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「antireflection layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索
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antireflection layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 927



例文

The antireflection laminate has a low refractive index layer on a transparent substrate, wherein the low refractive index layer is a cured product of a coating agent containing a monomer (a) having an acryloyl or methacryloyl group and an epoxy or amino group, an acryl or methacryl modified and amino or epoxy modified dimethylsilicone oil (b) and hollow silica fine particles (c).例文帳に追加

透明基材上に低屈折率層を有する反射防止積層体であって、前記低屈折率層が、アクリロイル基若しくはメタクリロイル基、及び、エポキシ基若しくはアミノ基を、有するモノマー(a)、アクリル変性若しくはメタアクリル変性、及び、アミノ変性若しくはエポキシ変性の、ジメチルシリコーンオイル(b)、並びに中空シリカ微粒子(c)を含有する、コーティング剤の、硬化物であることを特徴とする反射防止積層体。 - 特許庁

To provide a low moisture vapor transmissive hard coat film formed by laminating a hard coat layer on a transparent base material, preventing lowering of durability caused by deformation of a PVA layer due to water absorption in a high temperature and high humidity environment, deterioration of a polarizer and hydrolysis of a TAC film, retention of moisture in an antireflection film generated from the polarizing plate or the TAC film itself in a high temperature environment.例文帳に追加

透明基材上にハードコート層を積層したハードコートフィルムにおいて、高温高湿環境下におけるPVA層の吸水による変形、偏光子の劣化およびTACフィルムの加水分解、および高温環境下においての偏光板やTACフィルムそのものから発生した水分が反射防止フィルム中に滞ることにより、耐久性が低下を改善することができる低透湿度ハードコートフィルムを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing an antireflection film includes the steps of applying a coating composition made by mixing the following (A)-(D) components onto a base material to form a coating film; vaporizing a solvent from the coating film to dry the coating film; curing the coating film to form a cured layer, in this order, and forms a multilayer structure with different refractive indexes from the coating composition.例文帳に追加

下記(A)〜(D)成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

The antireflection film material used as a resist intermediate layer film of a multilayer resist film used for lithography contains a polymer compound obtained by the reaction of a polymer compound having a repeating unit expressed by general formula (1) with a chelating agent, an organic solvent and an acid generator.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト中間層膜として用いる反射防止膜材料であって、少なくとも、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物をキレート化剤と反応させて得られる高分子化合物と、有機溶剤と、酸発生剤とを含有することを特徴とする反射防止膜材料。 - 特許庁

例文

The screen has configuration such that an opening is provided nearby the focus of a lenticular lens on an image observation side surface of a first component, the opening having a light absorption layer with a finite width at a border part between the openings, antireflection processing is applied to an image observation side surface of a second component, and the first component and second component are coupled to each other.例文帳に追加

スクリーンとして、第1の構成要素の画像観視側面のレンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第2の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第1の構成要素と前記第2の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁


例文

The screen is constituted by providing an aperture part near the focus of a lenticular lens on the image viewing side surface of a first component element, providing a light absorption layer having finite width at a boundary part between the aperture parts, and performing antireflection treatment to the image viewing side surface of a second component element, and then combining the first component element and the second component element.例文帳に追加

スクリーンとして、第1の構成要素の画像観視側面レンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第2の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第1の構成要素と前記第2の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁

The antireflection film having the low refractive index layer laminated at least on one side of a transparent base material is formed using a low refractive index coating agent containing an organic modified poly siloxane of a leveling agent and at least a low refractive index silica particle having void inside the particles in an ionizing radiation curing type material.例文帳に追加

透明基材の少なくとも片面に、低屈折率層を積層した反射防止フィルムにおいて、電離放射線硬化型材料に、レベリング剤である有機変性ポリシロキサンと、少なくとも粒子の内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を含有してなる低屈折率コーティング剤を用いて形成されることを特徴とする反射防止フィルムである。 - 特許庁

To provide an antireflection film which is highly packed with hollow particulates within a low-refractive index layer, assures a low refractive index by the voids in the hollow particulates to make prevention of reflection possible and can improve wear resistance by packing a second binder into the gaps among the hollow particulates to intensify the bond between the hollow particulates.例文帳に追加

中空微粒子が低屈折率層内において高充填されており、中空微粒子の内部の空洞によって低屈折率を確保して反射防止を可能とし、また、中空微粒子間の空隙に第2バインダーを充填することによって中空微粒子間の結合を補強して耐摩耗性を向上することができる反射防止膜を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing an antireflection film comprises steps of: applying a coating composition on a substrate to form a coated film; volatilizing a solvent from the coated film and drying it; and curing the coated film to form a cured layer, in this order, and thereby forming a multilayer structure composed of layers, each having different refractive indexes, from the coating composition.例文帳に追加

下記(A)〜(D)成分を含有する塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

例文

To provide an antireflection film very low in refractive index and having a low refractive index layer the surface of which is hardly flawed by scuff or the like, which is never peeled, and is also prevented from sticking dirt such as finger prints, skin fat, sweat and cosmetics, and is made easily to wipe off the dirt even if it adheres.例文帳に追加

屈折率が非常に低く、擦過などによる低屈折率層の表面に傷が付きにくく、低屈折率層の剥離がなく、また、低屈折率層の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止し、付着しても容易に拭き取れるようにする低屈折率層を有する反射防止フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

例文

The screen is constituted by providing an aperture part near the focus of a lenticular lens on the picture viewing side surface of a 1st component element, providing a light absorbing layer having finite width at the mutual boundary part of the aperture parts, and performing antireflection processing to the picture viewing side surface of a 2nd component element, and then coupling the 1st component element and the 2nd component element.例文帳に追加

スクリーンとして、第1の構成要素の画像観視側面レンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第2の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第1の構成要素と前記第2の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁

In the antireflection film, formed by laminating one or more layers of metal oxide thin films on a base material film, at least one metal oxide thin-film layer formed by bringing a gaseous component, composed of a metal compound having hydrolyzability into reaction with the moisture vapor generated from the base material film is used.例文帳に追加

基材フィルム上に1層以上の金属酸化物薄膜が積層されてなる反射防止フィルムにおいて、金属酸化物薄膜層のうち少なくとも1層に、加水分解性を有する金属化合物からなるガス成分を、基材フィルムから発生する水蒸気と反応させることにより形成された金属酸化物薄膜層を用いる。 - 特許庁

To provide a dye-sensitized photoelectric conversion element and its manufacturing method wherein an antireflection film endures heating in calcination necessary for manufacturing of a dye-sensitized semiconductor layer and it is excellent in its productivity and cost performance and a low reflection ratio is realized at a wide wavelength range of visible light and high photoelectric conversion efficiency is obtained.例文帳に追加

反射防止膜が色素増感半導体層の作製に必要な焼成時の加熱に耐えることができ、しかも生産性・コストパフォーマンスに優れており、また、可視光の広範囲の波長域にわたって低い反射率を実現することができ、高い光電変換効率を得ることができる色素増感光電変換素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

There is provided a composition for forming a low refractive index layer which comprises hollow silica particles, a fluoro(meth)acrylate compound obtained by reacting a compound having 3 or more isocyanate groups in the molecule and a specific fluoroalcohol and 2-hydroxyethyl(meth)acrylate, a (meth)acrylate monomer, a photoinitiator and a solvent, and a an antireflection film, a polarizing plate and a display device using the composition.例文帳に追加

中空シリカ粒子、分子中に3個以上のイソシアネート基を有する化合物と、特定のフルオロアルコール及び2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを反応させて得られるフルオロ(メタ)アクリレート化合物、(メタ)アクリレートモノマー、光開始剤及び溶剤を含んでなる低屈折率層形成用組成物、及びこれを用いた反射防止フィルム、偏光板並びに表示装置。 - 特許庁

The antireflection film comprises hard coat layers having a high refractive index and low refractive index layers layered on a transparent base film, wherein the high refractive index layer consists of a gel film having a refractive index of 1.65 or more formed from a sol liquid containing an oxide sol of titanium or tantalum and a reactive organosilicon compound such as methyltrimethoxysilane in a liquid medium.例文帳に追加

透明基材フイルム上に、高屈折率を有するハードコート層及び低屈折率層を積層してなる反射防止フイルムにおいて、上記高屈折率層が、液媒体中にチタン又はタンタルの酸化物ゾルと、メチルトリメトキシシラン等の反応性有機珪素化合物とを含むゾル液から形成された屈折率1.65以上のゲル膜からなることを特徴とする反射防止フイルム。 - 特許庁

A phase shifter film is composed of a film consisting of four or more layers in which high refractive index layers with a function to mainly adjust the transmittance and low refractive index layers with a function to mainly adjust a phase shift amount are stacked alternately, and at least one layer of low refractive index layers is designed so as to have an antireflection function at least to exposure light.例文帳に追加

位相シフター膜が、主に透過率を調整する機能を持った高屈折率層と、主に位相シフト量を調整する機能を持った低屈折率層とを交互に積層した4層以上の膜からなり、低屈折率層のうち少なくとも一層が、少なくとも露光光に対する反射防止機能を有するように設計されていることを特徴とする。 - 特許庁

To form a resist laminate having a sufficient antireflection effect, particularly in a photolithography process using rays in a vacuum ultraviolet region, and sufficient developing characteristics in a developing process of the photolithography, by forming an antireflective film for a resist on the photoresist layer, the antireflective film comprising a fluorine-containing polymer having a lower refractive index and excellent in solubility in a developing solution.例文帳に追加

より低屈折率で、かつ現像液溶解性に優れた含フッ素重合体からなるレジスト用反射防止膜をフォトレジスト層上に設けることで、特に真空紫外領域の光線を利用するフォトリソグラフィープロセスにおいて充分な反射防止効果を有し、かつその中の現像プロセスにおいても充分な現像特性を有するレジスト積層体を形成する。 - 特許庁

The polyester film for antireflection film has a coating layer provided by applying a coating agent including an organic compound having metal element and an aqueous urethane resin at least on one surface of polyester film which is stretched at least in uniaxial direction and drying the applied coating agent, wherein the absolute reflectivity with respect to an arbitrary wavelength of wavelength 400 to 800 nm is 4.0% or more.例文帳に追加

少なくとも一軸方向に延伸されたポリエステルフィルムの少なくとも片面に、金属元素を有する有機化合物と水性ウレタン樹脂とを含有する塗布剤を塗布し、乾燥させることにより設けられた塗布層を有し、波長400〜800nmの任意の波長に対して絶対反射率が4.0%以上であることを特徴とする反射防止フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

In this organic electroluminescent element, the diffuse reflectivity of the entire element is reduced by disposing an antireflection film formed with an island-like absorber film or an absorber dispersion film and a conductive transparent body film on a luminescent layer-side interface of a metal back electrode to reduce regular reflection of a metal film, whereby contrast improvement under strong external light is realized.例文帳に追加

本発明による有機エレクトロルミネッセンス素子は、金属背面電極の発光層側界面に、島状吸収体膜もしくは吸収体分散膜と導電性透明体膜からなる反射防止膜を配置することによって、金属膜の正反射を低減することにより素子全体の拡散反射率を低減し、強い外来光下におけるコントラスト改善を実現した。 - 特許庁

To provide an underlayer film forming material, the film functions as an underlayer film for a silicon-containing two-layer resist process or as a superior antireflection film, is adaptable to all wavelengths of 248 nm, 193 nm and 157 nm, has optimum n value and k value as compared with polyhydroxystyrene, cresol novolac, naphthol novolac, etc., and is excellent in etching resistance during substrate working, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

珪素含有2層レジストプロセス用下層膜として、優れた反射防止膜として機能し、248nm、193nm、157nmの全ての波長に対応し、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラック、ナフトールノボラックなどよりも最適なn値、k値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性が優れた下層膜形成材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The display front panel 40 comprises a transparent substrate 20, an antireflection film 30 prepared by applying coating liquid including an antireflective material on the viewer side of the transparent substrate 20, and a design layer 10 that is provided on the viewer side or the display part side of the transparent substrate 20 and located in a peripheral part of the transparent substrate 20 and that forms a non-display area.例文帳に追加

表示用前面板40は、透明基板20と、透明基板20の観察者側に反射防止材料を含む塗布液が塗布されることで設けられた反射防止膜30と、透明基板20の表示部側または観察者側に設けられ、透明基板20の周縁部に位置して非表示領域を形成する意匠層10と、を備えている。 - 特許庁

The filter is obtained by joining the first and second parallel flat plates with an adhesive layer in such a manner that the antireflection film and the band pass filter film form outer faces and that the two film planes form a specified inclination angle.例文帳に追加

上面に反射防止膜を形成した第1の平行平面板と、下面にバンドパスフィルタ膜を形成した第2の平行平面板とから成り、前記反射防止膜とバンドパスフィルタ膜それぞれが外面を形成するとともに、当該2つの膜面が所定の傾斜角度を形成するように前記第1及び第2の平行平面板を接着層を介して接合したことを特徴とする光バンドパスフィルタ。 - 特許庁

The antireflection layer is formed by curing a resin composition including: a first modified silicon compound having an acrylic or methacrylic group on at least one of both terminals thereof, and having a weight-average molecular weight of 8,000 or more; a second modified silicon compound having an acrylic or methacrylic group on a side chain thereof; a hollow or porous particle; and an ionizing radiation-curable resin.例文帳に追加

反射防止層は、両末端の少なくとも1方にアクリル基またはメタクリル基を有し、かつ、重量平均分子量8000以上を有する第1の変性シリコン化合物と、側鎖にアクリル基またはメタクリル基を有する第2の変性シリコン化合物と、中空粒子または多孔質粒子と、電離放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物を硬化することにより形成される。 - 特許庁

To provide a light emitting diode element for improving light take-out efficiency and having high light emitting efficiency by forming a cover layer wherein the change of an antireflection effect by the heat generation of a light emitting diode chip is small without the need of microfabrication to a substrate and the light emitting diode chip or an optical member for converging light, and to provide a light emitting diode device using it.例文帳に追加

基板や発光ダイオードチップへの微細加工や集光用光学部材を必要とせず、かつ、発光ダイオードチップの発熱による反射防止効果の変化が小さい被覆層を発光ダイオードチップ上に形成することによって光の取り出し効率を向上させ、高い発光効率を有する発光ダイオード素子およびそれを用いた発光ダイオード装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The optical element has the antireflection function, and includes a substrate which has a first uneven structure of projections or recessed, arrayed at a pitch equal to or less than a half of a wavelength λ, formed on a surface, and a thin film layer having at least one thin film on the first uneven structure, and the thin film layer has a lower refractive index than the substrate.例文帳に追加

反射防止機能を有する光学素子であって、波長λの半分以下のピッチで並ぶ、凸または、凹の形状をした第1の凹凸構造が表面に形成された基板と、前記第1の凹凸構造の上に少なくとも1層以上の薄膜を有する薄膜層と、を有し、前記薄膜層は、前記基板の屈折率よりも屈折率が低く、また、2層以上の薄膜を有する場合は、前記基板側から空気側に向かって、屈折率が低くなる順に配置され、前記薄膜層の最上層には、前記第1の凹凸構造に対応する第2の凹凸構造があるとともに、下記条件式を満たすことを特徴とする光学素子。 - 特許庁

The method of manufacturing the antireflection film manufacturing mold includes a fine hole forming process of forming the fine holes on the surface of the metal base body by anode oxidation, using the metal base body containing aluminum, and having an uneven layer with the uneven crystal state or surface shape, and in the fine hole forming process, a part of alumina film is etched.例文帳に追加

アルミニウムを含有し、表面に結晶状態あるいは表面形状が不均一となっている不均一層を有する金属基体を用い、陽極酸化によって上記金属基体の表面に微細孔を形成する微細孔形成工程を有する、反射防止フィルム製造用金型の作製方法であって、上記微細孔形成工程が上記アルミナ膜の一部をエッチングするものであることを特徴とする、反射防止フィルム製造用金型の作製方法を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

例文

The polarizing plate has a polarizer formed of a polyvinyl alcohol-based film, is set so that the transmittance of a single body is ≥44.0% and the degree of polarization is ≥99.60%, and is constituted by forming an antireflection layer on its surface.例文帳に追加

ポリビニルアルコール系フィルムから形成された偏光子を有する、単体透過率が44.0%以上、偏光度99.60%以上の偏光板であって、その表面に反射防止層が形成されてなり、偏光板表面の鏡面反射率Ymが0.80%以下で、鏡面反射色相x、yが0.17≦x≦0.27、0.07≦y≦0.17であり、波長440nmにおける平行透過率Tp440[%]と、波長550nmにおける平行透過率Tp550[%] と、波長610nmにおける平行透過率Tp610[%]と、直交透過率のYc値[%]とが、下記式(1)〜(3)を同時に満足する偏光板。 - 特許庁




  
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