「antireflection layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

The laminated polyester film for the antireflection film has a coating layer containing an antistatic additives and having ≥5.0% mirror glass reflection rate to an optional wavelength in a range of 400-800 nm wave length, formed at least on one surface of the polyester film at least uniaxially stretched.例文帳に追加

少なくとも一軸方向に延伸されたポリエステルフィルムの少なくとも片面に、帯電防止剤を含有し、波長４００〜８００ｎｍの任意の波長に対する鏡面反射率が５．０％以上である塗布層を有することを特徴とする反射防止フィルム用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The optical component 100 provided with the antireflection film 50 which has an effective wavelength region in a wavelength band of red and near infrared laser beams and includes an effective wavelength region having a width of ≥100 nm in a wavelength band of blue laser beams can be obtained by optimizing the optical film thickness of each layer.例文帳に追加

各層の光学膜厚を最適化した反射防止膜５０を備えた光学部品１００は、赤色、近赤外レーザ光の波長帯域に有効波長領域を有しかつ、青色レーザ光の波長帯域に１００ｎｍ以上の幅の有効波長領域を備えることが可能となる。 - 特許庁

The optical base material 11 is formed of a heat-resistant resin, and the intermediate layer 12 has 1 μm or more of thickness, a Young's modulus of 14 times or more of Young's modulus of the optical base material 11, and a thermal expansion coefficient of a level same to that of the antireflection film 13.例文帳に追加

光学基材１１は耐熱性樹脂で形成され、中間層１２の厚さは１μｍ以上、中間層１２のヤング率は光学基材１１のヤング率の１４倍以上、中間層１２の熱膨張係数は反射防止膜１３の熱膨張係数と同程度としてある。 - 特許庁

To provide a hard coat film including a high hard coat layer having a higher refractive index than a base material film and having no uneven interference, an optical film having high antireflection performance and suitable of mass production, an optical film having excellent uneven interference preventive property, and a sheet polarizer and an image display device including the optical film.例文帳に追加

基材フィルムよりも屈折率が高いハードコート層を有し干渉斑のないハードコートフィルム、反射防止性が高く大量生産性に適した光学フィルム、干渉ムラ防止性に優れた光学フィルム、及び前記光学フィルムを具備した偏光板および画像表示装置の提供。 - 特許庁

Thus, even if antireflection films are formed using a layer with a low refractive index composed of SiO_2 having high residual stress at the time of film forming, the occurrence of cracks is not arisen in an acceleration test which is kept in a state of high temperature and high moisture for a long time, and therefore it is effective for preventing the occurrence of cracks.例文帳に追加

これにより、成膜する際に残留応力が大きいとされているＳｉＯ_2からなる低屈折率層を用いて反射防止膜を形成しても、高温・多湿の状態に長時間おいた加速度試験においてクラックの発生はみられず、クラックの発生の防止に有効である。 - 特許庁

The laminated polyester film for an antireflection film has a coating layer containing at least one cationic polymer and at least one binder polymer on at least one surface of an at least uniaxially stretched polyester film, wherein the haze of the film is ≤2.0%.例文帳に追加

少なくとも一軸方向に延伸されたポリエステルフィルムの少なくとも片面に、少なくとも１種のカチオンポリマーおよび少なくとも１種のバインダーポリマーを含有する塗布層を有し、フィルムのヘイズが２．０％以下であることを特徴とする反射防止フィルム用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide an antireflection film which is in contact with a conveyance roller at a state that the maximum surface becomes a high refractive index layer, with which a bright spot foreign matter is reduced even if winding is performed once, at a low cost and with low refractive index, a polarizing plate using the film and an image display device using the plate.例文帳に追加

最表面が高屈折率層となっている状態で搬送ローラーに接触し、一旦巻き取りを行っても輝点異物が低減し、かつ、低コスト、低反射率の反射防止フィルム、これを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

A pellicle having an antireflection layer having mean surface roughness of 1 to 8 nm and formed by using magnesium fluoride is used to provide a pellicle having ≥95% transmissivity over the whole range of an angle of incidence of 0 to 20° of light of 193 nm.例文帳に追加

表面平均粗さが１ｎｍ以上８ｎｍ以下のフッ化マグネシウムを用いて形成される反射防止層を有するペリクルを用いることで、１９３ｎｍの光の入射角が０〜２０°の全ての範囲で透過率が９５％以上のペリクルを提供することが出来る。 - 特許庁

To provide a coating type and light absorbing type antireflection film in which a low refractive index layer having a low refractive index can be formed on transparent resin film in a short period of time without deteriorating the transparent resin film, and which can be consecutively produced and is excellent in abrasion resistance and chemical resistance.例文帳に追加

透明樹脂フィルムを劣化させることなく、短時間で透明樹脂フィルムに屈折率の低い低屈折率層を成膜することができ、連続生産が可能で、耐擦傷性、耐薬品性等にも優れた塗工型の光吸収型反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a hard coat film which has a good adhesiveness with a transparent substrate film, has an excellent adhesiveness after a light resistance test, and has a hard coat layer having both high hard properties and an excellent antistatic performance, and to provide an antireflection film using this, a polarizing plate and a displaying device.例文帳に追加

透明基材フィルムとの密着性が良好で、耐光性試験後も優れた密着性を有し、かつ高いハード性と優れた帯電防止性能を有するハードコート層を備えたハードコートフィルム、これを用いた反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置を提供する。 - 特許庁

A 2-layer structure antireflection coating is formed between a resist layer and a silicon oxide film formed on the surface of a silicon semiconductor substrate, and is used for exposing the resist layer by an exposure system whose numerical aperture is 0.93-1.2, with a wavelength of 190-195 nm.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３乃至１．２である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン酸化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.0-1.1, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．０を越え１．１以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.2-1.3, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．２を越え１．３以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.3-1.4, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．３を越え１．４以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.1-1.2, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．１を越え１．２以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The multilayered antireflection film has an optical interference layer laminated on a transparent substrate and includes at least one layer formed by applying and drying a solution prepared by dissolving benzoyl substituted poly(p-phenylene) and/or benzoyl substituted poly(p/m-phenylene) in a solvent containing at least one solvent selected from the group comprising N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and halogenated hydrocarbons as a high refractive index layer.例文帳に追加

透明基材上に光学干渉層が積層されてなる多層反射防止膜において、ベンゾイル置換ポリ（ｐ−フェニレン）、及び／又はベンゾイル置換ポリ（ｐ／ｍ−フェニレン）を、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド及びハロゲン化炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種の溶剤を含有する溶剤に溶解させて得られる溶液を塗布、乾燥してなる層を、高屈折率層として少なくとも一層を含有することを特徴とする多層反射防止膜。 - 特許庁

In the filmy filter for preventing glass breakage, a glass breakage preventing layer 11 is constituted of an acrylic adhesive material which is consisting essentially of an acrylic polymer of a monomer consisting essentially of (meth)acrylic acid alkyl ester and is impregnated with polyoxyalkylene glycol and then an antireflection film 12 is laminated on one surface side 11a of the glass breakage preventing layer 11.例文帳に追加

アクリル系重合体として（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主成分とする単量体の重合体を主材成分とし、これにポリオキシアルキレングリコールを含ませたアクリル系粘着性材料によりガラス割れ防止層１１を構成し、このガラス割れ防止層１１の一面側１１ａに反射防止フィルム１２を積層したことを特徴とするガラス割れ防止用フィルム状フィルタ。 - 特許庁

The antireflection film formed by laminating a first optical interference layer and a second optical interference layer in this order on one surface of a polyethylene terephthalate film has visible reflectance of 1.0% or less.例文帳に追加

ポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に、第１光学干渉層及び第２光学干渉層がこの順で積層された視感度反射率１．０％以下の反射防止フィルムであって、光の波長６００ｎｍにおける反射率をＲ、光の波長５５５ｎｍにおける反射率をＧ、光の波長４４５ｎｍにおける反射率をＢとした場合、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を同時に満たす。 - 特許庁

The antireflection film includes a transparent plastic film, a high refractive index layer having multifunctional monomer and metal oxide particulates formed on the transparent plastic film, and a low refractive index layer having an organic silicon compound, its hydrolysate, electrical conductive metal oxide particulates, and porous silica particulates.例文帳に追加

透明プラスチックフィルムと、透明プラスチックフィルム上に形成された多官能性モノマーと金属酸化物微粒子とを有する高屈折率層と、高屈折率層上に形成された有機ケイ素化合物及びその加水分解物と導電性金属酸化物微粒子および多孔質シリカ微粒子とを有する低屈折率層と、を備えたことを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

To provide a method of metallizing at least one photovoltaic cell 100, including a semiconductor based substrate (102), having a first conductive type, a layer (104) fabricated in the substrate by doping impurities having a second conductive type to form a front face of the substrate, and an antireflection layer (106) manufactured on the front face of the substrate and forming the front face (108) of the photovoltaic cell.例文帳に追加

第一種の導電性を有する半導体をベースとする基板（１０２）、第二種の導電性で不純物をドープされて基板中に製造され、基板の正面を形成している層（１０４）、基板の正面上に製造されて、光電池の正面（１０８）を形成する反射防止層（１０６）、を備える少なくとも一つの光電池（１００）を金属化する方法を提供する。 - 特許庁

The transparent antireflection layered body 1 has constitution in which a transparent resin layer 3 whose minimum reflectivity in a wavelength of 500nm to 650nm is 0.4% to 1% is layered on one side of a transparent base 2 and a transparent resin layer 4 whose minimum reflectivity in a wavelength of 500nm to 650nm is 0.3% or less is layered on the other side of the base 2.例文帳に追加

透明基材２の一側に、波長５００ｎｍ〜６５０ｎｍにおける最小反射率が０．４％〜１％である透明樹脂層３を積層し、前記透明基材２の他側に、波長５００ｎｍ〜６５０ｎｍにおける最小反射率が０．３％以下である透明樹脂層４を積層してなる構成を備えた透明反射防止積層体１とする。 - 特許庁

The antireflection film is formed by successively laminating at least 3 layers of a hard coat layer (A), a high refractive index layer (B) having a refractive index of ≤1.64 and a C layer having a refractive index lower than that of the B layer and of ≤1.37 in this order on at least one side of a base material film.例文帳に追加

本発明の反射防止フィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に、ハードコート層（Ａ）、屈折率が１．６４以下である高屈折率層（Ｂ）および、屈折率がＢ層より低く、かつ１．３７以下であるＣ層の少なくとも３層が、この順に順次積層されている反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムの該Ｃ層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．５μm〜１．５μmであり、該反射防止フィルム全体のヘイズが１．６〜３０．０％であり、かつ波長４００〜７００ｎｍにおける表面反射スペクトルが次の３条件を全て満たす。 - 特許庁

The antireflection film having at least an antireflection layer on a transparent support has a low refractive index layer that contains at least hollow silica particles and silicone in the outermost surface and has a refractive index of 1.20-1.49, and the amount of the hollow silica particles is 30-80 mass % of a solid content.例文帳に追加

透明支持体上に少なくとも反射防止層を有する反射防止フィルムであって、最表面に少なくとも中空シリカ粒子およびシリコーンを含有する屈折率が１．２０〜１．４９である低屈折率層を有し、中空シリカ粒子が固形分中３０〜８０質量％含有され、最表面から５ｎｍまでの深さ範囲における、Ｘ線光電子分光分析装置により測定され、下記式（Ａ）により表されるＳｉ−Ｃ結合ピーク強度比率の平均値Ｒｏｓが０．４０以上であり、かつ最表面から深さ１０〜２５ｎｍにおけるＳｉ−Ｃ結合ピーク強度比率の平均値Ｒｏｔが０．０００５〜０．１０であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 0.93-1.0, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３を越え１．０以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The electrically conductive antireflection film is obtained by forming an optically functional layer obtained by alternately stacking electrically conductive layers and low refractive index layers comprising an organic resin in two layers on a transparent plastic film substrate and a resin or compound having antifouling property is contained in the low refractive index layers.例文帳に追加

透明プラスチックフィルム基材上に、導電層と有機樹脂からなる低屈折率層を交互に２層積層した光学機能層を形成した反射防止フィルムであって、低屈折率層中に防汚性を有する樹脂もしくは化合物が添加されていることを特徴とする反射防止フィルムである。 - 特許庁

Regarding the transmission type screen used for a rear projection type projection TV, the transmission type screen is provided with a glass substrate, the transmission type screen is provided with an optical antireflection layer on the front side of the glass substrate and a light diffusing material formed of resin film containing diffusing agent in the resin on the rear side of the glass substrate.例文帳に追加

背面投射型プロジェクションテレビに用いる透過型スクリーンにおいて、該透過型スクリーンはガラス基板を有し、該ガラス基板の前面に光反射防止層を有し、該ガラス基板の背面に拡散剤を樹脂中に含む樹脂フィルムからなる光拡散材を有することを特徴とする透過型スクリーン。 - 特許庁

By adopting the layer consisting of the simple compound of silicon nitride as one of the multilayer film of the antireflection film, the plastic lens which takes advantage of characteristics of amorphous silicon having high durability, can suppress the effect of ultraviolet ray and moisture to the lens base material and the other layers and has high heat resistance and light resistance can be provided.例文帳に追加

反射防止膜の多層膜の１つとして、窒化シリコンの単純化合物からなる層を採用することにより、耐久性が高く、非晶質の窒化シリコンの特性を活かして、レンズ基材やその他の層に対する紫外線および水分の影響を抑制でき、耐熱性および耐光性の高いプラスチックレンズを提供できる。 - 特許庁

The antireflection film is obtained by forming an optically functional layer obtained by alternately stacking high refractive index layers and low refractive index layers comprising an organic resin in two or more layers on a transparent plastic film substrate and a resin or compound having antifouling property is contained in the low refractive index layers.例文帳に追加

透明プラスチックフィルム基材上に、高屈折率層と有機樹脂からなる低屈折率層を交互に２層以上積層した光学機能層を形成した反射防止フィルムであって、低屈折率層中に防汚性を有する樹脂もしくは化合物が添加されていることを特徴とする反射防止フィルムである。 - 特許庁

In the antireflection film of two layers or three layers which uses an oxide film and a fluoride thin film with low absorption in a wavelength region between 150 and 300nm as a film material, a thin film of ≤0.85 packing density is used as a low refractive index layer, in order to be able to cope with a F_2 stepper, an ArF stepper and a KrF stepper.例文帳に追加

本発明は特にＦ_２、ＡｒＦ、ＫｒＦステッパーに対応可能とするために、１５０ｎｍ〜３００ｎｍの波長域で吸収の小さい酸化膜、フッ化物薄膜を膜材料として用いた２層又は３層反射防止膜において、低屈折率層にパッキング密度０．８５以下の薄膜を使用する。 - 特許庁

An antireflection film (a dielectric multilayer film) 31, a light absorbing film (a chalcopyrite film) 32 and a wavelength selecting film (another dielectric multilayer film) 33 are layered between prism glasses 12 and 13 constituting the color resolving prism 10 to form the dichroic filter 30 and the wavelength selection film 33 is stuck to the prism glass 13 by an adhesive layer (a UV adhesive) 34.例文帳に追加

色分解プリズム１０を構成するプリズムガラス１２と１３間に、反射防止膜（誘電体多層膜）３１、光吸収膜（カルコパイライト膜）３２および波長選択膜（誘電体多層膜）３３を積層してダイクロイックフィルタ３０を形成し、接着層（ＵＶ接着剤）３４によって接着する。 - 特許庁

In the electroluminescence display device, a metal thin film having light transmission properties, such as, for example, calcium, lithium, etc. is formed on upper surfaces of an organic compound layer 22 and a partition wall 21 in a cathode 23, and an antireflection film having optical absorptivity is formed to prevent the outdoor light from being reflected on the upper surface of the metal thin film.例文帳に追加

陰極２３は、有機化合物層２２及び隔壁２１の上面に、例えばカルシウムやリチウム等の光透過性のある金属薄膜が形成されていて、前記金属薄膜の上面には外光の反射を防止するために光吸収性のある反射防止膜が形成されている。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material for a multilayer resist process, particularly for a two-layer resist process, which functions as an excellent antireflection film particularly for exposure at a short wavelength, that is, has high transparency and the optimum n and k values and is excellent also in etching resistance during substrate processing.例文帳に追加

多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁

The antireflection film includes a low-refractive-index layer obtained by curing a composition containing a fluorine-containing copolymer of a specific chemical structure which contains a polymerized unit containing a (meth)acryloyl group and a polymerized unit containing a hydroxyl group, and a polysiloxane compound containing a reactive organic functional group.例文帳に追加

（メタ）アクリロイル基含有する重合単位及び水酸基を含有する重合単位を含む特定化学構造の含フッ素共重合体及び、反応性有機官能基含有ポリシロキサン化合物を含有する組成物を硬化させて得られる低屈折率層を含むことを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The antireflection film comprises a cellulose ester film and at least a hard coat layer deposited on the film, wherein the cellulose ester film is formed by solvent casting film formation of a cellulose ester doped composition containing an ethylenically unsaturated monomer and/or an ethylenically unsaturated monomer having a functional group, and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

エチレン性不飽和モノマー及び／または官能基を有するエチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含有するセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜することにより形成されるセルロースエステルフィルムの上に、少なくともハードコート層を積層してなることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

An ND filter 10 which forms a nonreflective cycle layer 23 made of a large number of minute rugged cyclic structures 21 at an imaging element side on a substrate 11 and forms an ND film 15 at the other side of the substrate 11, is placed in a photographic optical system of the camera to improve the antireflection function.例文帳に追加

カメラの撮影光学系内にＮＤフィルタ１０を配置し、このＮＤフィルタ１０は基板１１上の撮像素子側に多数の微細凹凸周期構造体２１による無反射周期層２３を形成し、基板１１の他面にＮＤ膜１５を成膜することにより、反射防止機能を向上させる。 - 特許庁

At least on one surface from among the face opposed to the touch panel 3 of the protective plate 17, the face opposite to the protective plate 17 of the touch panel 3, the face opposite to the liquid crystal panel 2 of the touch panel 3, and the face opposite to the touch panel 3 of the liquid crystal panel 2, an antireflection film 26 is provided without having an air layer.例文帳に追加

保護板１７のタッチパネル３に対向する面、タッチパネル３の保護板１７に対向する面、タッチパネル３の液晶パネル２に対向する面、及び液晶パネル２のタッチパネル３に対向する面の少なくとも１つの表面上には、空気層を有することなく反射防止膜２６が設けられる。 - 特許庁

The infrared detector comprises a GaAs substrate 10, a multiple quantum well layer 14 formed thereon, and an antireflection film 24 formed on the rear surface of the GaAs substrate in order to reduce reflectance for infrared rays of 8-12 μm to 1% or below at the time of normal incidence.例文帳に追加

ＧａＡｓ基板１０と、ＧａＡｓ基板１０上に形成された多重量子井戸層１４と、ＧａＡｓ基板の裏面に形成され、波長が８〜１２μｍの赤外線に対する垂直入射時の反射率を１％以下に低減する反射防止膜２４とにより赤外線検出器を構成する。 - 特許庁

Further, the element has a plurality of second conductivity-type semiconductor layers (53A, 53B) formed in the first conductivity-type semiconductor substrate (52) or the semiconductor layer and separated at the isolation region (55), and an antireflection film (57) formed on a light-receiving region (61), including the isolation region and a plurality of second conductivity-type semiconductor layers.例文帳に追加

また、第１導電型の半導体基板（５２）または半導体層に形成され、分離領域（５５）で分離された複数の第２導電型の半導体層（５３Ａ，５３Ｂ）と、分離領域及び複数の第２導電型の半導体層を含む受光領域）６１）上に形成された反射防止膜（５７）を有する。 - 特許庁

To solve the problem that, when a conventional antireflection material is applied, it takes a long time to form a transparent electrically conductive thin film and a low refractive index layer resuling in low working speed, the corrosion resistance of the transparent electrically conductive thin film is not satisfactory and reflectance in the whole visible light region is not constant.例文帳に追加

従来の反射防止材を適用しようとすると、透明導電性薄膜および低屈折率層形成に時間がかかり、加工速度が遅かった点、透明導電性薄膜の耐腐食性が十分でなかった点、および可視光全域での反射率が一定しない点を解消しようとするものである。 - 特許庁

An antireflection film comprises plural layers, at least one layer of which is an optical thin film composed of a structure having plural fine tubular spaces, and all tubular spaces of the optical thin film are arranged in parallel in tangential plane vertical direction of a substrate.例文帳に追加

複数の層からなる反射防止膜であって、該複数層のうち少なくとも一層が、複数の微細な管状空間を有する構造体からなる光学薄膜であって、前記光学薄膜が有する全ての管状空間が基板の接平面垂直方向において平行に配列されていることを特徴とする構成とした。 - 特許庁

To provide an excellent polyester film having satisfactory optical characteristics for use as a substrate of an antireflection film, excellent also in handleability, lubricity and windability after both side processing, and capable of preventing deterioration due to scratching and peeling of a functional layer even in the absence of a protective film or the like.例文帳に追加

反射防止膜の基材として使用するのに十分な光学特性を有し、かつポリエステルフィルムの両面加工後の取り扱い性、滑り性、巻き取り性にも優れ、保護フィルム等の存在がなくてもキズ、機能層の剥がれの発生等による品質低下を防止できる優れたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The antireflection film has on the surface of a plastic film substrate 1 a cured coating layer 2 of a coating material composition consisting essentially of a silicone resin comprising a partial hydrolyzate and/or a hydrolyzate of a hydrolyzable organosilane and fine hollow silica particles of 5 nm to 2 μm average particle diameter with a hollow formed in an outer shell.例文帳に追加

プラスチックフィルム基材１の表面に、加水分解性オルガノシランの部分加水分解物及び／又は加水分解物からなるシリコーンレジンと、平均粒子径が５ｎｍ〜２μｍで且つ外殻の内部に空洞が形成された中空シリカ微粒子とを必須成分とするコーティング材組成物の硬化被膜層２を備える。 - 特許庁

The peeling strength is improved by eliminating the antireflection film on the surface of the foundation of the collimator lens 1, using the acrylic ultraviolet setting type adhesive 3 as the adhesive, and roughening a joined surface 13 on the collimator lens side relative to the mount layer of the acrylic ultraviolet setting type adhesive 3 so that joining area can be increased.例文帳に追加

コリメータレンズ１の素地の表面の反射防止膜を省略し、接着剤にアクリル系紫外線硬化型接着剤３を用いると共に、そのアクリル系紫外線硬化型接着剤３のマウント層に対するコリメータレンズ側の接合面１３を粗面化して接合面積を増大させ、剥離強度を改善する。 - 特許庁

The antireflection film for transfer is disposed on a strippable support and has at least one low refractive index layer, wherein the low refractive index layer comprises hollow silica fine particles which include cavities therein, fine silica particles and binder, and the weight ratio of binder content for the weight of the hollow silica fine particles and fine silica particles is 0.1 to 0.8.例文帳に追加

剥離可能な支持体上に設けられた少なくとも１層の低屈折率層を有する転写用反射防止フィルムであって、前記低屈折率層は内部に空洞を有する中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子およびバインダーとを含み、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の重量に対して、バインダーが重量比で０．１以上０．８以下であることを特徴とする転写用反射防止フィルム。 - 特許庁

A method for producing the antireflection laminate having the antifouling layer includes a process in which a curable composition containing particles coated with a protective film is applied directly or via another layer on the transparent substrate, and the paint film is heated at 60-150°C for 1-5 min and irradiated with ultraviolet rays of 100-600 mW in an accumulated quantity of light of 300-700 mJ/cm^2.例文帳に追加

透明基材上に直接またはその他の層を介して、保護膜によって被覆されている微粒子とバインダーとを含有する硬化性組成物を塗布し、該塗膜に温度６０〜１５０℃で１〜５分間加熱し、次いで紫外線を１００〜６００ｍＷで、積算光量として３００〜７００ｍＪ／ｃｍ^２照射することを含む、防汚層を有する反射防止積層体の製造方法。 - 特許庁