「antireflection layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The antireflection layer 12 is prepared by laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer alternately and is composed of five layers comprising a first film 121, a second film 122, a third film 123, a fourth film 124 and a fifth film 125 in the order from the hard coat layer 11 side.例文帳に追加

反射防止層１２は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層され、ハードコート層１１側から順に第１膜１２１、第２膜１２２、第３膜１２３、第４膜１２４、第５膜１２５からなる５層で構成されている。 - 特許庁

The antireflection films are so formed that the refractive indices of the TiO_2 layers of the first layer and third layer counted from substrate side range from 1.90 to 2.15 and the refractive indices SiO_2 layers of the second layer and the fourth layer range from 1.43 to 1.48.例文帳に追加

反射防止膜は、樹脂層に対し、基板側から数えて第一層目及び第三層目のＴｉＯ_２層の屈折率が１．９０〜２．１５の範囲、第二層目及び第四層目のＳｉＯ_２層の屈折率が１．４３〜１．４８の範囲となっている。 - 特許庁

To provide a method for forming an antiglare antireflection layer which has excellent film property (film uniformity and adhesive strength) and also has superior dazzle prevention effect, sharpness, visibility, and tightness of black in display of a moving picture, the antiglare antireflection film and its manufacturing method, a display device using the antiglare antireflection film, and an antiglare antireflection processing apparatus.例文帳に追加

本発明の目的は、膜物性（膜均一性、接着性）が良好で、ぎらつき防止効果、鮮鋭性、視認性及び動画を表示したときの黒のしまりに優れた防眩性反射防止層の形成方法、防眩性反射防止フィルムとその製造方法、防眩性反射防止フィルムを用いた表示装置及び防眩性反射防止加工装置を提供することにある。 - 特許庁

In the antireflection laminated body, in which at least a low refractive index layer is laminated at least on one surface of a transparent substrate, the low refractive index layer has a two layer structure composed of a low refractive index lower layer and a low refractive index upper layer.例文帳に追加

本発明は、透明基材の少なくとも片面に、少なくとも低屈折率層を積層した反射防止積層体において、該低屈折率層が低屈折率下層と低屈折率上層との２層構造からなることを特徴とする反射防止積層体である。 - 特許庁

The antireflection film is constituted by layering a hard coat layer 2, a high refractive index layer 3 and the low refractive index layer 4 in this order on transparent base material film 1 or by layering a conductive high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer in this order on the transparent base material film.例文帳に追加

透明基材フィルム１上に、ハードコート層２、高屈折率層３及び低屈折率層４をこの順で積層してなる反射防止フィルム、或いは、透明基材フィルム上に、導電性高屈折率ハードコート層及び低屈折率層をこの順で積層してなる反射防止フィルム。 - 特許庁

The antireflection layer 138 has a refractive index n between the refractive index of the first layer and the refractive index of the second layer; and has a thickness of λ/4n when λ represents a wavelength of the light-emitting element, whereby a reflection loss at the interface between the barrier layer 137 and the organic intermediate layer 139 can be reduced.例文帳に追加

反射防止層１３８は、第１層の屈折率と、第２層の屈折率と、の間の屈折率ｎを備え、発光素子波長をλとした場合λ／４ｎの厚さを備えることで、バリア層１３７と有機中間層１３９界面での反射損失低減を可能とした。 - 特許庁

The antireflection film is formed by forming the high refractive index layer by curing a composition for forming below described high refractive index layer, and forming the low refractive index layer by applying the composition for forming the low refractive index layer onto the high refractive index layer, heating and drying, and then again ultraviolet irradiating.例文帳に追加

高屈折率層が、下記高屈折率層形成用組成物を硬化して形成されたものであり、低屈折率層が、高屈折率層上に低屈折率層形成用組成物を塗布し、加熱乾燥後、再度紫外線照射して形成される反射防止フィルム。 - 特許庁

To provide an antireflection film which has a hard coating layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in this order on the surface of a transparent base material film wherein the adhesion property of the high refractive index layer and the low refractive index layer is good and which sufficiently satisfies abrasion resistance.例文帳に追加

透明基材フィルムの表面にハードコート層、高屈折率層および低屈折率層をこの順で有し、高屈折率層と低屈折率層との密着性が良く、耐擦傷性を十分に満足する反射防止フィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The antireflection resin sheet has a base material layer, a gas barrier layer and a hard coat having an uneven structure on an outside surface laminated in this order, and forms a low refractive index layer comprising a material having lower refractive index than that of a hard coat layer forming resin on the hard coat layer.例文帳に追加

基材層、ガスバリア層、外側表面に凹凸構造を有するハードコート層がこの順で積層され、かつ、前記ハードコート層上に当該ハードコート層形成樹脂よりも屈折率の低い材料よりなる低屈折率層が形成されている反射防止樹脂シート。 - 特許庁

An antireflection layer is formed on one surface of a transparent support, an electromagnetic wave shielding layer is formed on the other surface and, thereon, a near-infrared ray shielding adhesive layer is formed, preferably, leaving a ground electrode lead as it is.例文帳に追加

透明基体の一面上に反射防止層を形成し、他の面上に電磁波遮蔽層を形成し、その上に、好ましくはアース電極取出部を残して、近赤外線遮蔽接着層を形成する。 - 特許庁

An optically anisotropic layer comprising a liquid crystal compound, a transparent protective film, a polarizing film, an antidazzle layer, and an antireflection layer including fine particles and having fine surface irregularities caused by the fine particles are provided in this order.例文帳に追加

液晶性化合物からなる光学異方性層、透明保護膜、偏光膜、透明保護膜、防眩層、そして微粒子を含み微粒子による微細表面凹凸を有する反射防止層をこの順序で設ける。 - 特許庁

To provide an antireflection film with antistatic layer using conductive metal oxides in antistatic layer, preventing development of interference fringes, and to provide a coating composition for forming the antistatic layer.例文帳に追加

帯電防止層に導電性金属酸化物を用い、干渉縞の発生を防止した帯電防止層を有する反射防止フィルムを提供し、該帯電防止層を形成するためのコーティング組成物を提供する。 - 特許庁

In the antireflection film, the surface of a transparent base material film is provided with at least one antistatic layer, and the surface is provided with a layer comprising electrically conductive hollow fine particles directly or via the other layer.例文帳に追加

透明基材フィルム上に少なくとも一層の帯電防止層を有し、その上に直接または他の層を介して導電性中空微粒子を含有する層を設けたことを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The infrared antireflection film 3 is formed on at least one surface of the substrate 2 and formed of layered product by laminating an inner layer 4, an intermediate layer 5 and an outer layer 6 in this order from the substrate side.例文帳に追加

前記赤外反射防止膜３は、前記基板２の少なくとも一面に形成されているとともに、当該基板側から、内層４、中間層５及び外層６がこの順に積層された積層体からなっている。 - 特許庁

The electromagnetic wave shielding material comprises a transparent base layer that has the electromagnetic wave shielding mesh layer and a pressure-sensitive adhesive layer provided on one surface thereof and an infrared cutting layer and an antireflection layer formed on the other surface, and the connector connected to the electromagnetic wave shielding mesh layer through the anisotropic conductive agent.例文帳に追加

電磁波シールド材は、その一方の面上に、電磁波シールドメッシュ層と粘着剤層が設けられ、その他方の面上に赤外線カット層と反射防止層が形成された透明基材層と、前記電磁波シールドメッシュ層と異方性導電剤を介して接続されたコネクターにより構成される。 - 特許庁

The transparent conductive antireflection film has a hard coating layer (2), transparent conductive layer (3) having particles comprising at least one kind of metal, and a transparent coating layer (4) formed as the outer layer of the transparent conductive layer on one face of a transparent substrate (1), and has an adhesive layer showing elastic recovery on another face of the substrate.例文帳に追加

透明基材（１）上の片面に、ハードコート層（２）と、少なくとも１種以上の金属からなる粒子を有する透明導電層（３）と、該透明導電層の外層に形成された透明被膜層（４）とを有し、他面に弾性回復性の粘着剤層を有する透明導電・反射防止フイルム。 - 特許庁

The antireflection film is constituted by layering an easy adhesion layer 2, a hard coat layer 3, a high refractive index layer 4 and the low refractive index layer 5 in this order on transparent base material film 1 or by layering a high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer in this order on the transparent base material film.例文帳に追加

透明基材フィルム１上に、易接着層２、ハードコート層３、高屈折率層４及び低屈折率層５をこの順で積層してなる反射防止フィルム、或いは、透明基材フィルム上に、高屈折率ハードコート層及び低屈折率層をこの順で積層してなる反射防止フィルム。 - 特許庁

In the antireflection laminated body, the refractive index of the low refractive index lower layer is lower by 0.03-0.30 than that of the low refractive index upper layer, and the thickness ratio d_(upper layer)/d_(lower layer) of the low refractive index upper layer to the low refractive index lower layer is within a range of 0.2-1.5.例文帳に追加

また、前記低屈折率下層の屈折率が前記低屈折率上層の屈折率よりも０．０３〜０．３０低いことを特徴とし、また前記低屈折率下層と前記低屈折率上層との厚み比が、ｄ_上層／ｄ_下層＝０．２〜１．５の範囲にあることを特徴とする反射防止積層体である。 - 特許庁

The metallic wiring layer 30 has a lower conductive layer 30A, a first layer 34 composed of aluminum or an aluminum alloy, a second layer 36 formed on the first layer 34 and composed of an intermetallic compound (aluminum nitride), and a third layer 38, formed on the second layer 36 and composed of a metallic nitride (titanium nitride) which serves as an antireflection coating.例文帳に追加

金属配線層３０は、下部導電層３０Ａ、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる第１の層３４、第１の層の上に形成された金属間化合物（窒化アルミニウム）からなる第２の層３６、および第２の層の上に形成された、反射防止膜としての金属の窒化物（窒化チタン）からなる第３の層３８を有する。 - 特許庁

The polarizing plate is obtained by stacking: a visual side protective layer at least including (a) layer and (b) layer which contain thermoplastic resin, wherein bending elastic modulus of the (a) layer is larger than the bending elastic modulus of the (b) layer and the (a) layer exists on the antireflection layer side; and the polarizer, with an active energy beam curable adhesive containing no solvent.例文帳に追加

熱可塑性樹脂を含有する、ａ層及びｂ層を少なくとも含んでなり、前記ａ層の曲げ弾性率がｂ層の曲げ弾性率より大きく、かつ前記ａ層が反射防止層側に存在する視認側保護層と、偏光子とを溶剤を含まない活性エネルギー性硬化型接着剤によって積層して偏光板を得る。 - 特許庁

The eyeglass lens with an antireflection film has a plurality of layers disposed on at least one face of an eyeglass lens as the base body, and the antireflection film includes a water-repellent and oil-repellent layer as the outermost layer formed by vacuum vapor deposition on the layers made of silicon oxide.例文帳に追加

基材となる眼鏡レンズの少なくとも一方の面に複数の層が設けられた本発明の反射防止膜付き眼鏡レンズにおいて、前記反射防止膜は、酸化ケイ素からなる層の上に最外層として撥水撥油層が真空蒸着により設けられたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an inspection method of a polarization plate for detecting, before the formation of an antireflection layer, a defect such as the streak unevenness, which is included in the polarization plate and can be conventionally detected after the formation of the antireflection layer, and to provide a manufacturing method of the polarization plate using the method.例文帳に追加

従来、反射防止層を形成した後でなければ検出できなかった、偏光板が有するスジムラ等の欠陥を、反射防止層を形成する前に検出可能な偏光板の検査方法および該方法を利用した偏光板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When at least one layer of an antireflection film is deposited on an optical base material by a vacuum process, the layer in contact with the optical base material is deposited from an inorganic oxide having ≥40% and ≤60% packing rate in the film substance so as to obtain the antireflection optical article.例文帳に追加

真空プロセスにより光学基材上に少なくとも１層の反射防止膜を形成する際に、前記光学基材と接する層の膜質充填率が４０％以上６０％以下の無機酸化物で成膜することにより上記反射防止光学物品を得る。 - 特許庁

To provide a multilayer antireflection film with single layer film properties of MgF2 capable of both side processing using only a sputtering method in the case of processing a lens which needs multilayer antireflection film properties at one side and single layer film properties of MgF2 at the other side.例文帳に追加

一方の片面が多層反射防止膜特性、他の片面がＭｇＦ２の単層膜特性を必要とするレンズを加工する場合、スパッタ法のみを用いて両面加工が可能な、ＭｇＦ２の単層膜特性を有する多層反射防止膜を提供することにある。 - 特許庁

The optical member comprises a plastic base material and a multilayer antireflection film formed by vacuum vapor deposition, wherein at least one layer in the multilayer antireflection film is an antistatic layer comprising one kind or more of inorganic substances selected from metal carbides, metal nitrides and metal carbide-nitrides.例文帳に追加

プラスチック基材と、真空蒸着で形成された多層反射防止膜とを有する光学部材であって、該多層反射防止膜中の少なくとも１層が、炭化金属、窒化金属、及び炭・窒化金属から選ばれる1種以上の無機物質よりなる帯電防止層である光学部材とする。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material having good antireflection properties against outside light while a blackened layer hardly drops off, in an electromagnetic wave shielding material having a patterned conductive layer subjected to blackening treatment.例文帳に追加

黒化処理を施したパターン状の導電層を有する電磁波シールド材において、黒化層が脱落し難く、外光反射防止性が良好な電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁

Since an antireflection layer 60 having a low refraction index is formed on the front side opposite to the side of the antistatic layer 50, the transmission factor of the base material 41 of the shade 40 can be improved.例文帳に追加

また、帯電防止層５０とは反対側の表面側に低屈折率の反射防止層６０を形成したので、セード４０の基材４１の透過率が向上するようになっている。 - 特許庁

The antireflection film has a water vapor shutting metal compound layer with a refractive index of 1.35 to 2.0 and a low refractive index layer with a refractive index of 1.3 to 1.6 on the base material.例文帳に追加

基材上に、屈折率が１．３５〜２．０である水蒸気遮断性金属化合物層、屈折率１．３〜１．６の低屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルムとする。 - 特許庁

In a step 11, transistor elements are formed on a semiconductor wafer, and a laminated wiring metal film composed of a prescribed wiring metal layer and an antireflection film or a barrier layer is formed on all the surface of a wafer.例文帳に追加

ステップ１１で半導体ウェハへのトランジスタ素子形成後、所定の配線金属層及び反射防止膜またはバリア層からなる積層配線金属膜をウェハ全面に形成する。 - 特許庁

An iron-diffusion preventing buffer layer 2 and a beta-iron silicide semiconductor thin film 3 are formed on one surface of a silicon substrate 1, and an antireflection dielectric layer 5 is formed on the other surface.例文帳に追加

ケイ素基板１の一方の面上に鉄拡散防止緩衝層２とベータ鉄シリサイド半導体薄膜３を形成し、他方の面上に無反射誘電体層５を形成する。 - 特許庁

An antireflection film is configured in such a manner that an uneven distribution layer and a low refractive index layer are sequentially laminated in this order on at least one surface of a transparent base material.例文帳に追加

本発明にあっては、製造コストが低く、また、優れた光学特性及び優れた耐擦傷性及び帯電防止機能を備える反射防止フィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

Thus, a light source of a light emitting part 63 is formed with an organic EL light emitting element, and an antireflection layer 79c of stray light is provided on the projection surface side of the second negative electrode layer 79b.例文帳に追加

このように、発光部６３の光源は有機ＥＬ発光素子で形成されており、前記陰極第２層７９ｂの前記投射面側に迷光の反射防止層７９ｃを設ける。 - 特許庁

A low refractive index layer with the refractive index of 1.20 to 1.45 is formed on the near-infrared ray absorption layer of the near-infrared ray absorption hard coat film to obtain the antireflection film.例文帳に追加

この近赤外線吸収ハードコートフィルムの近赤外線吸収層上に屈折率が１．２０〜１．４５の低屈折率層を形成することにより反射防止フィルムが得られる。 - 特許庁

The antireflection material is obtained by irradiating an electron beam cured antireflecting layer coating on the transparent base with an electron beam at an accelerating voltage of 120 kV or lower and curing the layer by the beam.例文帳に追加

透明基材に被覆された電子線硬化型反射防止層を、加速電圧を１２０ｋＶ以下で電子線を照射して、電子線により硬化させてなる反射防止体である。 - 特許庁

Since a shot peening layer 12S improved in hardness exists on the uppermost surface of the antireflective layer 12, the translucent member excellent in scratch resistance can be provided without impairing its antireflection effect.例文帳に追加

反射防止層１２の最表面には硬度が向上したショットピーニング層１２Ｓが存在するので、反射防止効果を損なわずに耐傷性に優れた透光性部材を提供できる。 - 特許庁

Afterwards, an antireflection film 21 is formed over the entire surface about from 500 to 1,000 angstroms, and a groove 15 for second wiring layer is formed by etching the second wiring corresponding inter-layer insulating film 11.例文帳に追加

その後、全面に反射防止膜２１を５００〜１０００オングストローム程度形成し、第２配線対応層間絶縁膜１１をエッチングして、第２配線層用の溝１５を形成する。 - 特許庁

An antireflection film has: a high refractive layer formed by a hardened product of a composition containing polyorganosiloxane (A), metal oxide particles (B) and a polyfunctional (meth)acrylate compound (C); and a low refractive layer.例文帳に追加

ポリオルガノシロキサン（Ａ）、金属酸化物粒子（Ｂ）および多官能（メタ）アクリレート化合物（C）を含む組成物の硬化物からなる高屈折層ならびに低屈折層を有する反射防止膜。 - 特許庁

A composition comprising a compound having a cationically polymerizable functional group in a molecule and silica fine particle is cured onto the surface of the scratch resistant layer and, thereby, the antireflection layer is formed.例文帳に追加

この耐擦傷性層の上に、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物と、シリカ微粒子とを含む組成物を硬化させることにより、反射防止層を形成する。 - 特許庁

When a photoresist relief image is formed on a substrate having a topography, (a) a layer of antireflection composition containing polymer having molecular weight of at most about 8,000 is applied on the substrate, (b) the layer of a photoresist composition is applied on the antireflection composition layer, and (c) the photoresist layer is exposed to activated radiant rays, and the exposed photoresist layer is developed.例文帳に追加

トポグラフィーを有する基体上にフォトレジストレリーフイメージを形成する方法であって、（ａ）約８、０００以下の分子量を有するポリマーを含む反射防止組成物の層を基体上に適用し、（ｂ）該反射防止組成物層の上にフォトレジスト組成物の層を適用し、および（ｃ）活性化放射線によりフォトレジスト層を露光し、露光したフォトレジスト層を現像する、ことを含む、フォトレジストレリーフイメージを形成する方法。 - 特許庁

The solar cell element having the antireflection film 5 on one main surface side of the semiconductor substrate 1 is configured so that an intermediate oxide layer 3 and a density transition region 4 containing the main component of the intermediate oxide layer 3 and the main component of the antireflection film 5 are successively provided from the semiconductor substrate 1 between the semiconductor substrate 1 and the antireflection film 5.例文帳に追加

半導体基板１の一主面側に反射防止膜５を有して構成される太陽電池素子であって、半導体基板１及び反射防止膜５の間に、中間酸化物層３と、該中間酸化物層３の主成分と反射防止膜５の主成分とを含有してなる密度遷移領域４とを、半導体基板１から順次有するように構成する。 - 特許庁

To provide an optically transmissive window material with electromagnetic wave shield property and a gas discharge type light emitting panel, having an excellent antireflection function of an outermost antireflection layer (reduction in reflection of external light, reduction in reflection color), and high visibility with excellent stainproof property.例文帳に追加

最表層の反射防止層の反射防止機能に優れ（外光反射の低減、反射色低減）、更には防汚性にも優れた高視認性の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルを提供する。 - 特許庁

To provide a flat display panel and a show window material having an excellent antireflection function of an antireflection layer provided on the surface (reduction in reflection of external light, reduction in reflection color, reduction in color change), further, an excellent stainproof property and high visibility.例文帳に追加

表面に設けられた反射防止層の反射防止機能に優れ（外光反射の低減、反射色低減、色変化低減）、更には防汚性にも優れた高視認性のフラットディスプレイパネル及びショーウィンドウ窓材を提供する。 - 特許庁

The electrically conductive antireflection film has an antireflection layer on one face of a transparent substrate and a mesh comprising a metallic thin film on the other face by way of an adhesive.例文帳に追加

透明支持体の一方の面に反射防止層を有し、反対側の面に粘着材を介して金属薄膜からなるメッシュを有する導電性反射防止フィルム、該フィルムを用いたＰＤＰおよびＰＤＰ用前面板が提供される。 - 特許庁

To provide a composition forming an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a resist layer, giving an excellent resist pattern, and having a fast dry etching speed compared to the resist.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたレジストパターンが得られ、レジストに比較して大きなドライエッチング速度を有するリソグラフィー用反射防止膜を形成する組成物を提供するものである。 - 特許庁

To provide an antireflection film composition for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist layer, giving an excellent photoresist pattern, having a high dry etching rate compared to a photoresist and having excellent thermal stability.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたフォトレジストパターンが得られ、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、熱安定性に優れたリソグラフィー用反射防止膜組成物を提供すること。 - 特許庁