例文 (927件) |
antireflection layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 927件
The antireflection filter comprises: a resin layer obtained by curing a radiation curable composition containing, as a constituent, radiation curable urethane(meth)acrylate obtained by reacting organic isocyanate having a plurality of isocyanate groups in one molecule, e.g., a compound obtained by subjecting a diisocyanate monomer to isocyanurate modification with polycaprolactone modified alkyl(meth)acrylate ; and an antireflection layer composed of a plurality of antireflection films.例文帳に追加
ジイソシアネートモノマーをイソシアヌレート変性させた化合物等の1分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとポリカプロラクトン変性アルキル(メタ)アクリレートとを反応させて得られる放線線硬化性のウレタン(メタ)アクリレートを構成成分として含有する放射線硬化型組成物を硬化させて得られる樹脂層、複数の反射防止膜よりなる反射防止層を有する反射防止フィルタ。 - 特許庁
To provide an antireflection film which is excellent in adhesion between the outermost layer and the lower layer, is further excellent in strength, flexibility, bending property or the like, can suppress irregularity of reflection light and can afford electrical characteristics and optical characteristics such as antistatic property and electrical conductivity, and to provide a transparent base material with the antireflection film.例文帳に追加
最表層とその下層との密着性に優れ、かつ、強度、柔軟性、屈曲性などに優れ、反射光ムラを抑制するとともに、帯電防止性、導電性などの電気的特性や、光学的特性を付与することができる反射防止膜および反射防止膜付き透明基材を提供する。 - 特許庁
In the antireflection film having structure layers including an antireflection layer on a supporting body comprising cellulose acylate, the supporting body has 10 to 70 μm thickness and the layer in contact with the supporting body in the structural layers is formed from a coating liquid containing a solvent which does not dissolve the supporting body.例文帳に追加
セルロースアシレートからなる支持体上に、反射防止層を含む構成層を有する反射防止フィルムにおいて、支持体の厚みが10〜70μmであり、構成層のうち支持体に接する層が該支持体を溶解しない溶剤を含む塗布液から形成されることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁
To provide a near infrared ray (IR) absorption and antireflection combined functional film excellent in optical transmittance by the simplified layer structure and exhibiting excellent near IR absorbing function and antireflection function without impairing each function even if a plurality of functions are imparted to one layer.例文帳に追加
簡素化された層構成とすることにより光透過性に優れ、さらに、一つの層に複数の機能を併せ持たせても、それぞれの機能を損なうことなく、優れた近赤外線吸収機能および反射防止機能を発揮する近赤外線吸収および反射防止複合機能フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide an optical element with an antireflection surface having periodical fine ruggedness which is resistant to flawing, is high in productivity, is mild in molding conditions, and can make a layer having the ruggedness thicker, an optical system having the optical element with the antireflection surface and optical equipment equipped with the optical system having the optical element with the antireflection surface.例文帳に追加
傷がつきにくく、生産性が高く、形成条件が温和であり、凹凸を有する層の肉厚を厚くすることが可能な周期微細凹凸を有する反射防止面付光学素子、反射防止面付光学素子を持つ光学系、および反射防止面付光学素子を持つ光学系を備えた光学機器を提供することにある。 - 特許庁
It has a first antireflection film 11 on a semiconductor substrate 2 at the sensor part 3, a second antireflection film formed thereon via an inter-layer film 6 or directly, so that the first and second antireflection films pass specified wavelength lights, thus constituting a solid state imaging element.例文帳に追加
また、センサ部3の半導体基板2上に第1の反射防止膜11を有し、その上に層間膜6を介して又は介さないで第2の反射防止膜12または13が形成され、第1の反射防止膜11及び第2の反射防止膜12または13により特定波長光λ1を通すようにして成る固体撮像素子21,31,41を構成する。 - 特許庁
An antireflection film in which an upper layer film comprises an organic film acting as an interference film to light for exposure and a lower layer film is a light shielding film having a higher rate of absorption of light for exposure than the upper layer film is formed between a substrate to be worked and a resist film.例文帳に追加
被加工基板とレジスト膜との間に、上層膜は有機膜からなり、露光光に対する干渉膜であり、下層膜は上層膜に比べ露光光吸収率が高い遮光膜である反射防止膜を形成する。 - 特許庁
According to the steps, the light shielding layer 4 is formed in the recessed part provided on the substrate 1, and the surface of the transparent substrate 1 is flush with the surface of the light shielding layer 4, thereby obtaining the photo mask having the antireflection film 5 only on the surface of the light shielding layer 4.例文帳に追加
以上の工程により、基板1上に設けられた凹部に遮光層4が形成され、透明基板1と遮光層4の表面は面一であり、遮光層4の表面にのみ反射防止膜5を有するフォトマスクが得られる。 - 特許庁
The laminated polyester film for transferring the antireflection layer has a coating layer containing a release agent on at least one surface of a polyester film, wherein the center line average roughness (Ra) of either surface having the coating layer is ≤50 nm.例文帳に追加
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型剤を含有する塗布層を有し、当該塗布層を有するいずれかの表面の中心線平均粗さ(Ra)が50nm以下であることを特徴とする反射防止層転写用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁
To provide a composite filter for display which is formed by laminating an electromagnetic shielding sheet and a functional layer via a flattened layer, has an antireflection function and high transparency, is high in surface flatness of the functional layer and is thin in thickness.例文帳に追加
電磁波遮蔽シートと機能層を平坦化層を介して積層したディスプレイ用複合フィルタであって、反射防止機能とともに、高い透明性を有し、機能層の表面平坦性が高く、且つ厚みが薄い複合フィルタを提供する。 - 特許庁
To provide an antireflection material having simple and a low-cost sufficient anti-reflectivity and an excellent scuff resistance by forming a hard coating layer, a high refractive index layer and a low reflective index layer on a transparent base.例文帳に追加
本発明は、透明基材にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を形成することにより、簡便かつ安価にして十分な反射防止性を有した耐擦傷性の優れた反射防止体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a high quality antireflection coating obtained by disposing a light transmissive layer (particularly a medium or high refractive index layer or a high refractive index hard coat layer) excellent in various performances such as transparency, film strength, adhesion to adjacent layers and uniformity in film thickness.例文帳に追加
透明性、膜強度、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能に優れた光透過層(特に中〜高屈折率層や高屈折率ハードコート層)を積層してなる高品質の反射防止膜を提供する。 - 特許庁
Relating to the antireflection film or sheet obtained by laminating a hard coat layer and an antireflection thin film layer consisting essentially of a metal alkoxide and its hydrolyzate on at least one face of a substrate, the elastic modulus of the hard coat layer under its breaking strain or below is set in the range of 0.7-5.5 GPa.例文帳に追加
基材の少なくとも一方の面に、ハードコート被膜層と金属アルコキシドおよびその加水分解物を主成分とする反射防止薄膜層を積層してなる反射防止フィルム若しくはシートに於いて、上記ハードコート層の破壊歪み以下での弾性率が0.7GPaから5.5GPaの範囲で設定されていることを特徴とする反射防止フィルムもしくはシートを提供する。 - 特許庁
The photomask blank is disclosed which has at least a light shielding film containing Cr and one or more layers of antireflection film on a substrate, wherein at least one layer of the antireflection film contains a compound selected from silicon oxide, silicon nitride and silicon oxide nitride.例文帳に追加
フォトマスクブランクであって、少なくとも基板上に、Crを含む遮光膜と、1層または2層以上の反射防止膜を具備し、前記反射防止膜の少なくとも1層の膜は酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素から選択されるいずれかを含むフォトマスクブランク。 - 特許庁
To provide an antireflection film forming composition which exhibits excellent light absorptivity to the light of wavelength used in manufacture of a semiconductor device, has a high antireflection light effect and has larger dry etching speed compared to a photoresist layer.例文帳に追加
半導体装置の製造に用いられる波長の光に良好な光吸収性を示し、高い反射光防止効果を持ち、フォトレジスト層と比較して大きなドライエッチング速度を有する反射防止膜のための反射防止膜形成組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a transfer type antireflection laminated polyester film having a mold release layer reduced in the lowering of peel strength caused by heating at the time of transfer and suitable as a base film used in the transfer antireflection film formed on the display screen of an LCD, a PDP, organic EL, etc.例文帳に追加
離型性および耐熱性がある塗布層を有し、LCD、PDP、有機EL等の表示画面上に設けられる転写用反射防止フィルムに用いられるベースフィルムとして好適な転写性反射防止用積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
To provide an antireflection material which is superior in low reflectivity and economy and makes conductivity, abrasion resistance, and contamination resistance function with good balance by arranging a hard coat layer, and a low refractive index layer on a transparent substrate.例文帳に追加
透明基体上にハードコート層と低屈折率層を設けることで、低反射性、経済性に優れ、かつ導電性、耐磨耗性、防汚性をバランスよく機能させることのできる反射防止材料を提供する。 - 特許庁
To provide an optical laminate showing good stability of a conductive material, including a hard coat layer excellent in adhesiveness to a substrate, and an antireflection layer, suppressing generation of interference fringes, and having excellent antistatic property and transparency.例文帳に追加
導電性材料の安定性が良好であり、と基材密着性に優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性に優れる光学積層体を提供する。 - 特許庁
The antireflection film C1 comprises first layer 1 to fifth layer 5 successively laminated on the surface 100S of an optical substrate 100 having a refractive index of 1.75 to 2.10 to d-line.例文帳に追加
この反射防止膜C1は、d線に対して1.75以上2.10以下の屈折率を示す光学基板100の表面100S上に、第1層1から第5層5までの各層を順に積層したものである。 - 特許庁
The substrate for film-formation with an antireflection film to be set, upon forming a film, between a light source (a laser) for irradiating the substrate for film-formation with light and a reflection layer and a light absorbing layer provided on the substrate for film-formation is manufactured.例文帳に追加
成膜用基板に光を照射する光源(レーザ)と、成膜用基板に設けられた反射層や光吸収層等との間に配置された反射防止膜を設けた成膜用基板を作製する。 - 特許庁
The antireflection film is a polyester film having an easy adhesive layer provided at least on its one side and characterized in that a compound having a condensed polycyclic aromatic group is added to the easy adhesive layer.例文帳に追加
少なくとも片面に易接着層を有するポリエステルフィルムであり、当該易接着層に縮合多環式芳香族を有する化合物を含有することを特徴とする反射防止フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁
Each of the antireflection films 20 and 30 includes a high refractive index layer having a relatively high refractive index and a low refractive index layer having a relatively low refractive index.例文帳に追加
斜入射用反射防止膜20と0°入射用反射防止膜30の各々は、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層とを含む。 - 特許庁
To provide an antireflection coating using an immersion lithography technology, capable of sufficiently reducing reflectivity at the interface between a resist layer and a silicon semiconductor substrate even if exposure light diagonally enters one layer.例文帳に追加
液浸リソグラフィ技術において、露光光一層斜めに入射する場合であっても、レジスト層とシリコン半導体基板との界面における反射率を充分に低減することができる反射防止膜を提供する。 - 特許庁
To provide an antireflection material which is excellent in low reflectivity and economicity, and well-balancedly satisfies electric conductivity, scuffing resistance, wear resistance and fouling resistance by disposing only a hard coat layer and a low refractive index layer on a light-transmissive base body.例文帳に追加
透光性基体上に、ハードコート層、低屈折率層を設けるのみで、低反射性、経済性に優れ、かつ、導電性、耐擦傷性、耐磨耗性、防汚性をバランスよく充足する反射防止材料を提供する。 - 特許庁
The antidazzle antireflection film is constituted in such a way that an antidazzle layer is provided on a film substrate, the ratio of scattering reflectance occupied in the integrated reflectance in the antidazzle layer is 2-60%, a low refractive index layer is laminated directly or through other layer on the antidazzle layer and a low refractive index layer forming material contains at least one kind of a cationic polymerizable compound.例文帳に追加
フィルム基材上に防眩層を有し、該防眩層の積分反射率に占める散乱反射率の割合が2〜60%であって、且つ該防眩層上に、直接または他の層を介して低屈折率層が積層され、且つ低屈折率層形成材料がカチオン重合性化合物を少なくとも1種含有することを特徴とする防眩性反射防止フィルム。 - 特許庁
The antireflection film is a five- or six-layer film, the 1st layer on the substrate side consists of an intermediate refractive index material, a layer above the 1st layer consists of a low or high refractive index material, an upper layer consists of high and low refractive index materials alternately stacked toward the air side and the top layer on the air side consists of a low refractive index material.例文帳に追加
反射防止膜は、基板側から1層目が中間屈折率材料からなり、その上の層が低屈折率材料又は高屈折率材料からなり、さらにその上の層が空気側に向けて交互に積層された高屈折率材料及び低屈折率材料からなり、空気側の最表層が低屈折率材料からなる5層ないし6層となっている。 - 特許庁
Since the optical film 2 having the antireflection layer 6 is adhered to the PDP, double projection in which the external light is doubly reflected by the PDP 1 and the optical filter plate 3 is eliminated.例文帳に追加
反射防止層を持つ光学フィルムをPDPに密着させるので、PDPと光学フィルタ板とで外光が二重に反射される二重映りが解消する。 - 特許庁
A Ti/TiN film 13 is formed over the whole such as an upper surface of a dielectric antireflection film 5, a lateral side of Al wiring 6, an exposed surface of an insulating layer 1, and the like.例文帳に追加
誘電体反射防止膜5の上面、Al配線6の側面、絶縁層1の露出面等の全体にわたって、Ti/TiN膜13を形成する。 - 特許庁
Because the absolute value of the difference between the transparent base material film 1 and the antistatic antireflection hard coat layer 2-1 is within 0.03, occurrence of interference fringes is prevented.例文帳に追加
該透明基材フィルム1と該帯電防止性ハードコート層2−1の屈折率の差の絶対値が0.03以内であることにより干渉縞の発生を防止する。 - 特許庁
A solid-state image pickup device includes a first antireflection film 501 so that it covers a part where a light receiving face JS and a light shielding film 60 are arranged at a rear face of a semiconductor layer 101.例文帳に追加
半導体層101の裏面において受光面JSおよび遮光膜60が設けられた部分を被覆するように、第1の反射防止膜501を設ける。 - 特許庁
To provide a uniform antireflection film without increasing the refractive index of a low refractive index layer and without causing uneven film thickness, cissings and spot-like defects.例文帳に追加
本発明の目的は、低屈折率層の屈折率を上昇させることなく、膜厚ムラ、ハジキ、スポット状の欠陥がなく、均一な反射防止膜を提供すること。 - 特許庁
An antireflection coating comprising a composite layer of a silicon nitride 44 and a silicon dioxide 42 is formed over the entire photosensitized region of a photodetector, for minimum reflected amount.例文帳に追加
窒化シリコン44および二酸化シリコン42の複合層を有する反射防止コーティングを光検出器の感光領域全体に形成し反射量を最小にする。 - 特許庁
A refractive index of the antireflection film C1 as a whole is lower than that of the optical substrate 100 and higher than that of the adhesion layer 200.例文帳に追加
反射防止膜C1における全体としての屈折率は、光学基板100の屈折率よりも低く、かつ、接着層200の屈折率よりも高くなっている。 - 特許庁
An internal antireflection layer 14 formed on the surface of a groove 13 in a prism block P1 is made of a coating film of a black coating material based on an elastic adhesive.例文帳に追加
プリズムブロックP1の溝部13の表面に形成される内面反射防止層14を、弾性接着剤を母材とする黒色塗料の塗膜で構成する。 - 特許庁
A connecting conductor 30' is embedded in the through hole penetrating the antireflection film 26' and the interlayer insulating film 24' to connect the metal layer 29 and a display electrode 32.例文帳に追加
反射防止膜26’及び層間絶縁膜24’を貫通するスルーホールに接続導体30’を埋め込んで金属層29と表示電極32とを接続する。 - 特許庁
The agent is for the low-refractive index layer formable antireflection film formed by hydrolysis decomposition of a solution prepared by dissolving a specific fluorine-containing silane coupling agent in an organic solvent.例文帳に追加
また、有機溶剤に対して特定のフッ素含有シランカップリング剤を溶解した溶液を加水分解処理した低屈折率層形成性の反射防止膜用剤である。 - 特許庁
The antireflection film has at least a base material layer formed of a sulfur-containing resin in which poly(phenylene sulfide) or poly(ketone sulfide) or the like is a representative instance.例文帳に追加
ポリフェニレンスルフィドやポリケトンスルフィドなどを代表例とするイオウ含有樹脂によって形成された基材層を少なくとも有する反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide optical components improved in adhesion properties and durability by forming an adhesion improving layer between a resin substrate and an inorganic film, such as an antireflection film.例文帳に追加
樹脂基板と反射防止膜などの無機膜との間に密着改善層を形成し、密着性及び耐久性を向上させた光学部品を提供する。 - 特許庁
To provide an optical functional sheet having an antireflection layer applicable on a large base material having an optical functional shape on its surface.例文帳に追加
本発明は、表側に光学機能形状を有する大型の基材に適用可能な反射防止層を有する光学機能シートを提供することを主目的とする。 - 特許庁
The ageing step includes a step of keeping the mixture for forming an antireflection layer after the adjusting step, at a temperature of 20°C to 40°C for 24 to 168 hours.例文帳に追加
熟成させる工程は、調製する工程後の反射防止層形成用混合物を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間保持する工程を含む。 - 特許庁
The resin for forming an upper layer antireflection film comprises at least one of repeating units represented by formulas (1) and (2) and is soluble in an alkali development solution.例文帳に追加
本上層反射防止膜形成用樹脂は、下式(1)及び下式(2)の繰り返し単位のうちの少なくとも一方を含み、且つアルカリ現像液に可溶である。 - 特許庁
To provide a method for forming photoresist patterns having good profile using an upper layer antireflection film in forming ultramicroscopic patterns particularly having ≤0.25 μm interpattern distance.例文帳に追加
特にパターン間距離が0.25μm以下の極微細なパターン形成において、上層反射防止膜を用いて、良好なプロフィルのホトレジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁
The antireflection film comprises the low-refractive index layer 4 formed by bonding the hollow particulates which are internally voids 1 to each other by the first binder 3.例文帳に追加
内部が空洞1である中空微粒子2を第1バインダー3で相互に結合させることによって形成される低屈折率層4からなる反射防止膜に関する。 - 特許庁
The optical element 1 such as a plastic lens is made of a synthetic resin and is constituted by forming an antireflection layer 12 on the surface of a basic resin part 11 formed by resin molding.例文帳に追加
光学素子1は、樹脂成形により形成された基本樹脂部11の表面に反射防止層12が形成された合成樹脂製の例えばプラスチックレンズである。 - 特許庁
The antireflection layer 15 provided on the transparent base 16 is set so that the minimum value of a reflection coefficient is given in a range of 20 degrees or more of an incident angle of the external light.例文帳に追加
透明基材16上に設けられた反射防止層15は、反射率の最小値が20度以上の外光入射角度の範囲となるように設定する。 - 特許庁
The method for manufacturing the antireflection transfer film comprises the steps of: forming a low refractive index layer and a high refractive index layer successively on a base material film directly or via a releasing layer to form a layered sheet; and of heating/stretching the layered sheet to control the thickness of the low refractive index layer at the least and that of the high refractive index layer.例文帳に追加
基材フィルム上に、直接又は離型層を介して、低屈折率層及び高屈折率層を順次積層して積層シートを形成し、これを加熱延伸する工程を備えた反射防止転写膜の製造方法であって、加熱延伸するによって、少なくとも低屈折率層及び高屈折率層の各層の厚みを制御することとした。 - 特許庁
The antidazzle sheet 12 is produced by forming the antidazzle layer 16 on a transparent layer sheet consisting of at least one layer as the structural member of the transparent base sheet 15, forming the antireflection layer 17 on a transparent sheet consisting of at least one layer as the structural member of the transparent base sheet 15, and then laminating the both sheets.例文帳に追加
該防眩シート12は、透明基材シート15の構成部材である少なくとも一層の透明シートに防眩層16を形成しておき、他方において、透明基材シート15の構成部材である少なくとも一層の透明シートに反射防止層17を形成しておき、両者を積層することにより製造することができる。 - 特許庁
In the antireflection film formed by applying a clear hard coat layer, a middle refractive index layer, the high refractive index layer and a low refractive index layer on a transparent supporting body, it is characterized that the high refractive index layer has a composition which uses titanium oxide particulates and a binder as main components, refractive index of 1.70 to 1.85 and film thickness of 40 to 70 nm.例文帳に追加
透明支持体上にクリアハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を塗設した反射防止フィルムにおいて、該高屈折率層が酸化チタン微粒子とバインダーを主成分とする組成であり、屈折率が1.70〜1.85で、膜厚が40〜70nmであることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁
The antireflection layer 4 includes a layer 41 of an intermediate refractive index that serves as a base layer formed by a first composition, containing polyester resin or polyurethane resin and metal oxide particles, a layer 42 of a high refractive index, and a layer 43 of a low refractive index, formed of a second composition including organic oxide particles and porous silica particles.例文帳に追加
反射防止層4は、ポリエステル樹脂またはポリウレタン樹脂と、金属酸化物微粒子とを含む第1の組成物により形成されたベース層となる中屈折率の層41と、高屈折率の層42と、有機ケイ素化合物と、多孔質シリカ微粒子とを含む第2の組成物により形成された低屈折率の層43とを含む。 - 特許庁
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