「antireflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

A composition comprising a compound having a cationically polymerizable functional group in a molecule and silica fine particle is cured onto the surface of the scratch resistant layer and, thereby, the antireflection layer is formed.例文帳に追加

この耐擦傷性層の上に、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物と、シリカ微粒子とを含む組成物を硬化させることにより、反射防止層を形成する。 - 特許庁

In particular, a preferable antireflection optical article of the invention is obtained by controlling the vacuum degree by using an inert gas in the film deposition process and by depositing the film at a low vacuum degree.例文帳に追加

特に、成膜において不活性ガスを用いて真空度を調整し、低真空度で成膜することにより、好適な本発明の反射防止光学物品を得ることができる。 - 特許庁

To obtain a GaAs based infrared detector utilizing quantum well structure in which an antireflection film suitable for infrared rays in 8-12 μm band is provided.例文帳に追加

量子井戸構造を利用したＧａＡｓ系の赤外線検出器に関し、８〜１２μｍ帯の赤外線に対して好適な反射防止膜を有する赤外線検出器を提供する。 - 特許庁

The semiconductor light emitting device 1 comprises a semiconductor light emitting device 2a having first and second end surfaces 3a, 3b, and an antireflection film 5a provided at the first end surface 3a.例文帳に追加

半導体発光デバイス１は、第１及び第２の端面３ａ、３ｂを有する半導体発光デバイス部２ａと、第１の端面３ａに設けられた反射防止膜５ａと、を備える。 - 特許庁

The optical element has an antireflection function and is provided with a substrate and many structures which are arranged on the surface of the substrate, at a fine pitch which is shorter than the wavelength of visible light, and where each of which includes protrusions or recesses.例文帳に追加

光学素子は、反射防止機能を有し、基体と、基体の表面に可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部または凹部からなる構造体とを備える。 - 特許庁

Antireflection films 14 consisting of inorganic halogenide are formed on both surfaces of a glass base material 12, a silica film 16 is formed only on a surface of one antireflection film 14 and a monomolecular film 18, which is consisting of a compound containing perfluoroalkyl group via a siloxane bonding or a polysiloxane-containing compound and which has water repellency, is formed to constitute optical glass.例文帳に追加

ガラス基材１２の両表面に無機ハロゲン化物からなる反射防止膜１４が形成され、その一方の反射防止膜１４の表面のみにシリカ膜１６が形成され、このシリカ膜の表面にシロキサン結合を介してパーフルオロアルキル基又はポリシロキサン含有化合物からなる撥水性を有する単分子膜１８が形成された光学ガラスとする。 - 特許庁

The antistatic layer and the antireflection layer are successfully formed on the light control layer 2 by satisfactorily dispersing the conductive oxide nanoparticles in the second ink having affinity to the first ink, and the yield in a manufacturing process of the optical filter is improved by suppressing the occurrence of cracks in the antistatic layer and the antireflection layer when hardening these layers by heat.例文帳に追加

第１のインクと親和性のある第２のインクに導電性酸化物ナノ粒子を良好に分散させることにより、調光層２上に良好に帯電防止層、反射防止層を形成でき、帯電防止層、反射防止層の熱硬化の際にこれら層に割れが生じることを抑えて光学フィルタの製造工程での歩留を改善することができる。 - 特許庁

Relating to the antireflection film or sheet obtained by laminating a hard coat layer and an antireflection thin film layer consisting essentially of a metal alkoxide and its hydrolyzate on at least one face of a substrate, the elastic modulus of the hard coat layer under its breaking strain or below is set in the range of 0.7-5.5 GPa.例文帳に追加

基材の少なくとも一方の面に、ハードコート被膜層と金属アルコキシドおよびその加水分解物を主成分とする反射防止薄膜層を積層してなる反射防止フィルム若しくはシートに於いて、上記ハードコート層の破壊歪み以下での弾性率が０．７ＧＰａから５．５ＧＰａの範囲で設定されていることを特徴とする反射防止フィルムもしくはシートを提供する。 - 特許庁

A solid-state image sensor includes a semiconductor substrate on which a plurality of photoelectric conversion elements are arrayed like a two-dimensional array and a plurality of photoelectric conversion elements per predetermined area are included and an antireflection film wherein at least one photoelectric conversion element (e.g., R pixel) per predetermined area is laminated on a light receiving surface of the semiconductor substrate as an antireflection film removing element.例文帳に追加

複数の光電変換素子が二次元アレイ状に配列形成され所定面積当たり複数個の前記光電変換素子を含む半導体基板と、前記所定面積当たり少なくとも１個の前記光電変換素子（この例ではＲ画素）を反射防止膜除去素子として前記半導体基板の受光面に積層される反射防止膜とを備える。 - 特許庁

To provide a composition for an antireflection coating which prevents lowering of the dimensional accuracy of a pattern caused by interference of multiply reflected light in a photoresist film and enables formation of a resist pattern free of deterioration in the pattern shape such as T-top or round top shape adverse to an etching process caused chiefly by intermixing of a chemically amplified resist and an antireflection film.例文帳に追加

フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なＴ−トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。 - 特許庁

The vapor deposition of the water-repellent thin film is carried out by heating and vaporizing a fluorine-containing organic silicon compound under the condition that the temperature of the plastic optical member does not exceed the maximum temperature of the plastic optical member in the preceding vapor deposition for the antireflection film, and then by depositing the vaporized fluorine-containing organic silicon compound on the plastic optical member having the antireflection film.例文帳に追加

撥水性薄膜の蒸着は、フッ素含有有機ケイ素化合物を、プラスチック製光学部材の温度が前記反射防止膜蒸着の際のプラスチック製光学部材の最大温度を超えない条件下で加熱して蒸発させ、蒸発したフッ素含有有機ケイ素化合物を前記反射防止膜を有するプラスチック光学部材上に付着させることにより行われる。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing resin composition efficiently forming a periodic uneven microstructure having excellent optical characteristics and stain resistance and an optical article suitably used in various optical applications such as an antireflection coating, an antireflection film, an optical waveguide, a relief hologram, a lens, an optical card, an optical disk and a polarizing separation element and to provide an image display device using the optical article.例文帳に追加

光学特性及び耐汚染性に優れた周期的微細凹凸構造を効率よく形成することができるフッ素含有樹脂組成物、及び反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子等の種々の光学的用途に好適に用いられる光学物品、並びに該光学物品を用いた画像表示装置の提供。 - 特許庁

The photomask blank is also disclosed which has at least a light shielding film containing Cr and an antireflection film consisting of two or more layers on a substrate, wherein the antireflection film is composed of at least a layer of film having high transmittance at the exposure wavelength, and a layer of film having the transmittance lower than the above transmittance at the exposure wavelength and having higher transmittance at the inspection wavelength than at the exposure wavelength.例文帳に追加

および、フォトマスクブランクであって、少なくとも基板上に、Ｃｒを含む遮光膜と、２層以上から成る反射防止膜を具備し、前記反射防止膜が、少なくとも、露光波長で透過率が高い膜の層と、露光波長でこれより透過率が低く、検査波長で露光波長より透過率が高い膜の層から構成されているフォトマスクブランク。 - 特許庁

To provide the composition of an antireflection film material for a photoresist which enables the formation of an antireflection film having high absorbance with respect to light of wavelengths used for exposure and the reduction in the adverse effect of standing waves caused by the reflection from a substrate, to improve the limit resolving power of the photo resist and to obtain a good resist profile and also to provide a resist pattern forming method using the composition.例文帳に追加

露光に用いられる波長の光に対して吸光度が高い反射防止膜が形成され、基板からの反射により発生する定在波の悪影響を低減することができ、その結果、フォトレジストの限界解像力が向上し、良好なレジストプロファイルが得られるフォトレジスト用反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成法を提供すること。 - 特許庁

An antireflection film Tf1 corresponding to the wavelength of the incident light is applied on the surface of the planer optical device c1 joined to the entrance side of the light of the CLBO crystal nc, while an antireflection film Tf2 corresponding to at least the wavelength of the wavelength converted light is applied on the surface of the planer optical device c2 joined to the exit side of the light of the CLBO crystal nc.例文帳に追加

また、ＣＬＢＯ結晶ｎｃの光入射側に接合されている平板状光学素子ｃ１の表面に入射光の波長に対応した反射防止膜Ｔｆ１を設け、ＣＬＢＯ結晶ｎｃの光出射側に接合されている平板状光学素子ｃ２の表面に少なくとも波長変換光の波長に対応した反射防止膜Ｔｆ２を設ける。 - 特許庁

The photomask comprises a transparent substrate 1, an antireflection structure formed by successively laminating a chromium oxide film 3, a chromium film 4 and a chromium oxide film 5 on the principal face side of the substrate 1, an LiF film 2 as an antireflection film formed on the interface between the chromium oxide film 3 and the substrate 1 and a spin-on glass film 6 formed on the surface of the chromium oxide film 5.例文帳に追加

透明基板１と、この透明基板１の主面側に、酸化クロム膜３、クロム膜４及び酸化クロム膜５順次積層して形成された反射防止構造と、酸化クロム膜３表面であって透明基板１との界面に形成された反射防止膜としてのＬｉＦ膜２と、酸化クロム膜５表面に形成されたスピンオングラス膜６から構成される。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical element including forming of the optical element of a desired shape by pressing a forming workpiece softened by heating by means of forming dies, and depositing the antireflection film on the surface of the obtained optical element, the optical element of ≥60 mJ/m^2 in surface free energy is subjected to the deposition of the antireflection film by UV ozone cleaning or plasma cleaning.例文帳に追加

加熱軟化した成形素材を成形型により加圧成形して、所望の形状の光学素子を成形し、得られた光学素子の表面に反射防止膜を成膜することを含む光学素子の製造方法であって、反射防止膜の成膜を、ＵＶオゾン洗浄又はプラズマ洗浄することにより表面自由エネルギーが60mJ/m^2以上である光学素子に対して行う。 - 特許庁

The antireflection film 100 comprises a hard coat layer2, two or more primer layers 3, 4, and an antireflection layer 5 sequentially laminated on a transparent substrate film 1 and is such that the two or more primer layers 3, 4 are comprises a metal, a metal compound single body, or a mixture thereof, and the two or more primer layers 3, 4 have compositions different from one another.例文帳に追加

透明基材フィルム１上に、ハードコート層２、２層以上のプライマー層３，４、反射防止層５を順次積層した反射防止フィルム１００であって、該２層以上のプライマー層３，４が、金属あるいは金属化合物単体もしくは混合物よりなり、かつ、該２層以上のプライマー層３，４が、異なる組成であることを特徴とする反射防止フィルム１００。 - 特許庁

Dome-shaped microlenses 2 are formed on a flattened layer 3, and the constituting materials of an antireflection film 1 are made to come flying in two or more different directions to the microlenses 2, or the constituting materials are made to come flying in directions, continuously moving within a range, in which the normal direction of the flattened film is not included, so that the antireflection film 1 is formed.例文帳に追加

平坦化層３上にドーム形状のマイクロレンズ２を形成し、このマイクロレンズ２上に、互いに異なる２以上の方向から反射防止膜１の構成材料を飛来させることにより、あるいは平坦化膜の法線方向を含まない範囲内を連続的に移動する方向から構成材料を飛来させることにより、反射防止膜１を形成する。 - 特許庁

The dual beam optical apparatus is provide with a laser diode 11 for producing laser beams, a convex lens 12 on which antireflection coating is applied and the laser beam produced by the laser diode 11 is made incident and a concave lens 13 having no antireflection coating on which the laser beam passed through the convex lens 12 is made incident and which forms penetrating main beams 14 and ghost beams 15 by reflection.例文帳に追加

本発明は、レーザビームを発生するレーザダイオード１１と、レーザダイオード１１から発生したレーザビームが入射される反射防止コーティングを施した凸レンズ１２と、凸レンズ１２を透過したレーザビームが入射され、透過する主ビーム１４と反射によるゴーストビーム１５を形成する反射防止コーティングの無い凹レンズ１３とを具備することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an antireflection film which can provide improved manufacturing efficiency by forming a multilayer structure with two or more layers in one application step, an antireflection film obtained by the manufacturing method, which is excellent in adhesion and scratch resistance (particularly scratch resistance after saponification), and a coating composition used for forming the multilayer structure.例文帳に追加

１度の塗布工程で２層以上の多層構造を形成することにより製造効率を向上させることができる反射防止フィルムの製造方法、該製造方法により得られる密着性、耐擦傷性（特にケン化後の耐擦傷性）の観点で優れた反射防止フィルム、並びに前記多層構造を形成するために用いられる塗布組成物を提供すること。 - 特許庁

A hard coat layer, a transparent electrically conductive layer with fine particles comprising one or more metals, at least one transparent antireflection layer having a refractive index different from that of the electrically conductive layer and an antifouling layer formed as the outermost layer are successively disposed on a high elasticity transparent substrate of polyethylene naphthalate or the like to obtain the objective antireflection transparent electrically conductive laminated film.例文帳に追加

ポリエチレンナフタレート等の高弾性の透明基材上に、順次、ハードコート層、１種以上の金属からなる微粒子を有する透明導電層、この透明導電層の屈折率と異なる屈折率を有する少なくとも１層の透明性反射防止層、及び最外層に形成された防汚層を設けた反射防止透明導電性積層フイルム。 - 特許庁

The optical filter has a substrate 3a of absorbing infrared rays, an infrared ray cutting layer 5a formed on one side surface of the substrate 3a, of reflecting infrared rays, and an antireflection layer 7 formed on the other side surface of the substrate, wherein the infrared ray cutting layer 5a and the antireflection layer 7 has a multilayer structure made by laminating a plurality of thin film layers having different refractive indexes.例文帳に追加

赤外線を吸収する基板３ａと、基板３ａの一方の面に形成された赤外線を反射する赤外線カット層５ａと、基板の他方の面に形成された反射防止層７と、を有し、赤外線カット層５ａおよび反射防止層７が、屈折率の異なる複数の薄膜層を積層した多層構造からなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a light absorbing antireflection glass substrate of which, surface resistance before and after heat treatment varies little from each other, when heat-treated during cathode ray picture tube manufacturing process, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

陰極線管作製工程中の熱処理を施しても、熱処理前後で表面抵抗値の変化が少ない光吸収性反射防止ガラス基体とその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an antireflection film and a polarizer excellent in contamination resistance, contamination-resistant durability, and scratch resistance, and to provide an optical information recording medium excellent in the characteristics and in recording characteristics.例文帳に追加

防汚性と防汚耐久性、耐擦傷性に優れた反射防止フィルム及び偏光板を提供し、かつ上記特性と共に記録特性に優れた光情報記録担体を提供する。 - 特許庁

By the lowering in the packing ratio of the coating, peeling or the like are prevented, also, the refractive index of the coating lowers, and its loss when being used as a reflective coating or an antireflection coating can be suppressed to the minimum.例文帳に追加

膜の充填率の低下により剥離等が防止されるとともに、膜の屈折率が低下し、反射膜又は反射防止膜として用いられた場合の損失を最小限に抑えることができる。 - 特許庁

To provide an antireflection member which has excellent transparency and scratch resistance, good adhesion at a high temperature and high humidity, antistatic properties, and antireflective properties and achieves both the reduction of an iris pattern and image visibility.例文帳に追加

優れた透明性、耐擦傷性、高温高湿下における良好な接着性、帯電防止性、反射防止性、虹彩模様の低減、画像視認性を同時に付与した反射防止部材を提供する。 - 特許庁

To provide an antireflection film which is arranged on the surface of a substrate whose refractive index is the same as that of the film, and capable of adjusting a reflectance, where the reflectance of almost zero is increased by shifting an incident position.例文帳に追加

屈折率が同一の基板表面に設けられ略ゼロに近い反射率が入射位置をずらすことで僅かに増加する反射率調整可能な反射防止膜などを提供する。 - 特許庁

The problems are solved by forming at least one layer of layers consisting of the antireflection film by deposition of a low-refractive index material at an incident angle of ≥60° by a physical method.例文帳に追加

反射防止膜を構成する層の少なくとも１層を、低屈折率物質を物理的な方法で入射角６０゜以上で成膜し、低屈折率化した層とすることにより課題を解決した。 - 特許庁

To obtain a curable resin composition capable of forming cured films excellent in clarity, low in refractive index and, in addition, excellent in mar resistance and anti-fouling properties, and an antireflection film by using the cured film.例文帳に追加

透明性に優れ、低屈折率であり、しかも耐擦傷性および防汚性に優れた硬化膜が形成される硬化性樹脂組成物および当該硬化膜による反射防止膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a polarization conversion optical system which is attained at a low cost, dispensing with an expensive polarized beam splitter, and also, in a state where required antireflection coating is comparatively little.例文帳に追加

高価な偏光ビームスプリッタを必要とすることなく、かつ、必要とされるアンチ反射コーティングが比較的少ない状態で低コストで提供できる偏光変換光学システムを提供すること。 - 特許庁

The antireflection member comprises a plurality of cones which have a protrusion formed on a substrate surface with transparency and having a flat surface on its top, and a dust-proof layer formed on the flat surface of the protrusion.例文帳に追加

透光性を有する基材面に形成され、頂部が平坦面を有する凸部と、前記凸部の前記平坦面上に形成された防塵層と、を有する錐体を複数備えた。 - 特許庁

To provide a curable resin composition used for forming a coating layer excellent in low refractive index, stainproof property, water repellency, scratch resistance, chemical resistance and smoothness, and to provide an antireflection film using the same.例文帳に追加

低屈折率、防汚性、撥水性、耐擦傷性、耐薬品性、平滑性に優れたコーティング層を形成するために用いられる硬化性樹脂組成物、及びそれを用いた反射防止フィルムの提供にある。 - 特許庁

To provide an antireflection member and a method for producing the member by which a stain-proofing layer easy to clean and excellent in durability can easily be formed in a uniform thickness on only one face of a transparent substrate.例文帳に追加

汚染物の除去が容易で耐久性に優れた防汚層を透明基板の片面のみに均一な膜厚で容易に形成することができる反射防止部材とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The cover plate 18 comprises a transparent substrate 21 that transmits at least light of a visible light region, and antireflection layers 22 and 22 that are provided on one surface 21a and the other surface 21b of the substrate 21 respectively.例文帳に追加

このカバープレート１８は、少なくとも可視光域の光を透過させる透明な基板２１と、この基板２１の一面２１ａ、他面２１ｂにそれぞれ設けられる反射防止層２２，２２とからなる。 - 特許庁

The polyester film for an antireflection film has a surface roughness Ra of at least one side in a range of 10-25 nm, a surface roughness Rt in a range of 50-500 nm and a haze value of ≤10%.例文帳に追加

少なくとも片側の表面のＲａが１０〜２５ｎｍの範囲であり、Ｒｔが５０〜５００ｎｍの範囲であり、ヘーズ値が１０％以下であることを特徴とする反射防止フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transparent conductive material in which reduction in conductivity can be suppressed by exhibiting antireflection superior against the external light and suppressing an increase in a surface resistance value.例文帳に追加

外光に対する優れた反射防止性能を発揮し、且つ、表面抵抗値の増加を抑え、導電性の低下を抑制することが可能な透明導電材を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

A pattern of a light shielding film is formed on a light transmissive substrate and such an antireflection film as to adjust reflectance to the wavelength of light for exposure to ≤25% is formed on at least the lateral faces of the light shielding film.例文帳に追加

また、光透過性基板に遮光膜のパターンを形成し、この遮光膜の少なくとも側面に露光波長に対する反射率が２５％以下となるような反射防止膜を形成する。 - 特許庁

To provide an optical element which has excellent durability in the practical use as well as excellent antireflection property, heat resistance, chemical resistance and mechanical strength, and to provide a manufacture method of the optical element.例文帳に追加

本発明の目的は、反射防止特性と耐熱、耐薬品性、そして機械的強度はもちろん、実使用時の耐久性に優れた光学素子及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Since the hard coat layer contains the ultraviolet absorption agent, the antireflection film is excellent in weather (light) resistance, there is no problem of ultraviolet degradation for a long term use and good appearance and good performance can be maintained for a long time.例文帳に追加

ハードコート層が紫外線吸収剤を含むため、耐候（光）性に優れ、長期使用による紫外線劣化の問題はなく、良好な外観、性能を長期に亘り維持することができる。 - 特許庁

An adjustment back-face electrode layer 12 is formed on a substrate 11, and thereon, a light absorbing layer 13, a buffer layer 14, a window layer 15, a transparent electrode layer 16, and an antireflection layer 17 are laminated successively.例文帳に追加

基板１１上に調整背面電極層１２を形成し、その上に光吸収層１３、バッファ層１４、窓層１５、透明電極層１６および反射防止層１７を順次積層する。 - 特許庁

The optical filter 43 is formed in an outgoing light passage region where reflected light from the optical filter 41 on the first surface 31a is passable and the antireflection film 50 is not formed in the said region.例文帳に追加

光学フィルタ４３は、第１面３１ａ上の光学フィルタ４１からの反射光が通過する出射光通過領域に形成され、該領域には反射防止膜５０は形成されていない。 - 特許庁

Since the antireflection layer 79c is provided, for example, it is prevented that the stray light is reflected from the second negative electrode layer 79b made of Al to form the ghost spot in the image carrier.例文帳に追加

反射防止層７９ｃを設けることにより、例えばＡｌで形成されている陰極第２層７９ｂから迷光が反射されて、像担持体にゴーストスポットが形成されることを防止する。 - 特許庁

A temperature gradient is generated in the semiconductor film by the heat keeping effect of the base insulating film, the heat keeping effect of the first insulating layer and the antireflection effect and heat keeping effect of the second insulating layer.例文帳に追加

前記下地絶縁膜の保熱効果、前記第１の絶縁層の保熱効果、前記第２の絶縁層の反射防止効果および保熱効果によって前記半導体膜において温度勾配が生じる。 - 特許庁

A surface antireflection film 43 has a region C mainly comprising an SiO_2 film 43a on the side of a substrate 41, and a region D mainly comprising an MgF_2 film 43b on an outermost surface side.例文帳に追加

表層反射防止膜４３は、基板４１側においてＳｉＯ_2膜４３ａを主とする領域Ｃ、最表層側においてＭｇＦ_2膜４３ｂを主とする領域Ｄが形成されている。 - 特許庁