12が形成され、他方の面に表示面に対してリワークが可能であると共に、表示面に貼着後完全に剥離可能な粘着剤層13が形成されている。 - 特許庁
To provide an antireflection film for transferring in which an antireflection layer having a uniform thickness is imparted to the surface of an article deficient in flexibility like a plate material by transferring and which has excellent antireflecting effect of the light of a visible beam range.例文帳に追加
均一厚みの反射防止層を転写により板材のように可撓性に乏しい物体表面に付与でき、可視光領域の光の反射防止効果に優れる転写用反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an antireflection member, by which an antireflection layer having scratch resistance, wear resistance and low reflectance and being uniform within the plane can be formed on a support substrate in the minimum number of coating processes.例文帳に追加
支持基材上に可能な限り少ない塗工回数で、耐擦傷性、耐摩耗性、低反射率を有し、面内に均一な反射防止層が形成可能な反射防止部材の製造方法を提供する。 - 特許庁
The antireflection film is provided with a base material film which is constituted by laminating (k) layers of thermoplastic resin layers (wherein (k) is an integer of two or more) and an antireflection layer which is laminated on at least one surface of the base material film.例文帳に追加
反射防止フィルムは、k個(kは2以上の整数)の熱可塑性樹脂層が積層されてなる基材フィルムと、基材フィルムの少なくとも一方の面に積層される反射防止層とを備え、下記(1)、(2)を満たす。 - 特許庁
To provide a resist upper layer antireflection film which achieves a high antireflection effect, can be removed simultaneously with development of a resist to ensure high process easiness, and does not cause mixing with the resist so that resist profile is not varied.例文帳に追加
高い反射防止効果を達成し、かつレジストの現像と共に除去可能でプロセス簡便性が高く、レジストとミキシングを起こさずにレジストの形状を変化させないレジスト上層反射防止膜を提供する。 - 特許庁
To provide an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist layer, having a high dry etching rate compared to the photoresist and giving a wide focus depth margin.例文帳に追加
反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、広いフォーカス深度マージンを与える、リソグラフィー用反射防止膜を提供すること。 - 特許庁
To provide an antireflection laminate having sufficient antireflection property, excellent in the adhesion between individual layers composing a plurality of layers provided on a transparent substrate, and excellent in physical strength regarding the layer of the surface side.例文帳に追加
十分な反射防止性能を有し、かつ透明基材上に設けられた複数の層を構成する各層間の密着性および表面側の層の物理的強度に優れる反射防止積層体を提供すること。 - 特許庁
To provide a composition for the formation of an antireflection film having a high antireflection effect, free from intermixing with a resist layer, and usable for the lithographic process using irradiation light of a F2 excimer laser (at 157 nm wavelength).例文帳に追加
反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングを起こさない、F2エキシマレーザー(波長157nm)の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜形成組成物を提供すること。 - 特許庁
In the method for patterning a chemically amplifying type resist by using an antireflection film containing a photoacid producing agent as a base layer, the antireflection film in the region where a sparse pattern is to be formed is preliminarily subjected to alkali treatment.例文帳に追加
光酸発生剤を含有する反射防止膜を下地層として用いた化学増幅型レジストのパターニング方法において、疎なパターンを形成する領域の反射防止膜に対しあらかじめアルカリ処理を行う。 - 特許庁
The antireflection film is provided with a base material film which is constituted by laminating a plurality of thermoplastic resin layers and an antireflection layer which is laminated on at least one surface of the base material film.例文帳に追加
本発明の反射防止フィルムは、複数の熱可塑性樹脂層が積層されてなる基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層される反射防止層とを備え、下記(1)、(2)を満たす。 - 特許庁
To provide an optical function film having high productivity and antireflection effect without entailing the degradation in quality such as color unevenness even when an antireflection layer is formed by a wet coating method.例文帳に追加
本発明は、ウェットコーティング法で反射防止層を形成した場合でも色むらなどの品質の低下を招くことなく、生産性及び反射防止効果の高い光学機能フィルムを提供することをその課題とする。 - 特許庁
To provide a composition for the formation of an antireflection film which has a high antireflection effect, causes no intermixing with a resist layer and can be used in lithographic processes using irradiation light of ArF excimer laser (at 193 nm wavelength).例文帳に追加
反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングを起こさない、ArFエキシマレーザー(波長193nm)の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜形成組成物の提供。 - 特許庁
A method for manufacturing a spectacle lens in which an anti-fog layer is provided on a lens base material having an inorganic antireflection film with an SiO_2 layer formed on the outermost surface of the lens base material includes the following steps of: processing the SiO_2 layer of the inorganic antireflection film by a process liquid containing an inorganic alkali; and then forming a hydrophilic film.例文帳に追加
最外面にSiO_2の層を有する無機反射防止膜が形成されたレンズ基材上に、防曇層が設けられた眼鏡レンズの製造方法であって、前記無機反射防止膜のSiO_2の層を、無機アルカリを含む処理液で処理し、ついで、親水性膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method for producing a lens having high scratch resistance and adhesiveness with an antireflection layer, and to provide a coating liquid having a long pot life.例文帳に追加
耐擦傷性および反射防止層との密着性の高いレンズの製造方法およびポットライフの長い塗布液を提供する。 - 特許庁
A cured material obtained by curing this setting resin composition can be used as a low reflection index layer 18 in antireflection coating 10.例文帳に追加
この硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物は、低屈折率層18として反射防止膜10に用いることができる。 - 特許庁
By providing an antireflection layer which geometrically includes a plurality of adjacent hexagonal pyramid-shaped projections, reflection of light is prevented.例文帳に追加
隣接する複数の六角錐形状の凸部を幾何学的に具備する反射防止層を備えることによって、光の反射を防止する。 - 特許庁
In addition, since the antireflection film is exposed from the insulating layer, the sensitivity of light can be improved by suppressing the fluctuation of incident light.例文帳に追加
また、反射防止膜は絶縁層から露出するので、入射光のばらつきを抑え、光の感度の向上を図ることができる。 - 特許庁
When this film is utilized as an antireflection layer, it is preferable to set the refractive index thereof to 1.20-1.43 and the thickness thereof to 0.01-1 μm.例文帳に追加
この被膜を反射防止層として利用する場合は、屈折率1.20〜1.43、膜厚0.01〜1μmの範囲とするのが好ましい。 - 特許庁
When this film is utilized as an antireflection layer, it is preferable to set the refractive index thereof to 1.20-1.45 and the thickness thereof to 0.01-1 μm.例文帳に追加
この被膜を反射防止層として利用する場合は、屈折率1.20〜1.45、膜厚0.01〜1μmの範囲とするのが好ましい。 - 特許庁
The antireflection film has the low refractive index layer which is covered with an organic polymer compound and which comprises particulates having voids.例文帳に追加
高分子有機化合物で被覆され、且つ空隙を有する微粒子を含んでなる低屈折率層を有する反射防止膜である。 - 特許庁
A antireflection film 27a, consisting of an oxynitride film, is formed on a conductive layer for gate electrode formation using plasma CVD method.例文帳に追加
プラズマCVD法を用いてゲート電極形成用の導電層上に酸化窒化膜からなる反射防止膜27aを形成する。 - 特許庁
The antireflection film contains a low refractive index layer formed by coating the film forming composition on a transparent support body.例文帳に追加
この皮膜形成用組成物を、透明支持体上に塗設することにより形成される低屈折率層を含む反射防止フィルム。 - 特許庁
To always provide an increased resolution of a photoresist image patterned on an antireflection coating layer.例文帳に追加
電子デバイス製造業者は、反射防止コーティング層の上のパターン形成されたフォトレジスト画像の増加した解像度を絶えず求めている。 - 特許庁
To provide an antireflection film, having a low refractive index layer less liable to surface scuffing due to abrasion and which is free of peeling.例文帳に追加
擦過による低屈折率層の表面への傷が付きにくく、低屈折率層の剥離のない反射防止フィルムを提供すること。 - 特許庁
This polyester film for the antireflection film provided at least on one side with an easy adhesion layer containing an organic compound having a metal element and having the reflectance of the easy adhesion layer surface against an arbitray wavelength within a range of 350 to 800 nm is ≥4.0%, and the antireflection film characterized by that antireflection function is given on the easy adhesion layer side, are provided.例文帳に追加
少なくとも片面に易接着層を有するポリエステルフィルムであり、当該易接着層は、金属元素を有する有機化合物を含有し、波長350〜800nmの任意の波長に対する前記易接着層表面の反射率が4.0%以上であることを特徴とする反射防止フィルム用ポリエステルフィルム、および前記易接着層側に反射防止機能を付与したことを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁
The method includes steps of: forming an organic antireflection film containing a photoacid generating agent on a film to be etched; heat treating the organic antireflection film at a predetermined temperature; forming a chemically amplified photoresist layer on the organic antireflection film; transferring a pattern on a mask by using a light source at a single wavelength onto the chemically amplified photoresist layer; and developing the chemically amplified photoresist layer.例文帳に追加
被エッチング膜上に、光酸発生剤を含む有機反射防止膜を形成する工程と、有機反射防止膜を所定温度で熱処理する工程と、有機反射防止膜上に化学増幅型フォトレジスト層を形成する工程と、化学増幅型フォトレジスト層に単一波長の光源を用いてマスク上のパターンを転写する工程と、化学増幅型フォトレジスト層を現像する工程とを有する。 - 特許庁
The electrically conductive antireflection film comprises a colored layer containing at least one selected from gold, silver, elements of the platinum group and their compounds and a cobalt-containing inorganic pigment as a 1st layer and a transparent layer having a refractive index of 1.3-1.6 to visible light as a 2nd layer.例文帳に追加
第1の層は、金、銀、白金族の元素およびそれらの化合物から選ばれる少なくとも1種と、コバルト含有無機顔料を含む着色層であり、第2の層は、可視光の屈折率が1.3〜1.6の透明層である。 - 特許庁
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